白井正充 SHIRAI Masamitsu

… 別表記

白井正光シライマサミツ

研究者番号	00081331
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2014年度: 大阪府立大学, 工学(系)研究科, 教授 2011年度 – 2012年度: 大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 2011年度: 大阪府立大学, 大学院・工学研究科, 教授 2009年度 – 2011年度: 大阪府立大学, 工学研究科, 教授 2005年度: 大阪府立大学, 工学研究科, 教授 … もっと見る 2004年度: 大阪府立大学, 大学院・工学研究科, 教授 2000年度 – 2003年度: 大阪府立大学, 工学研究科, 教授 1999年度: 大阪府立大学, 工学部, 教授 1995年度: 大阪府立大学, 工学部, 助教授 1994年度: 大阪府立大学, 工学部, 講師 1987年度: 大阪府立大学, 工学部, 助手 1986年度: 阪府大, 工学部, 助手隠す
審査区分/研究分野	研究代表者高分子合成 / 高分子・繊維材料 / 高分子合成研究代表者以外有機工業材料 / 高分子・繊維材料
キーワード	研究代表者光酸発生剤 / フォトレジスト / 光架橋 / 光塩基発生剤 / Photoacid generator / Photoresist / 表面イメージング / 表面修飾 / 感光性高分子 / レプリカモールド … もっと見る / 分解型光硬化樹脂 / UVインプリント / Cation binding / Cinnamic acid ester / Photosensitive polymer / Photodimerization / Poly crown ether / アルカリカチオン捕捉 / 非環状ポリエーテル / グライム / 光二量化反応 / 感光性ポリマー / ケイ皮酸エステル / カチオン捕捉 / ポリベンゾジグライム / 光二量化 / ポリクラウンエーテル / Rework / Photocuring / Epoxy resin / Redissolution / Thermal degradation / Photocrossliking / Photobase Generator / Photoacid Generator / ネガ型フォトレジスト / 高分子の熱分解 / 光架橋高分子 / エポキシ / リワーク / 光硬化 / エポキシ樹脂 / 再溶解 / 熱分解 / Acyl oxime / Imino Sulfonate / Photocrosslinking / VUV light / Surface Imaging / Photobase generator / 表面修飾レジスト / 146nm光 / オキシムエステル / ドライ現像 / ポシ型フォトレジスト / アシルオキシム / イミノスルホナート / 真空紫外光 / Surface imaging / Surface Modification / Photosensitive Polymer / ポリシロキサン / 光反応性高分子 / 表面特性 / ＵＶインプリント / 複製樹脂モールド / 分解性光硬化樹脂 / 離型剤フリー / 樹脂モールド / 環境調和型硬化樹脂 / 低収縮性モノマー / 多官能モノマー / リワーク樹脂 / 分解型硬化樹脂 / UV硬化樹脂 / 光インプリント材料 / 犠牲材料 / 架橋と分解 / 光硬化樹脂 / 高分子材料合成 … もっと見る研究代表者以外 crosslinking / UV curing / sensitization / tertiary amine / photo-reaction / carboxylate / quaternary ammonium salt / photobase generator / チオシアナート / 硬化剤 / エポキシ樹脂 / 熱安定性 / ベンゾエート / 架橋 / UV硬化 / 増感 / 第三級アミン / 光反応 / カルボキシラート / 第四級アンモニウム塩 / 光塩基発生剤 / モールド / ハイブリッド光硬化系 / 表面自由エネルギー / インプリント / レジスト / 連鎖長 / チオール/エン / デュアル光硬化系 / 樹脂モールド / デュアル硬化 / 光開始剤 / 光分解 / 光重合 / 光硬化樹脂隠す

多波長光照射で制御する感光性高分子材料の設計指針
- 研究代表者
  
  岡村晴之
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2014
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  高分子・繊維材料
- 研究機関
  大阪府立大学
離型剤を必要としない UV ナノインプリント用樹脂モールドの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  白井正充
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2012
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  高分子・繊維材料
- 研究機関
  大阪府立大学
解架橋能を有する光硬化樹脂の合成と犠牲材料への応用研究代表者
- 研究代表者
  
