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Rachi Takeshi  良知 健

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良知 健  ラチ タケシ

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Researcher Number 70521037
Affiliation (Current) 2025: 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所, 機械・材料技術部, 主任研究員
Affiliation (based on the past Project Information) *help 2021 – 2023: 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所, 機械・材料技術部, 主任研究員
Review Section/Research Field
Except Principal Investigator
Basic Section 21050:Electric and electronic materials-related
Keywords
Except Principal Investigator
有機トランジスタ / 有機半導体ナノワイヤ / リソグラフィ技術 / 有機半導体 / 有機グラフォエピタキシ / MDシミュレーション / GIXD / 薄膜成長 / グラフォエピタキシ / ナノ構造制御 … More / チエノチオフェン / ナノ構造評価 / 初期形成過程 / 分子動力学シミュレーション / 斜入射X線回折 / 有機薄膜成長 / ナノワイヤ Less
  • Research Projects

    (1 results)
  • Co-Researchers

    (2 People)
  •  Study on the origin of nanowire growth utilizing on-terrace graphoepitaxy method

    • Principal Investigator
      HIROSHIBA Nobuya
    • Project Period (FY)
      2021 – 2023
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • Review Section
      Basic Section 21050:Electric and electronic materials-related
    • Research Institution
      Osaka Institute of Technology
  • 1.  HIROSHIBA Nobuya (40635190)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 2.  熊代 良太郎 (00396417)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results

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