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横谷 篤至  Yokotani Atsushi

ORCIDORCID連携する *注記
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横谷 私至  ヨコタニ アツシ

横谷 篤志  ヨコタニ アツシ

横谷 篤致  ヨコタニ アツシ

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研究者番号 00183989
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2019年度 – 2023年度: 宮崎大学, 工学部, 教授
2006年度 – 2008年度: 宮崎大学, 工学部, 教授
2005年度: 宮崎大学, 工学部, 助教授
1995年度 – 2003年度: 宮崎大学, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野
研究代表者
電子・電気材料工学 / 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連 / 電子・電気材料工学
研究代表者以外
小区分55020:消化器外科学関連 / 電子デバイス・電子機器 / 材料加工・処理 / 電子デバイス・機器工学 / 応用光学・量子光工学 / 応用光学・量子光工学
キーワード
研究代表者
チタン酸バリウム / 真空紫外光 / フェムト秒レーザー / 膜質向上 / barium titanate / 光コンピューター / BaTiO_3 / チタン酸バリウム結晶 / エキシマランプ / 集光光学系 … もっと見る / 分析技術 / 集光照射光学系 / 光脱離分析技術 / レーザー加工 / 近紫外レーザー / 真空紫外 / 分析プローブ / 短パルスレーザー / 2光束干渉 / 真空紫外レーザー / レーザー脱離分析 / photo-chemical vapor deposition / insulator / Via hole / system LSI / vacuum ultraviolet / 光CVD / 積層型システムLSI / 光CVD法 / 絶縁膜 / 貫通電極 / システムLSI / ultraviolet irradiation / Pulsed Laser Deposition / Optical computing / Barium Titanate Thin Film / Barium Titanate / 薄膜作製 / レーザーアブレーション / 紫外線照射 / PLD法 / BaTiO_3薄膜 / BaTiO_3結晶 / pulsed laser deposition / optical computing / 膜質の向上 / エキシマレーザー / レーザーアブレーション法 / 光コンピューテング / optical computer / neuro-computer / photo-refractive effect / 結晶成長 / ニューロコンピューター / フォトリフラクティブ効果 / フォトエッチング / 有機非線形光学結晶 … もっと見る
研究代表者以外
真空紫外光 / light emitted diode / 腫瘍集積性 / 光線力学的療法 / 胆管癌 / エキシマランプ / SHG / DVD / 光CVD / 真空紫外 / 光電界電離 / 希ガスエキシマ / クリック反応技術 / クリック反応 / 糖鎖連結ポルフィリン錯体 / レーザ治療 / 細胞増殖阻止 / ポルフィリン誘導体 / 細胞内局在と細胞死機序 / 水溶性光増感剤 / 糖鎖連結型 / 水溶性ポルフィリン / LED / 消化器癌治療 / 光線力学学的療法 / femto-second laser / System LSI / VUV-CVD / システムLSI / Sip / System in Package / 半導体絶縁膜 / フェムト秒レーザー / 積層型システムLSI / 真空紫外光CVD / Surface alteration / Coherent vacuum ultraviolet emission / Vacuum ultraviolet lamp / Optical field induced ionization / Photo-induced cleaning / Photo-chemical process / Vacuum ultraviolet / Rare gas excimers / 光還元 / ドライプロセス / 表面反応 / 光化学反応 / 表面改質 / コヒーレント真空紫外光 / 真空紫外ランプ / 光洗浄 / 光量子プロセス / wavelength conversion / waveguide / thermal poling / 欠陥 / 二次非線形光学性 / ポーリング / レーザー / 石英ガラス / 非線形光学 / 波長変換 / 薄膜導波路 / 熱ポーリング / ultrashort pulse laser / rare-gas excimer molecule / photo chemical vapor deposition / coherent control / vacuum ultraviolet laser / 非線形結晶 / 長短パルスレーザー / 高強度電子ビーム装置 / コヒーレント光 / 超短パルスレーザー / 希ガスエキシマ分子 / コヒーレント制御 / 真空紫外レーザー / 短波長光源技術 / 光プロセス / 高強度レーザー / 卓上型レーザー / 光物質プロセス / 超短パルス高強度レーザー / 中空ファイバー / ビッカース硬度 / 位相共役 / 有機非線形光学結晶 / LAP / DLAP / 誘導ブリルアン散乱 / ドライエッチング / 超精密加工 / 紫外レーザー / 有機非線形材料 / 結晶成長 / DAST / 単結晶 / 有機非線形光学材料 隠す
  • 研究課題

    (14件)
  • 研究成果

    (67件)
  • 共同研究者

    (19人)
  •  クリック反応技術と軸配位子糖鎖連結ポルフィリン錯体を融合した革新的PDTの開発

    • 研究代表者
      七島 篤志
    • 研究期間 (年度)
      2022 – 2024
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分55020:消化器外科学関連
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  真空紫外短パルスレーザーをプローブとする新しい表面分析技術の開発研究代表者

    • 研究代表者
      横谷 篤至
    • 研究期間 (年度)
      2019 – 2022
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  胆管癌の局所制御増強と光線過敏軽減による普及を目指した次世代光線力学的療法の開発