  白井正充
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  高分子・繊維材料
- 研究機関
  大阪府立大学
第三級アミンを発生する光塩基発生剤の開発とそれを利用した硬化系の構築
- 研究代表者
  
  陶山寛志
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  有機工業材料
- 研究機関
  大阪府立大学
環境対応型光架橋性高分子に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  白井正充
- 研究期間 (年度)
  2001 – 2003
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  高分子合成
- 研究機関
  大阪府立大学
光により酸またはアミンを生成する高分子の合成と応用研究代表者
- 研究代表者
  
  白井正充
- 研究期間 (年度)
  1999 – 2000
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  高分子合成
- 研究機関
  大阪府立大学
光反応を利用する高分子薄膜表面の化学修飾とその応用研究代表者
- 研究代表者
  
  白井正充
- 研究期間 (年度)
  1994 – 1995
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  高分子合成
- 研究機関
  大阪府立大学
光二量化型ポリクラウンエーテルの合成とその応用研究代表者
- 研究代表者
  
  白井正充
- 研究期間 (年度)
  1986 – 1987
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  高分子合成
- 研究機関
  大阪府立大学

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すべて雑誌論文学会発表図書

[図書] 高分子の架橋と分解III2012
- 著者名/発表者名
  白井正充(分担執筆)
- 総ページ数
  14
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 光学用粘・接着剤と貼り合わせ技術2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  S&T出版
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[図書] 光学用粘・接着剤と貼り合わせ技術2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  Ｓ＆Ｔ出版
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  シーエムシー出版
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[図書] 高分子の架橋と分解III2011
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011
- 著者名/発表者名
  白井正充（分担執筆）
- 総ページ数
  10
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[図書] 高分子の架橋と分解III2011
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  シーエムシー出版
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[図書] 高分子の架橋と分解III2011
- 著者名/発表者名
  白井正充（分担執筆）
- 総ページ数
  14
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011
- 著者名/発表者名
  白井正充(分担執筆)
- 総ページ数
  10
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] LED-UV硬化技術と硬化材料の現状と展望-発光ダイオードを用いた紫外線硬化技術2010
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 総説エポキシ樹枝最近の進歩I2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  エポキシ樹脂技術協会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 総説エポキシ樹枝最近の進歩I2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 総ページ数
  12
- 出版者
  エポキシ樹脂技術協会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 高分子の架橋・分解技術-グリーンケミストリー2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 総ページ数
  26
- 出版者
  シーエムシー出版
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] フォトレジスト材料開発の新展開2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] Basics and Applications of Photopolymerization Reactions2009
- 著者名/発表者名
  Masamitsu Shirai
- 総ページ数
  10
- 出版者
  Research Signpost, India
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 高分子の架橋・分解技術-グリーンケミストリー2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 出版者
  シーエムシー
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] フォトレジスト材料開発の新展開2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 総ページ数
  15
- 出版者
  シーエムシー出版
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[図書] 高分子の架橋と分解-環境保全を目指して-2004
- 著者名/発表者名
  角岡正弘, 白井正充監修
- 総ページ数
  299
- 出版者
  シーエムシー出版
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[図書] 高分子の架橋と分解 -環境保全を目指して-2004
- 著者名/発表者名
  白井正充ほか
- 総ページ数
  299
- 出版者
  シーエムシー出版
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[雑誌論文] i-Line Sensitive PAGs and Their Application to Photocrosslinking System2015
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, T. Ashida, S. Kodama, and M. Shirai
- 雑誌名
  
  Macromol. Symp.
  
  巻: 349 号: 1 ページ: 29-33
- DOI
  10.1002/masy.201400002
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[雑誌論文] i-Line Sensitive Photoacid Generators2013
- 著者名/発表者名
  H. Okamura and M. Shirai
- 雑誌名
  
  Trends Photochem. Photobiol.
  
