WATANABE Junji 渡邉純二

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渡邊純二ワタナベジュンジ

渡辺純二ワタナベジュンジ

JUNJI Watanabe 渡邉純二

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Researcher Number	40281076
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Affiliation (based on the past Project Information) *help	2006 – 2008: 熊本大学, 大学院・自然科学研究科, 教授 2006: Kumamoto University, Graduate School of Science and Technology, Professor, 自然科学研究科, 教授 2002 – 2005: 熊本大学, 工学部, 教授 1999 – 2000: 熊本大学, 大学院・自然科学研究科, 教授 1998: 熊本大学, 工学部, 教授
Review Section/Research Field	Principal Investigator 機械工作・生産工学 / Material processing/treatments Except Principal Investigator Production engineering/Processing studies / Thin film/Surface and interfacial physical properties / 機械工作・生産工学
Keywords	Principal Investigator Surface roughness / X-ray photo spectroscopy / Diamond single crystal / Silicon carbide single crystal / GaAs semiconductor / Quartz plate / TiO_2 photocatalyst / Polishing machine with UV rays / FT-IR分析 / 分子動力学シミュレーション … More / 研磨加工 / 酸化膜 / SiC単結晶 / 紫外光線 / TiO_2固体光触媒 / 表面粗さ / XPS分析 / ダイヤモンド単結晶 / SiC単結晶基板 / GaAs基板 / 石英基板 / TiO2光触媒 / 紫外光照射研磨装置 / LARGE DIAMETER WAFER / THIN-SURFACE-GRINDING / COPPER METAL LINE / FINITE ELEMENT METHOD / CHEMICAL MECHANICAL POLISHING / PLANARIZATION POLISHING / VERY LARGE SCALE INTEGRATED SURFACE / SEMICONDUCTOR SUBSTRATE / 研削 / 研磨パッド / シート砥石 / 加工ひずみエネルギー / SG砥石 / 大口径ウエハ / 極表層研削 / Cu配線膜 / 有限要素法解析 / CMP / 平坦化研磨 / 超LSI / 半導体基板 … More Except Principal Investigator Zn_<1-x>Mg_xO / ZnO / GaN / light emitting diodes / attenua ted total reflection / oblique-incidence infrared reflection / surface polariton / hetero-reststrahlen band / 光学フォノン / サファイア基板 / Gan / シート電子密度 / 結晶品位 / 薄膜 / ZnMgO / 光ダイオード / 全反射減衰 / 斜入射赤外反射 / 表面ポラリトン / ヘテロ残留線 / Lithium niobate / Barium titanate substrate / Polishing / Lapping / Abrasive processing / Ultra thinning technology / Quartz substrate / Multifunctional device substrate / シリコンウェハ / 水晶振動子 / ニオブ酸リチウム / チタン酸バリウム / ポリシング / ラッピング / 砥粒加工 / 超薄型化加工 / 水晶基板 / 多機能デバイス基板 / ベーパーチャンバー / 薄刃砥石 / 微細溝加工 / 親水性(ぬれ性) / ヒートパイプ / CPU冷却 / 超硬メタルソー / ダイシングマシン / 新型熱拡散デバイス / ダイサー / 親水性 / 毛細管力 / メタルソー / 反り / 精密加工 / 薄型ヒートシンク / 放熱板 / マイクロ溝 / 導電性 / 超音波 / ディップ法 / 傷付け処理 / 基板前処理 / ダイヤモンド核生成密度 / ラマン分光 / 精密研磨技術 / 核生成密度 / シリコン基板 / 前処理技術 / プラズマCVD / 細線化 / CVDダイヤモンド膜 Less

Development of precision processing technology for ultra-fine heat radiation fin with high performance, and its application
- Principal Investigator
  
  TOUGE Mutsumi
- Project Period (FY)
  2007 – 2008
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Production engineering/Processing studies
- Research Institution
  Kumamoto University
導電性CVDダイヤモンド薄膜の微細線化技術の開発
- Principal Investigator
  
  TOUGE Mutsumi
- Project Period (FY)
  2005 – 2006
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Exploratory Research
- Research Field
  
