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及川 榮蔵  OIKAWA Eizo

ORCIDORCID連携する *注記
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及川 栄蔵  OIKAWA Eizo

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研究者番号 00018467
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1996年度 – 1998年度: 新潟大学, 工学部, 教授
1993年度: 新潟大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
高分子合成 / 高分子構造物性(含繊維)
研究代表者以外
高分子合成
キーワード
研究代表者
permselective membrane / palladium catalyst / rhodium catalyst / phenyleneethynylene / poly (phenylacetylene) / polydendron / monodendron / dendrimer / デンドリマ- / 透過選択分離膜 … もっと見る / パラジウム触媒 / ロジウム触媒 / フェニレンエチニレン / ポリ(フェニルアセチレン) / ポリデンドロン / モノデンドロン / デンドリマー / 選択透過膜 / 高分子膜 / メントール / ピネン / トリプトファン / ポリアセチレン / 光学活性高分子 / 光学分割膜 … もっと見る
研究代表者以外
chiral space / sol-gel method / optacal resolution membrane / polysiloxane / membrane / enantioselective permeation / alkoxysilyl group / pinanyl group / キラルポリマー / 末端アセチレン / 不斉空間 / ゾル-ゲル法 / 光学分割膜 / ポリシロキサン / 膜 / 光学異性体選択透過 / アルコキシシリル基 / ピナニル基 隠す
  • 研究課題

    (3件)
  • 共同研究者

    (2人)
  •  デンドリティックマクロマーの重合とその高分子膜の高次構造空間による分子認識・分離研究代表者

    • 研究代表者
      及川 栄蔵 (及川 榮蔵)
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      高分子合成
    • 研究機関
      新潟大学
  •  ゾル-ゲル法を用いた高密度な不斉空間を持つポリシロキサン光学分割膜の創製

    • 研究代表者
      青木 俊樹
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      高分子合成
    • 研究機関
      新潟大学
  •  新しい光学活性な立体規則性ポリアセチレン膜による光学分割研究代表者

    • 研究代表者
      及川 栄蔵
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      高分子構造物性(含繊維)
    • 研究機関
      新潟大学
  • 1.  青木 俊樹 (80212372)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  金子 隆司 (90272856)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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