  巻: 15 ページ: 51-61
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[雑誌論文] Hybrid UV Curing System Using Methacrylates Having a Chalcone Moiety2013
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, Y. Ueda, and M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.,
  
  巻: 26 ページ: 245-248
- NAID
  130004465028
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[雑誌論文] A Reworkable Photothermal Dual-curing System2013
- 著者名/発表者名
  M. Adachi, H. Okamura, and M. Shirai
- 雑誌名
  
  Chemistry Letters
  
  巻: 42 号: 9 ページ: 1056-1058
- DOI
  10.1246/cl.130415
- NAID
  10031194340
- ISSN
  0366-7022, 1348-0715
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[雑誌論文] ヘミアセタールエステル部位を有する新規メタクリラートの合成とリワーク型樹脂への応用2013
- 著者名/発表者名
  岡村晴之、初瀬達也、白井正充
- 雑誌名
  
  ネットワークポリマー
  
  巻: 35 ページ: 2-7
- NAID
  130004648286
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] ヘミアセタールエステル部位を有する新規メタクリラートの合成とリワーク型樹脂への応用2013
- 著者名/発表者名
  岡村晴之、初瀬達也、白井正充
- 雑誌名
  
  ネットワークポリマー
  
  巻: 35 ページ: 2-7
- NAID
  130004648286
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[雑誌論文] カルコン部位含有ジメタクリラートの合成とそのハイブリッドUV硬化系への応用2013
- 著者名/発表者名
  岡村晴之，上田勇太，白井正充
- 雑誌名
  
  ネットワークポリマー
  
  巻: 34 ページ: 196-206
- NAID
  130004648300
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[雑誌論文] 分解性を有する架橋・硬化ポリマーの合成と応用2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 雑誌名
  
  高分子
  
  巻: 61 ページ: 865-867
- NAID
  10031117777
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] Photoacid- and Photobase-Generating Monomers for Surface Modification of Cured Resin : Application to Novel Resin Mold for UV Imprint2012
- 著者名/発表者名
  S. Horii, K. Yamane, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol
  
  巻: 25 ページ: 735-740
- NAID
  130004833509
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] Photo-cross-linking and De-cross-linking of modified Polystyrenes having Degradable Linkages2011
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, E. Yamaguchi, M. Shirai
- 雑誌名
  
  React. Funct. Polym
  
  巻: 71巻ページ: 480-488
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  D.Matsukawa, H.Okamura, M.Shirai
- 雑誌名
  
  J.Mater.Chem.
  
  巻: 21 ページ: 10407-10414
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのＵＶインプリント材料への応用2011
- 著者名/発表者名
  岡村晴之、白井正充
- 雑誌名
  
  ネットワークポリマー
  
  巻: 33 ページ: 74-78
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Mater. Chem
  
  巻: 21巻ページ: 10407-10414
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用2011
- 著者名/発表者名
  岡村晴之、白井正充
- 雑誌名
  
  ネットワークポリマー
  
  巻: 33巻ページ: 74-78
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Photo-cross-linking of Modified Polystyrene Having Degradable Linkages2011
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, E. Yamaguchi, M. Shirai
- 雑誌名
  
  React. Func. Polym
  
  巻: 71 ページ: 480-488
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] Photo-cross-linking and De-cross-linking of Modified Polystyrenes having Degradable Linkages2011
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, E. Yamaguchi, M. Shirai
- 雑誌名
  
  React. Func. Polym.
  
  巻: 71 ページ: 480-488
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] リワーク型低収縮性ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用2011
- 著者名/発表者名
  岡村晴之、白井正充
- 雑誌名
  
  ネットワークポリマー
  
  巻: 33 ページ: 74-78
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  D.D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Mater. Chem.,
  
  巻: 21 ページ: 10407-10417
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] Photo-cross-linking and De-cross-linking of modified Polystyrenes having Degradable Linkages2011
- 著者名/発表者名
  H.Okamura, E.Yamaguchi, M.Shirai
- 雑誌名
  
  React.Funct.Polym.
  