  Production engineering/Processing studies
- Research Institution
  Kumamoto University
Characterization of lattice quality of widegap-semiconductor films by hetero-reststrahlen reflection and attenuated total reflection spectroscopies
- Principal Investigator
  
  KURODA Noritaka
- Project Period (FY)
  2005 – 2006
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Thin film/Surface and interfacial physical properties
- Research Institution
  Kumamoto University
Development of ultra-precision processing technology of novel semiconductor substrate applied to devices with nano-structurePrincipal Investigator
- Principal Investigator
  
  WATANABE Junji
- Project Period (FY)
  2002 – 2004
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
- Research Field
  
  機械工作・生産工学
- Research Institution
  Kumamoto University
Development of Ultra Thinning Technology of Multifunctional Device Substrates by Abrasive Processing
- Principal Investigator
  
  TOUGE Mutsumi
- Project Period (FY)
  2002 – 2003
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- Research Field
  
  機械工作・生産工学
- Research Institution
  Kumamoto University
HIGH PRECISION-PLANARIZATION WITH CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING FOR LARGE DIAMETER SEMICONDUCTOR SUBSTRATEPrincipal Investigator
- Principal Investigator
  
  JUNJI Watanabe
- Project Period (FY)
  1998 – 2000
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Material processing/treatments
- Research Institution
  KUMAMOTO UNIVERSITY

All 2007 2006 2005 2004 2003 2002

All Journal Article Presentation Book Patent

[Book] CMPの実践的基礎技術(石井久男)2004
- Author(s)
  渡邊純二
- Total Pages
  86
- Publisher
  EDリサーチ社
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Book] CMPの実践的基礎技術2004
- Author(s)
  渡邉純二
- Total Pages
  86
- Publisher
  EDリサーチ社石井久男
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Infrared Study on Graded Lattice Quality in Thin GaN Crystals Grown on Sapphire2006
- Author(s)
  N.Kuroda, T.Kitayama, Y.Nishi, K.Saiki, H.Yokoi, J.Watanabe, M.Cho, T.Egawa, H.Ishikawa
- Journal Title
  
  Jpn. J. Appl. Phys. Vol.45 No.2A
  
  Pages: 646-650
- NAID
  40007140203
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2006
- Author(s)
  大久保誠史, 財部剛, 竹下温, 峠睦, 渡邉純二
- Journal Title
  
  平成18年度精密工学会九州支部福岡地方講演会
  
  Pages: 403-404
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17656054
[Journal Article] Takashi Egawa and Hiroyasu Ishikawa Infrared study on graded lattice quality in thin GaN crystals grown on sapphire2006
- Author(s)
  Noritaka Kuroda, Takuya Kitayama, Yohei Nishi, Kazuya Saiki, Hiroyuki Yokoi, Junji Watanabe, Meoungwham Cho
- Journal Title
  
  Japanese Journal of Applied Physics vol.45-No.2A
  
  Pages: 646-650
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17560024
[Journal Article] 高品質パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2006
- Author(s)
  竹下温, 渡邉純二, 峠睦, 財部剛, 大久保誠史, 清田英夫
- Journal Title
  
  日本機械学会2006年度年次大会講演論文集 06-1
  
  Pages: 175-176
- NAID
  130004657167
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17656054
[Journal Article] Infrared Study on Graded Lattice Quality in Thin GaN Crystals Grown on Sapphire2006
- Author(s)
  N.Kuroda, T.Kitayama, Y.Nishi, K.Saiki, H.Yokoi, J.Watanabe, M.Cho, T.Egawa, H.Ishikawa
- Journal Title
  
  Jpn.J.Appl.Phys. Vol.45 No.2A
  
  Pages: 646-650
- NAID
  40007140203
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 高品質ダイヤモンドCVD膜の精密加工と膜物性の評価2005
- Author(s)
  竹下温, 峠睦, 渡邉純二, 大久保誠史, 清田英夫
- Journal Title
  
