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KATO Isamu  加藤 勇

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加藤 勇  カトウ イサム

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Researcher Number 80063775
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Affiliation (based on the past Project Information) *help 1995 – 2001: 早稲田大学, 理工学部, 教授
1988 – 1990: 早稲田大学, 理工学部, 教授
Review Section/Research Field
Principal Investigator
Electronic materials/Electric materials / 計測・制御工学
Keywords
Principal Investigator
化学気相堆積 / アモルファスシリコン / マイクロ波プラズマCVD / プラズマ粒子衝撃 / リジタ-ノコイル / 同軸線路型マイクロ波放電 / マイクロ波プラズマ / "in situ" measurement / ultra thin film / evanescent field … More / near field optics / optical fiber sensor / Amorphous silicon / plasma measurement / plasma CVD / 光ファイバーセンサー / ブラズマ計測 / 光ファイバーセンサ / その場測定 / 極薄膜 / エバネッセントフィールド / 近接場光学 / 光ファイバセンサ / プラズマ計測 / プラズマCVD / wavelength converter / semiconductor nanocrystal / MBE / Optical Waveguides Type Filter / Luminescent Material / Multilayer Films / Silicon Nano Crystal / Microwave Plasma CVD / 光増幅素子 / 光非線形 / 化合物半導体ナノクリスタル / 二重同軸線路型MPCVD / プラズマエレクトロニクス / Siナノクリスタル / フォトニック結晶 / ヒ化ガリウム / 分子線セル / 窒化シリコン / 水素化アモルファスシリコン / InAs / 半導体光機能デバイス / 分子線エピタキシャル成長法 / 波長変換デバイス / 半導体ナノクリスタル / 分子線エピタキシャル成長 / 光導波路形フィルタ / 発光材料 / 多層膜 / シリコンナノクリスタル / depression of charged particle diffusion / spatial after-grow plasma / high speed deposition / plasma stabilization / a-Si : H / electron density / D.C.magnetic field / microwave plasma / SiN / a-Si: H / 同軸線路モード / SiN膜の評価 / プラズマパラメータの計測 / 水素プラズマの安定化 / 電子密度の高濃度化 / 同軸線路形マイクロ波プラズマCVD / 縦磁界 / 空間的アフタ-グロープラズマ / 横方向への拡散の抑制 / 高速堆積 / プラズマの安定化 / a-Si:H / 電子密度 / 直流磁界 / プラズマの空間分布測定 / ECRプラズマ / リジターノコイル / 直交磁界 / ソフトランディング / イオン衝撃エネルギ- / DC,RFバイアス法 / 内部的プラズマパラメ-タ / 電気探針法 / 反応性プラズマ / 同軸線路型マイクロ波プラズマ / プラズマの生成機構 / 膜表面加熱効果 / 大面積化 Less
  • Research Projects

    (6 results)
  • Co-Researchers

    (2 People)
  •  ナノクリスタルドープ光導波路及び次世代フォトニックデバイスへの適用Principal Investigator

    • Principal Investigator
      KATO Isamu
    • Project Period (FY)
      1997 – 2000
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      Electronic materials/Electric materials
    • Research Institution
      Waseda University
  •  Research about the method of measuring the ultra thin film and the plasma reaction under film growth using optical waveguidesPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      KATO Isamu
    • Project Period (FY)
      1997 – 2000
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      計測・制御工学
    • Research Institution
      Waseda University
  •  Study of Film Growth Mechanism and Development of Coaxial Line Type MPCVD System with Longitudinal Magnetic FieldPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      KATO Isamu
    • Project Period (FY)
      1995 – 1996
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • Research Field
      Electronic materials/Electric materials
    • Research Institution
      Waseda University
  •  マイクロ波プラズマの発生法とその構造の制御Principal Investigator

    • Principal Investigator
      加藤 勇
    • Project Period (FY)
      1988 – 1990
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • Research Institution
      Waseda University
  •  マイクロ波プラズマの発生法とその構造の制御Principal Investigator

    • Principal Investigator
      加藤 勇
    • Project Period (FY)
      1988 – 1990
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • Research Institution
      Waseda University
  •  マイクロ波プラズマの発生法とその構造の制御Principal Investigator

    • Principal Investigator
      加藤 勇
    • Project Period (FY)
      1988 – 1990
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • Research Institution
      Waseda University
  • 1.  河合 良信 (10038565)
    # of Collaborated Projects: 3 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 2.  UTAKA Katsuyuki (20277817)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results

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