  巻: 71 ページ: 480-488
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Mater. Chem.
  
  巻: 21 ページ: 10407-10417
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[雑誌論文] Analysis of Chain Propagation in UV Curing Using Reworkable Resin2010
- 著者名/発表者名
  D.Matsukawa, H.Okamura, M.Shirai
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol.
  
  巻: 23 ページ: 125-128
- NAID
  130004833323
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Analysis of Chain Propagation in UV Curing Using Reworkable Resin2010
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 23巻ページ: 125-128
- NAID
  130004833323
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Preparation of Replicated Resin Mold for UV Nanoimprint Using Reworkable Dimethacrylate2010
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 23巻ページ: 781-787
- NAID
  130004833379
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Preparation of Replicated Resin Mold for UV Nanoimprint Using Reworkable Dimethacrylate2010
- 著者名/発表者名
  D.Matsukawa, H.Okamura, M.SHirai
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol.
  
  巻: 23 ページ: 781-787
- NAID
  130004833379
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Novel Photo-Cross-Linkable Dendrimers Having Thermal De-Cross-linking Properties2010
- 著者名/発表者名
  H.Okamura, M.Shirai
- 雑誌名
  
  Polymer
  
  巻: 51 ページ: 5087-5094
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Novel Photo-Cross-Linkable Dendrimers Having Thermal De-Cross-linking Properties2010
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  Polymer
  
  巻: 51巻ページ: 5087-5094
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Novel Reworkable Resins : Thermo-and Photo-Curable Di(meth) acrylates2009
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  Polym. International
  
  巻: 59巻ページ: 263-268
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Photo-and Thermal Curing of Trifunctional Methacrylate with Degradable Property2009
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  Res. Chem. Intermediate
  
  巻: 35巻ページ: 865-878
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] A UV Curable Resin with Reworkable Properties : Application to Imprint Lithography2009
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  J. Mater. Chem.
  
  巻: 19巻ページ: 4085-4087
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Photocurable Oligo(hemiacetal ester) s Having Methacrylate Side Chains2009
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 雑誌名
  
  Eur. Polym. J.
  
  巻: 45巻ページ: 2087-2095
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] アニオン硬化2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 雑誌名
  
  接着の技術 29
  
  ページ: 8-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[雑誌論文] Photochemical Formation of Ammonium / Thiolate Complexes from Quaternary Ammonium Thiocyanates and Its Use in Crosslinking of Polymers2006
- 著者名/発表者名
  K.Suyama, K.Fuke, T.Yamamoto, Y.Kurokawa, M.Tsunooka, M.Shirai
- 雑誌名
  
  J.Photochem.Photobiol.A : Chem. 179
  
  ページ: 87-94
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[雑誌論文] Thermally Stable Carbamates as Novel Photobase Generator2005
- 著者名/発表者名
  K.Suyama, S.Nakao, M.Shirai
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol 18
  
  ページ: 141-148
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[雑誌論文] Crosslinking of Oligomers Bearing Carbamoyloxyimino Groups with Their Photochemical and Thermal Reactions2004
- 著者名/発表者名
  K.Suyama, H.Iriyama, M.Tsunooka, M.Shirai
- 雑誌名
  
  J.Polym.Sci.Part A : Polym.Chem. 42
  
  ページ: 2612-2620
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[雑誌論文] Effect of Anions on Photoreactivity and Stability of Quaternary Ammonium Salts as Photobase Generators2004
- 著者名/発表者名
  K.Suyama, K.Fuke, M.Shirai
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 15-18
- NAID
  130004832967
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[雑誌論文] Crosslinking of Oligomers Utilizing Sensitized Photoreaction at 366 nm and Thermal Decomposition of Pendant Carbamoyloxyimino Groups2004
- 著者名/発表者名
  K.Suyama, H.Iriyama, M.Tsunooka, M.Shirai
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 707-712
- NAID
  130004832990
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[雑誌論文] Development of Photoacid and Photobase Generators and Their Use for Design of Novel Photopolymers2003
- 著者名/発表者名
  M.Tsunooka, K.Suyama, H.Okamura, M.Shirai
- 雑誌名
  