  第20回熊本県産学官技術交流会講演論文集
  
  Pages: 142-143
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17656054
[Journal Article] Infrared characterization of GaN films grown on sapphire by MOCVD2005
- Author(s)
  N.Kuroda, K.Saiki, Hasanudin, J.Watanabe, M.W.Cho
- Journal Title
  
  Proc. 27th International Conference on the Physics of Semiconductors, Part A
  
  Pages: 281-282
- NAID
  120002468436
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17560024
[Journal Article] The atomic scale removal mechanism during chemomechanical polishing of Silicon : An atomic force microscopy study2005
- Author(s)
  F.Katsuki, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Mater.Res.Soc.Symp.Proc. Vol.841
  
  Pages: 253-258
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Investigation of Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer by the Effect of a Photocatalyst2005
- Author(s)
  S.H.Hong, H.Ishii, M.Touge, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Proceedings of the Eighth International Symposium on Advances in Abrasive Technology (発表予定)
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] High precision chemical mechanical polishing of highly-boron-doped Si wafer used for epitaxial substrate2005
- Author(s)
  J.Watanabe, G.Yu, O.Eryu, I.Koshiyama, K.Izumi, M.Umeno, K.Nakashima
- Journal Title
  
  Precision Engineering Vol.29 No.2
  
  Pages: 151-156
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 任意パターン形状のダイヤモンドCVD膜の形成技術2005
- Author(s)
  大久保誠史, 渡邉純二, 峠睦, 竹下温
- Journal Title
  
  2005年度精密工学会九州支部鹿児島地方講演会講演論文集
  
  Pages: 107-108
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17656054
[Journal Article] 高品質パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2005
- Author(s)
  竹下温, 財部剛, 峠睦, 渡邉純二, 大久保誠史
- Journal Title
  
  2005年度精密工学会秋季大会学術講演会論文集
  
  Pages: 79-80
- NAID
  130004657167
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17656054
[Journal Article] Thinning Technology of Patterned Silicon Wafer for Micro Pressure Sensor2005
- Author(s)
  T.Nagano, M.Touge, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Proceedings of the Eighth International Symposium on Advances in Abrasive Technology (発表予定)
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] High precision chemical mechanical polishing of highly-boron-doped Si wafer used for epitaxial substrate2005
- Author(s)
  J.Watanabe, G.Yu, O.Eryu, I.Koshiyama, K.Izumi, M.Umeno, K.Nakashima
- Journal Title
  
  Precision Engineering 29巻2号
  
  Pages: 151-156
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Investigation of Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer by the Effect of a Photocatalyst2005
- Author(s)
  S.H.Hong, H.Ishii, M.Touge, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Proceedings of the Eighth International Symposium on Advances in Abrasive Technology
  
  Pages: 381-384
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] マウス体内埋め込み型マイクロセンサーの関する研究-第1報:マイクロセンサーの設計・製作と基礎特性評価-2004
- Author(s)
  渡邉純二, 峠睦, 長野智和, 岩田直也
- Journal Title
  
  2004年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 459-459
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] SiC単結晶の固体触媒応用研磨技術の検討2004
- Author(s)
  渡邉純二, 横峯和幸, 川向尚, 峠睦, 黒田規敬, 江龍修
- Journal Title
  
  2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 69-70
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] マイクロ圧力センサー形成ウェハの薄片化技術2004
- Author(s)
  長野智和, 伊東岳, 峠睦, 渡邉純二
- Journal Title
  
  2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 469-470
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] 砥粒加工による誘電体基板の薄片化技術2004
- Author(s)
  峠睦, 藤井修治, 在川功一, 渡邉純二
- Journal Title
  
  2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 63-64
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] エヤー浮上式精密ベルト研削による高精度加工面の形成第2報:アルミナセラミックスの精密ベルト研削2004
- Author(s)
  豊浦茂, 峠睦, 渡邉純二
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌 48巻・4号
  
  Pages: 220-224
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] エアー浮上式精密ベルト研削による高精度加工面の形成第1報、第2報2004
- Author(s)
  豊浦茂, 峠睦, 渡邉純二
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌 47巻、5号 48巻、4号
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 長寿命パッドドレッサーの開発2004
- Author(s)
  藤田隆, 渡邉純二
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌 48巻3号
  
