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HIRAYAMA Masaki  平山 昌樹

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Researcher Number 70250701
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Affiliation (based on the past Project Information) *help 2010 – 2014: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 准教授
2002 – 2005: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 助教授
2002: 東北大学, 未来化学技術共同研究センター, 客員助教授
1998 – 2001: 東北大学, 大学院・工学研究科, 助手
Review Section/Research Field
Principal Investigator
複合化集積システム / Electronic materials/Electric materials / Electron device/Electronic equipment / 電子デバイス・機器工学
Except Principal Investigator
Electronic materials/Electric materials / 電子デバイス・機器工学 / Science and Engineering / Engineering / Science and Engineering
Keywords
Principal Investigator
シリコン窒化膜 / マイクロ波プラズマ / STNO / microwave plasma / ラジアルラインスロットアンテナ / 強誘電体 / マイクロ波 / プラズマ / radial line slot antenna / direct oxidation … More / direct nitridation / silicon nitride / non volatile memory / high-k film / パリア膜 / 酸素ラジカル / バリア膜 / 有機金属ガス / LSI / ゲート絶縁膜 / 直接酸化 / 直接窒化 / 不揮発性メモリ / 強誘電体膜 / silicon nitride film / buffer layer / plasma oxidation / ferroelectric / high-density plasma / プロセス / 半導体 / 高誘電率膜 / 低誘電率層間絶縁膜 / O_2 / Kr / 低温プラズマ酸化 / バッファ層 / プラズマ酸化 / 高密度プラズマ / 保護膜 / 有機EL / プラズマCVD / マイクロ波励起高密度プラズマ / プリント配線基盤 / フェーズドアレーアンテナ / 低消費電力携帯端末 / BST / 高誘電率薄膜 / バランスドCMOS / PDA / 金属基板 / 誘電体アンテナ / フェーズドアレイアンテナ … More
Except Principal Investigator
LSI / SOI / 1 / BED / CVD / 陽極化成 / 気体分離配線 / プラズマプロセス / Microwave-excited high-density plasma / Channel mobility / System LSI / Room Temperature 5 step Cleaning / f noise / Balanced-CMOS / Si_3N_4 gate insulator / Si(110)surface / CMOS / Si(110) / マイクロ波励起高密度プラズマ / チャネル移動度 / システムLSI / 室温5工程洗浄 / fノイズ / Balanced-CMOS集積回路 / Si_3N_4ゲート絶縁膜 / Si(110)面 / back pump / gas distribution system / plasma process / microwave plasma / step-by-step investment / profitable mini-line / エッチング / 半導体生産 / クラスターツール / シャワープレート / RLSA / バックポンプ / ガス供給システム / マイクロ波プラズマ / 段階投資 / 小規模生産ライン / low frequency noise / trap level / interface / mutual conductance / gas-isolated-interconnects / Ta metal gate / 金属基板 / 銅配線 / 無水HF / BPSG / 低周波ノイズ / トラップ準位 / 界面 / FD-SOI MOSFET / 相互コンダクタンス / Ta メタルゲート / LSI Design / Real-Time Processing / Face Recognition / Image Compression / Codebook Spectrum / Vector Quantization / チャネル多重 / 話者認識 / 顔認識 / パケットSS-CDMA方式 / 近似同期CDMA方式 / フレキシブルワイヤレスネットワーク / 高精細静止画像圧縮 / 高精度トランジスタモデリング / システムオンチップ / SS-CDMAフレキシブルワイヤレスネットワーク / 高速情報処理 / LSI設計 / 実時間処理 / 顔画像認識 / 画像圧縮 / コードブック空間情報処理 / ベクトル量子化 / metal-substrate SOI / high-permittivity gate insulator / metal gate / gas isolated interconnect / エピタキシャル / 多孔質シリコン / シリサイド反応 / Xeプラズマ / ウルトラクリーンプロセス / 金属基板SOI / 3次元構造 / シリサイド / ラフネス / 面方位 / シリコン表面平坦化 / MOSトランジスタ / 半導体製造装置 / 半導体製造プロセス / MOSFET / シリコン Less
  • Research Projects

    (10 results)
  • Co-Researchers

    (8 People)
  •  Study on fabrication process of 3-D structured MOS transistor having atomically flat gate insulator/Si interface

    • Principal Investigator
      OHMI Tadahiro
    • Project Period (FY)
      2010 – 2014
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Specially Promoted Research
    • Review Section
      Science and Engineering
      Engineering
    • Research Institution
      Tohoku University
  •  仕事関数制御透明電極を用いたトップエミッション超高寿命高効率有機ELディスプレイPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      平山 昌樹
    • Project Period (FY)
      2004 – 2005
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
    • Research Field
      Electron device/Electronic equipment
    • Research Institution
      Tohoku University
  •  フェーズドアレーアンテナと金属基板マイクロ波デバイスを用いた超低消費電力携帯端末Principal Investigator

    • Principal Investigator
      平山 昌樹
    • Project Period (FY)
      2002 – 2003
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
    • Research Field
      電子デバイス・機器工学
    • Research Institution
      Tohoku University
  •  Ultra-High-Speed and High-Precision Integration Circuit Using Si(110) Surface Metal Substrate SOI Balanced-CMOS

    • Principal Investigator
      OHMI Tadahiro
    • Project Period (FY)
      2002 – 2003
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      電子デバイス・機器工学
    • Research Institution
      TOHOKU UNIVERSITY
  •  Ultra-High-Speed Real-Time Processing Circuit and Algorithm

    • Principal Investigator
      OHMI Tadahiro
    • Project Period (FY)
      2000 – 2002
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • Review Section
      Science and Engineering
    • Research Institution
      TOHOKU UNIVERSITY
  •  Development of ultra-high-speed LSI with gas-isolated-interconnects and Ta metal gate transistors on SOI substrate

    • Principal Investigator
      OHMI Tadahiro
    • Project Period (FY)
      2000 – 2001
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      Electronic materials/Electric materials
    • Research Institution
      Tohoku University
  •  Plasma process technology controlling dissociation of process gas for realizing step-by-step investment semiconductor manufacturing

    • Principal Investigator
      OHMI Tadahiro
    • Project Period (FY)
      2000 – 2001
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      Electronic materials/Electric materials
    • Research Institution
      Tohoku University
  •  Study for low-temperature formation of high-quality STNO high-k films for non-volatile memoriesPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      HIRAYAMA Masaki
    • Project Period (FY)
      2000 – 2001
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • Research Field
      複合化集積システム
    • Research Institution
      Tohoku University
  •  Metal-substrate SOI integrated circuits technologies for 10GHz clock operation

    • Principal Investigator
      OHMI Tadahiro
    • Project Period (FY)
      1998 – 1999
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      Electronic materials/Electric materials
    • Research Institution
      TOHOKU UNIVERSITY
  •  Research of low-k/high-k dielectric films growth utilizing microwave exited plasmaPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      HIRAYAMA Masaki
    • Project Period (FY)
      1998 – 1999
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      Electronic materials/Electric materials
    • Research Institution
      TOHOKU UNIVERSITY
  • 1.  OHMI Tadahiro (20016463)
    # of Collaborated Projects: 8 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 2.  KOTANI Koji (20250699)
    # of Collaborated Projects: 3 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 3.  SUGAWA Shigetoshi (70321974)
    # of Collaborated Projects: 2 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 4.  伊野 和英
    # of Collaborated Projects: 2 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 5.  GOTO Tetsuya (00359556)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 6.  SUWA Tomoyuki (70431541)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 7.  TSUBOUCHI Kazuo (30006283)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 8.  MIURA Michiko (70291482)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results

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