  Nihon Shashin Gakkai Shi (in Japanese) 66
  
  ページ: 355-366
- NAID
  130004284510
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[雑誌論文] Visible Light-Induced Formation of Pendant Basic Groups by Using Triplet Sensitizers
- 著者名/発表者名
  T.Ohba, K.Suyama, M.Shirai
- 雑誌名
  
  React.Funct.Polym. (in press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15550168
[学会発表] リワーク型ジメタクリレートを用いたチオール・エン光ラジカル硬化系の重合連鎖解2014
- 著者名/発表者名
  岡村晴之，山垣将，白井正充，松本章一
- 学会等名
  高分子学会第61回高分子討論会
- 発表場所
  長崎大学、長崎
- 年月日
  2014-09-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] Dual UV curing system using a dimethacrylate containing a chalcone moiety2014
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, Y. Ueda, M. Shirai, and A. Matsumoto
- 学会等名
  RadTech 2014
- 発表場所
  Hyatt Regency O'hare, Chicago, USA
- 年月日
  2014-05-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] カルコン部位含有ジメタクリレートを用いたデュアルUV硬化系の構築2014
- 著者名/発表者名
  岡村晴之，上田勇太，白井正充，松本章一
- 学会等名
  高分子学会第23回ポリマー材料フォーラム
- 発表場所
  奈良公会堂、奈良
- 年月日
  2014-11-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] カルコン部位含有ジメタクリラートを用いたハイブリッドUV硬化系2013
- 著者名/発表者名
  上田勇太，岡村晴之，白井正充
- 学会等名
  第62回高分子学会年次大会
- 発表場所
  京都
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] 分解性を有する架橋・硬化ポリマーの合成と応用2013
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  高分子学会講演会
- 発表場所
  東京
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] i-Line Sensitive PAGs and Their Application to Photocrosslinking System2013
- 著者名/発表者名
  H. Okamura and M. Shirai
- 学会等名
  IUPAC International Symposium on Ionic Polymerization 2013
- 発表場所
  淡路、兵庫
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] リワーク型多官能メタクリラートを用いたUVインプリント用樹脂材料2013
- 著者名/発表者名
  村上雄基，岡村晴之，白井正充
- 学会等名
  第62回高分子学会年次大会
- 発表場所
  京都
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] Hybrid UV Curing System Using Methacryalates Having Chalcone Moiety2013
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, Y. Ueda, and M. Shirai
- 学会等名
  The 30th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] Synthesis of a Dimethacrylate Containing a Chalcone Moiety and Its Application to Hybrid UV Curing System2013
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, Y. Ueda, and M. Shirai
- 学会等名
  The 13th Pacific Polymer Conference
- 発表場所
  高雄、台湾
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] 光重合性部位を有する酸無水物を用いたリワーク型デュアル硬化系の反応設計2013
- 著者名/発表者名
  足立全功，岡村晴之，白井正充
- 学会等名
  高分子学会第61回高分子討論会
- 発表場所
  金沢
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] 濡れ性の差を利用した離型剤フリー樹脂モールド2013
- 著者名/発表者名
  岡村晴之，甲斐康司，白井正充
- 学会等名
  第62回高分子学会年次大会
- 発表場所
  京都
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] 近紫外光対応光酸発生剤とその光架橋系への応用2013
- 著者名/発表者名
  岡村晴之，芦田拓也，小玉晋太朗，白井正充
- 学会等名
  第62回高分子学会年次大会
- 発表場所
  京都
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] リワーク型多官能メタクリラートを用いたUVインプリント用モノマーの設計指針2013
- 著者名/発表者名
  村上雄基，岡村晴之，白井正充
- 学会等名
  高分子学会第61回高分子討論会
- 発表場所
  金沢
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] 光酸発生剤を活用するフォトポリマー材料に関する研究2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  61回高分子討論会
- 発表場所
  名古屋
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] 新規リワーク型多官能メタクリラートのUVインプリント材料への応用2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第61回高分子年次大会
- 発表場所
  横浜
- 年月日
  2012-05-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Photoacid and Photobase Generators for UV Curing2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  The 2nd International Forum on Radiation Curing Industry Developmen
- 発表場所
  中国
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Synthesis and UV curing of multi-functional monomers with degradable property2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  SERMACS 2012
- 発表場所
  アメリカ
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] カルコン部位ジメタクリラートの合成とそのハイブリッドUV硬化系への応用2012
- 著者名/発表者名
  上田勇太、岡村晴之、白井正充
- 学会等名
  第62回ネットワークポリマー講演討論会
- 発表場所
  三重県津市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260
[学会発表] Photoacid and Photobase Generating Monomers: Photochemistry and Application to UV Imprint Materials2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  European Symposium on Photopolymer Science 2012
- 発表場所
  イタリア
- 年月日
  2012-09-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Preparation of Novel Resin Mold fro UV Imprint Lithography using UV-Curable Monomers2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  RadTech UV & EB Technology Expo and Conference
- 発表場所
  アメリカ
- 年月日
  2012-05-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] 新規リワーク型多官能メタクリラートのUVインプリント材料への応用2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第61回高分子学会年次大会
- 発表場所
  横浜
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Preparation of Novel Resin Mold for UV Imprint Lithography using UV-Curable Monomers2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  RadTech UV&EB Technology Expo & Conference
- 発表場所
  アメリカ
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] 再可溶化できる光架橋型高分子2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  プラスチックリサイクル化学研究会（FSRJ）第15回討論会
- 発表場所
  米沢
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] 分解型光硬化樹脂とUVインプリント等への応用2012