  Pages: 147-152
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] ダイヤモンド単結晶の光照射研磨の可能性2004
- Author(s)
  渡邉純二, 横峯和幸, 川向尚, 洪錫享, 峠睦
- Journal Title
  
  2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 71-72
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 光化学反応を応用したGaAsの精密加工技術2004
- Author(s)
  石井秀明, 渡邉純二, 峠睦, 洪錫亨
- Journal Title
  
  2004年度精密工学会秋季学術講演会講演論文集
  
  Pages: 659-660
- NAID
  130004655684
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] SiC単結晶の光化学反応とその研磨2004
- Author(s)
  横峯和幸, 渡邉純二, 峠睦
- Journal Title
  
  2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 67-68
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Formation of High Quality Surface by Air-floating Precision Belt Grinding -2nd report : Precision Belt Grinding for Alumina Ceramics2004
- Author(s)
  Shigeru TOYOURA, Mutsumi TOUGE, Junji WATANABE
- Journal Title
  
  Journal of the Japan Society for Abrasive Technology Vol.48
  
  Pages: 220-224
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] Development of Ultra Thin Quartz by Abrasive Machining2004
- Author(s)
  Mutsumi TOUGE, Junji WATANABE, Yoshifumi OHBUCHI, Hidetoshi SAKAMOTO, Noboru UEDA
- Journal Title
  
  Key Engineering Materials Vols.257-258
  
  Pages: 123-128
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] GaAs基板の光触媒研磨技術の検討2004
- Author(s)
  洪錫亨, 石井秀明, 渡邉純二, 峠睦
- Journal Title
  
  2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 73-74
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] シリコン基板の前処理技術とCVDダイヤモンド膜の特性の関係2004
- Author(s)
  財部剛, 清水正寛, 峠睦, 渡邉純二
- Journal Title
  
  2004年度精密工学会秋季学術講演会講演論文集
  
  Pages: 633-634
- NAID
  130004655669
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Development of Ultra Thin Quartz by Abrasive Machining2004
- Author(s)
  M.Touge, J.Watanabe, Y.Ohbuchi, H.Sakamoto, N.Ueda
- Journal Title
  
  Key Engineering Materials 257-258
  
  Pages: 123-128
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] Development of Ultra Thin Quartz by Abrasive Machining2003
- Author(s)
  M.Touge, J.Watanabe, Y.Ohbuchi, H.Sakamoto, N.Ueda
- Journal Title
  
  Proceedings of the Sixth International Symposium on Advances in Abrasive Technology
  
  Pages: 123-128
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Surface Treatment of Silicon Carbide Using TiO2(IV) Photocatalyst2003
- Author(s)
  Y.Ishikawa, Y.Matsumoto, Y.Nishida, S.Taniguchi, J.Watanabe
- Journal Title
  
  J. Am. Chem. Soc. 125巻、21号
  
  Pages: 6558-6562
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 超LSIプロセスにおける平坦化CMP技術と装置の開発(第2報)パッドドレッシング均一化技術の開発-2003
- Author(s)
  藤田隆, 渡邉純二, 佐口明彦
- Journal Title
  
  精密工学会誌 69巻、11号
  
  Pages: 1610-1614
- NAID
  110001368363
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Infrared Attenuated Total Reflection by Chemomechanically Polished (0001) Surface of 6H-SiC2003
- Author(s)
  N.Kuroda, Y.Iida, T.Shigeta, Hasanudin, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 42巻、10B
- NAID
  10012450251
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] エアー浮上式精密ベルト研削による高精度加工面の形成第1報、第2報2003
- Author(s)
  豊浦茂, 峠睦, 渡邉純二
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌 47巻、5号, 48巻、4号
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 超LSIプロセスにおける平坦化CMP技術と装置の開発2003
- Author(s)
  渡邊純二, 藤田隆, 稲村豊四郎, 別府敏保
- Journal Title
  
  精密工学会誌 69巻、2号
  
  Pages: 263-267
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 弾性定盤を用いたガラス磁気ディスク基板のポリシング特性2003
- Author(s)
  峠睦, 渡邉純二
- Journal Title
  
  精密工学会誌 69巻・10号
  
  Pages: 1469-1473
- NAID
  110001373507
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] Polishing Characteristics of Glass Magnetic Disk Substrates Using Elastic Plates2003
- Author(s)
  Mutsumi TOUGE, Junji WATANABE
- Journal Title
  
  Journal of the Japan Society for Precision Engineering Vol.69
  
  Pages: 1469-1473
- NAID
  110001373507
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14350074
[Journal Article] Infrared Attenuated Total Reflection by Chemomechanically Polished (0001) Surface of 6H-SiC2003
- Author(s)
  N.Kuroda, Y.Iida, T.Shigeta, Hasanudin, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Jpn.J.Appl.Phys. Vol.42 10B
- NAID
  10012450251
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Effect of Pre-Thin-Surface Grinding on Copper Chemical Mechanical Polishing2003
- Author(s)
  J.Watanabe, T.Hisamatsu, M.Hirano
- Journal Title
  
  Proceedings of the Sixth International Symposium on Advances in Abrasive Technology
  
  Pages: 407-412
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Surface Treatment of Silicon Carbide Using TiO2(IV) Photocatalyst2003
- Author(s)
  Y.Ishikawa, Y.Matsumoto, Y.Nishida, S.Taniguchi, J.Watanabe
- Journal Title
  
  J.Am.Chem.Soc. Vol.125, No.21
  
  Pages: 6558-6562
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] The Atomic-Scale Removal Mechanism during Si Tip Scratching on Si and SiO2 Surfaces in Aqueous KOH with an Atomic Force Microscope2002
- Author(s)
  F.Katsuki, A.Saguchi, W.Takahashi, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Jpn.J.Appl.Phys. Vol.41, Part1, No.7B
  
  Pages: 4919-4923
- NAID
  210000051818
- Description
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] 加工表面の分析評価に基づいたSiC半導体の加工メカニズムの研究2002
- Author(s)
  渡邉純二, 黒田規敬, 藤本誠, 江龍修
- Journal Title
  
  2002年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
  
  Pages: 140-140
- NAID
  130007001948
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] High Removal Rate Polishing of Glass Substrate Using Epoxy Resin Plate2002
- Author(s)
  M.TOUGE, J.WATANABE, H.SAKAMOTO, H.WAN, T.MURAKAMI
- Journal Title
  
  Proceeding of 6th International Conference on Progress of Machining Technology (ICPMT'2002)
  
  Pages: 357-362
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] Evaluation of Surfaces of Single SiC Crystal Polished with Various Kinds of Particles2002
- Author(s)
  J.Watanabe, M.Fujimoto, Y.Matsumoto, N.Kuroda, O.Eryu
- Journal Title
  
  Proceedings of the Fifth International Symposium on Advances in Abrasive Technology
  
  Pages: 175-180
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Journal Article] The Atomic-Scale Removal Mechanism during Si Tip Scratching on Si and SiO2 Surfaces in Aqueous KOH with an Atomic Force Microscope2002
- Author(s)
  F.Katsuki, A.Saguchi, W.Takahashi, J.Watanabe
- Journal Title
  
  Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 41, Part 1, No. 7B
  
  Pages: 4919-4923
- NAID
  210000051818
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Patent] 半導体基板の超精密研磨装置2005
- Inventor(s)
  渡邉純二, 横峯和幸, 石井秀明
- Industrial Property Rights Holder
  熊本大学
- Industrial Property Number
  2005-041950
- Filing Date
  2005-02-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Patent] 半導体基板の超精密研磨装置2005
- Inventor(s)
  渡邉純二, 横峯和幸, 石井秀明
- Industrial Property Rights Holder
  熊本大学
- Industrial Property Number
  2005-041950
- Filing Date
  2005-02-16
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Patent] 研削装置および研削方法2004
- Inventor(s)
  渡邊純二
- Industrial Property Rights Holder
  財・熊本テクノ産業財団
- Industrial Property Number
  2004-165577
- Filing Date
  2004-06-03
- Description
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Patent] 研削装置および研削方法2004
- Inventor(s)
  渡邉純二
- Industrial Property Rights Holder
  財・熊本テクノ産業財団
- Industrial Property Number
  2004-165577
- Filing Date
  2004-06-03
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-14205026
[Presentation] 新型熱輸送デバイス用マイクロ溝の精密加工技術の開発2007
- Author(s)
  古賀昭信, 峠睦, 渡邉純二, 小糸康志, 久保田豊
- Organizer
  日本機械学会九州支部沖縄講演会
- Place of Presentation
  琉球大学工学部
- Year and Date
  2007-10-20
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-19560119