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第192回フォトポリマー懇話会講演会
- 発表場所
  東京
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Synthesis and UV Curing of Multi-functional Monomers with Degradable Property2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  SERMACS 2012
- 発表場所
  アメリカ
- 年月日
  2012-11-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Photoacid and Photobase Generators for UV Curing2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  The 2nd International Forum on Radiation Curing Industrial Development
- 発表場所
  中国
- 年月日
  2012-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Photoacid and Photobase generating monomers-Photochemistry and application to UV imprint materials2012
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  European Symposium of Photopolymer Science 2012
- 発表場所
  イタリア
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Novel Monomers with Degradable Property and Their Application to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  Photopolymerization Fundamentals 2011
- 発表場所
  アメリカ
- 年月日
  2011-06-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Imprint Lithography: Process, Materials, Materials, and Applications2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  Korea-Japan Symposium on Frontier Photoscience
- 発表場所
  韓国
- 年月日
  2011-11-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Curing and Degradation of Reworkable Methacrylates Having Hemiacetal Ester LInkage2011
- 著者名/発表者名
  Y.Murakami, H.Okamura, M.Shirai
- 学会等名
  Photopolymerization Fundamentals 2011
- 発表場所
  Breckenridge, Co, USA
- 年月日
  2011-06-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] Novel Resin Mold for UV Nanoimprint: A Demolding Agent Free System2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  37th International Conference on Micro and Nano Engineering
- 発表場所
  Berlin, Germany
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Imprint Lithography : Process, Materials and Applications2011
- 著者名/発表者名
  M.Shirai
- 学会等名
  Korea-Japan Symposium on Frontier Photoscience
- 発表場所
  Seoul, Korea(招待講演)
- 年月日
  2011-10-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] Novel Monomers with Degradable Property and Their Applications to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  M.Shirai
- 学会等名
  Photopolymerization Fundamentals2011
- 発表場所
  Breckenridge, Co, USA(招待講演)
- 年月日
  2011-06-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] リワーク型多官能メタクリラートのＵＶインプリント材料への応用2011
- 著者名/発表者名
  松川大作、村上雄基、岡村晴之、白井正充
- 学会等名
  第６０回高分子年次大会
- 発表場所
  大阪
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Imprint Lithography: Process, Materials and Applications2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  Korea-Japan Symposium on Frontier Photoscience(招待講演)
- 発表場所
  Seoul, Korea
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Reworkable Dimethacrylates Having Hemiacetal Ester Units2011
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, T. Hatsuse, D. Matsukawa, M. Shirai
- 学会等名
  RadTech Asia 2011
- 発表場所
  Yokohama, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Curing of Reworkable Dendrimers2011
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, M. Shirai
- 学会等名
  RadTech Asia 2011
- 発表場所
  Yokohama, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Novel Resin Mold for UV nanoimprint: A Demolding Agent Free System2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  37th International Conference on Micro and NanoEngineering
- 発表場所
  ドイツ
- 年月日
  2011-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Imprint Lithography : Process, Materials and Applications2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  Korea-Japan Symposium on Frontier Photoscience
- 発表場所
  Seoul, Korea
- 年月日
  2011-10-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] Reworkable Resin Using Thiol-Ene System2011
- 著者名/発表者名
  H. Okamura, M. Shirai
- 学会等名
  The 28th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Novel Monomers with Degradable Property and Their Applications to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  Photopolymerization Fundamentals 2011(招待講演)
- 発表場所
  Breckenridge, CO, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Duplication of Mold for UV Imprint Lithography Using UV Curable Resin with Reworkable Property2011
- 著者名/発表者名
  S. Horii, D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 学会等名
  RadTech Asia 2011
- 発表場所
  Yokohama, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Novel Resin Mold for UV Nanoimprint : A Demolding Agent Free System2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  37th International Conference on Micro and Nano Engineering
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2011-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] UV Curing and Degradation of Reworkable Methacrylates Having Hemiacetal Ester LInkage2011
- 著者名/発表者名
  Y. Murakami, H. Okamura, M. Shirai
- 学会等名
  Photopolymerization Fundamentals 2011
- 発表場所
  Breckenridge, CO, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Curing of Reworkable Resin: Analysis of Chain Propagation2011