1. TOUGE Mutsumi (00107731)

# of Collaborated Projects: 5 results

# of Collaborated Products: 28 results
2. SAKAMOTO Hidetoshi (10153917)

# of Collaborated Projects: 4 results

# of Collaborated Products: 2 results
3. OBUCHI Yoshifumi (10176993)

# of Collaborated Projects: 2 results

# of Collaborated Products: 3 results
4. KURODA Noritaka (40005963)

# of Collaborated Projects: 2 results

# of Collaborated Products: 9 results
5. INAMURA Toyoshiroh (60107539)

# of Collaborated Projects: 1 results

# of Collaborated Products: 0 results
6. MATSUMOTO Yasumichi (80114172)

# of Collaborated Projects: 1 results

# of Collaborated Products: 3 results
7. SHIMADA Shoichi (20029317)

# of Collaborated Projects: 1 results

# of Collaborated Products: 0 results
8. ERYU Osamu (10223679)

# of Collaborated Projects: 1 results

# of Collaborated Products: 5 results
9. UEDA Noboru (10040437)

# of Collaborated Projects: 1 results

# of Collaborated Products: 2 results
10. HIROYUKI Yokoi (50358305)

# of Collaborated Projects: 1 results

# of Collaborated Products: 1 results

WATANABE Junji 渡邉 純二

渡邊 純二 ワタナベ ジュンジ

渡辺 純二 ワタナベ ジュンジ

JUNJI Watanabe 渡邉 純二

Research Projects

Research Products

Co-Researchers

Development of precision processing technology for ultra-fine heat radiation fin with high performance, and its application

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

導電性CVDダイヤモンド薄膜の微細線化技術の開発

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

Characterization of lattice quality of widegap-semiconductor films by hetero-reststrahlen reflection and attenuated total reflection spectroscopies

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

Development of ultra-precision processing technology of novel semiconductor substrate applied to devices with nano-structurePrincipal Investigator

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

Development of Ultra Thinning Technology of Multifunctional Device Substrates by Abrasive Processing

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

HIGH PRECISION-PLANARIZATION WITH CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING FOR LARGE DIAMETER SEMICONDUCTOR SUBSTRATEPrincipal Investigator

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

[Book] CMPの実践的基礎技術(石井久男)2004

Author(s)

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Publisher

Description

Data Source

[Book] CMPの実践的基礎技術2004

Author(s)

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Publisher

Data Source

[Journal Article] Infrared Study on Graded Lattice Quality in Thin GaN Crystals Grown on Sapphire2006

Author(s)

Journal Title

NAID

Description

Data Source

[Journal Article] パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2006

Author(s)

Journal Title

Data Source

[Journal Article] Takashi Egawa and Hiroyasu Ishikawa Infrared study on graded lattice quality in thin GaN crystals grown on sapphire2006

Author(s)

Journal Title

Description

Data Source

[Journal Article] 高品質パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2006

Author(s)

Journal Title

NAID

Data Source

[Journal Article] Infrared Study on Graded Lattice Quality in Thin GaN Crystals Grown on Sapphire2006

Author(s)

Journal Title

NAID

Description

Data Source

WATANABE Junji 渡邉純二

渡邊純二ワタナベジュンジ

渡辺純二ワタナベジュンジ

JUNJI Watanabe 渡邉純二

[Journal Article] エヤー浮上式精密ベルト研削による高精度加工面の形成第2報:アルミナセラミックスの精密ベルト研削2004