- 著者名/発表者名
  D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
- 学会等名
  RadTech Asia 2011
- 発表場所
  Yokohama, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Reworkable Dimethacrylates Having Hemiacetal Ester Units2011
- 著者名/発表者名
  H.Okamura, T.Hatsuse, D.Matsukawa, M.Shirai
- 学会等名
  RadTech Asia 2011
- 発表場所
  Yokohama, Japan
- 年月日
  2011-06-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] 離型剤フリーなUVインプリント用モールドのための樹脂材料2011
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第60回高分子年次大会
- 発表場所
  大阪
- 年月日
  2011-05-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] Novel Monomers with Degradable Property and Their Applications to UV Imprint Lithography2011
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  Photopolymerization Fundamentals 2011
- 発表場所
  Breckenridge, CO, USA
- 年月日
  2011-06-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] 離型剤フリーなＵＶインプリント用モールドのための樹脂材料2011
- 著者名/発表者名
  堀井俊哉、岡村晴之、白井正充
- 学会等名
  第６０回高分子年次大会
- 発表場所
  大阪
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23655218
[学会発表] UV Curable Monomers for Imprint Lithography2010
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  RadTech UV & EB 2010 Technology Expo and Conference
- 発表場所
  Baltimore, MD, USA
- 年月日
  2010-05-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] UV Curable Monomers for Imprint Lithography2010
- 著者名/発表者名
  M.Shirai
- 学会等名
  RadTech UV & EB 2010 Technology Expo and Conference
- 発表場所
  Baltimore, MD, USA(招待講演)
- 年月日
  2010-05-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] UV Curable Monomers with Degradable Property-Molecular Design and Application to UV Imprint Lithography2010
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  1st European Symposium of Photopolymer Science
- 発表場所
  Mulhouse, France
- 年月日
  2010-12-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] UV Curable Monomers with Degradable Property-Molecular Design and Application to UV Imprint Lithography-2010
- 著者名/発表者名
  M.Shirai
- 学会等名
  1st European Symposium of Photopolymer Science
- 発表場所
  Mulhouse, France(招待講演)
- 年月日
  2010-12-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] Degradable Resist for UV Nanoimprint Lithography2009
- 著者名/発表者名
  Masamitsu Shirai
- 学会等名
  The International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology
- 発表場所
  米国, サンノゼ
- 年月日
  2009-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] メタクリラートユニットを側鎖に有するヘミアセタールエステルオリゴマーの光架橋と解架橋2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子討論会
- 発表場所
  熊本
- 年月日
  2009-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] ヘミアセタールエステル部位を有する新規メタクリラートの合成とリワーク樹脂への応用2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第59回ネットワークポリマー講演討論会
- 発表場所
  大阪
- 年月日
  2009-10-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] UV Curable Resin with Degradable Property(Invited)2009
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  11th Pacific Polymer Conference 2009
- 発表場所
  Cairns, Australia
- 年月日
  2009-12-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] エポキシ基を含むリワーク型モノマーのUVナノインプリントリソグラフィーへの応用2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子討論会
- 発表場所
  熊本
- 年月日
  2009-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] リワーク型エポキシ樹脂のUVナノインプリントリソグラフィーへの応用2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子学会年次大会
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2009-05-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] UV Curable Resin with Degradable Property(Invited)2009
- 著者名/発表者名
  Masamitsu Shirai
- 学会等名
  11th Pacific Polymer Conference 2009
- 発表場所
  オーストラリア, ケアンズ
- 年月日
  2009-12-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] リワーク能を有する低収縮性UV硬化樹脂2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子学会年次大会
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2009-05-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] リワーク型UV架橋ポリマーの設計と応用(招待講演)2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子学会年次大会
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2009-05-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] リワーク能を有する低収縮性UV硬化樹脂の合成とその応用2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子討論会
- 発表場所
  熊本
- 年月日
  2009-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] リワーク型UV架橋ポリマーの設計と応用2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子学会年次大会
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2009-05-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] リワーク型光硬化樹脂のUVナノインプリントへの応用2009
- 著者名/発表者名
  白井正充
- 学会等名
  第58回高分子学会年次大会
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2009-05-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] Degradable Resist for UV Nanoimprint Lithography2009
- 著者名/発表者名
  M. Shirai
- 学会等名
  The International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology
- 発表場所
  San Jose, CA, USA
- 年月日
  2009-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21350128
[学会発表] 多官能光酸発生剤の合成とその光架橋系への応用
- 著者名/発表者名
  岡村晴之，本谷大地，白井正充
- 学会等名
  高分子学会第59回高分子研究発表会（神戸）
- 発表場所
  神戸
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24550260

1. 岡村晴之 (10316010)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 36件
2. 陶山寛志 (90305649)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 7件
3. 角岡正弘 (50081328)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件

白井 正充 SHIRAI Masamitsu

白井 正光 シライ マサミツ

研究課題

研究成果

共同研究者

多波長光照射で制御する感光性高分子材料の設計指針

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

離型剤を必要としない UV ナノインプリント用樹脂モールドの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

解架橋能を有する光硬化樹脂の合成と犠牲材料への応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

第三級アミンを発生する光塩基発生剤の開発とそれを利用した硬化系の構築

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

環境対応型光架橋性高分子に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

光により酸またはアミンを生成する高分子の合成と応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

光反応を利用する高分子薄膜表面の化学修飾とその応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

光二量化型ポリクラウンエーテルの合成とその応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] 高分子の架橋と分解III2012

著者名/発表者名

総ページ数

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[図書] 光学用粘・接着剤と貼り合わせ技術2012

著者名/発表者名

出版者

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[図書] 光学用粘・接着剤と貼り合わせ技術2012

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出版者

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[図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011

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出版者

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[図書] 高分子の架橋と分解III2011

著者名/発表者名

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[図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011

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[図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011

著者名/発表者名

白井正充 SHIRAI Masamitsu

白井正光シライマサミツ

[図書] 総説エポキシ樹枝最近の進歩I2009