    • 研究代表者
      七島 篤志
    • 研究期間 (年度)
      2019 – 2021
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分55020:消化器外科学関連
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  中空ファイバーを用いる小型真空紫外レーザーの実現と光物質プロセスへの展開

    • 研究代表者
      窪寺 昌一
    • 研究期間 (年度)
      2006 – 2008
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用光学・量子光工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発研究代表者

    • 研究代表者
      横谷 篤至
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2006
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発

    • 研究代表者
      亀山 晃弘, 黒澤 宏
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  希ガスエキシマランプを用いた光量子洗浄装置の開発

    • 研究代表者
      窪寺 昌一
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      材料加工・処理
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  高性能光コンピュータ用素子結晶の作製技術の開発研究代表者

    • 研究代表者
      横谷 篤至
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  光コンピューター用光演算素子結晶の高品質化研究代表者

    • 研究代表者
      横谷 篤至 (横谷 篤致)
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2000
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  熱ポーリング石英薄膜導波路を用いた光ディスク光源用SHGレーザの開発

    • 研究代表者
      黒沢 宏 (黒澤 宏)
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      宮崎大学
      岡崎国立共同研究機構
  •  超高出力真空紫外レーザーと物質との相互作用

    • 研究代表者
      佐々木 亘
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用光学・量子光工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  エキシマランプを用いた有機非線形光学結晶の微細加工と素子の試作研究代表者

    • 研究代表者
      横谷 篤至
    • 研究期間 (年度)
      1996
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  紫外レーザーを用いた有機材料の超精密加工と波長変換デバイス開発に関する研究

    • 研究代表者
      佐々木 孝友
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1997
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      大阪大学
  •  ニューロコンピューター用高品質チタン酸バリウム単結晶の育成研究代表者

    • 研究代表者
      横谷 篤至
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      宮崎大学

すべて 2022 2021 2020 2009 2008 2007 2006 2005 2004 2003

すべて 雑誌論文 学会発表 産業財産権

  • [雑誌論文] 高性能光ファイバーセンサーの開発2022

    • 著者名/発表者名
      亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至
    • 雑誌名

      レーザー学会第567回研究会報告 フォトニクスワークショップ in 九州(福岡)

      巻: RTM-22-31 ページ: 29-33

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05273
  • [雑誌論文] レーザー脱離分析装置用集光照射部の開発2022

    • 著者名/発表者名
      田中芳樹、中井健太、奥村勇之介、亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至
    • 雑誌名

      宮崎大学工学部紀要

      巻: 51 ページ: 29-34

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05273
  • [雑誌論文] PLD 法によって付着させた Si(111)- 清浄表面上の金原子の STM 観察2021

    • 著者名/発表者名
      高田大河、田中芳樹、永崎誠人、亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至
    • 雑誌名

      宮崎大学紀要

      巻: 50 ページ: 51-54

    • オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05273
  • [雑誌論文] 真空紫外・極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の開発2020

    • 著者名/発表者名
      横谷篤至、亀山晃弘、加来昌典、甲藤正人
    • 雑誌名

      レーザー加工学会誌

      巻: 27 ページ: 13-18

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05273
  • [雑誌論文] OFI rare-gas excimer amplifier for high-intensity VUV pulse generation2009

    • 著者名/発表者名
      M. Katto, M. Kaku, K. Oda, T. Kamikihara, A. Yokotani, S. Kubodera, N. Miyanaga, and K. Mima
    • 雑誌名

      Proc. SPIE vol.7196

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [雑誌論文] Harmonics generation in VUV spectral region driven by a NIR Ti : sapphire laser in rare gases2009

    • 著者名/発表者名
      M. Katto, K. Oda, M. Kaku, S. Kubodera, A.Yokotani, N. Miyanaga, and K. Mima
    • 雑誌名

      Proceedings of SPIE vol.7131

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [雑誌論文] OFI argon excimer amplifier for intense subpicosecond VUV pulse generation2009

    • 著者名/発表者名
      M. Kaku, S. Kubodera, K. Oda, M. Katto, A. Yokotani, N. Miyanaga, and K. Mima
    • 雑誌名

      Proc. SPIE vol.7131

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [雑誌論文] High-intensity subpicosecond vacuum ultraviolet laser system2008

    • 著者名/発表者名
      S. Kubodera, M. Kaku, Y. Taniguchi, M. Katto, A. Yokotani, N. Miyanaga, and K. Mima
    • 雑誌名

      Proc. SPIE vol.6874

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [雑誌論文] Subpicosecond vacuum ultraviolet laser system for advanced materials processing2007

    • 著者名/発表者名
      S. Kubodera, Y. Taniguchi, A. Hosotani, M. Katto, A. Yokotani, N. Miyanaga, and K. Mima
    • 雑誌名

      Proc. SPIE vol.6452

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [雑誌論文] 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究2005

    • 著者名/発表者名
      亀山 晃弘, 甲藤 正人, 横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 雑誌名

      レーザー研究第241回研究会(レーザー応用) RTM-05-32

      ページ: 5-10

    • NAID

      10016859040

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Analysis of the photochemical reaction on the surface for room temperature deposition of SiO2 thin films by photo-CVD using vacuum ultraviolet light2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44(2)

      ページ: 1019-1021

    • NAID

      130004533297

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Poly-crystallized hydroxyapatite coating deposited by pulsed laser deposition method at room temperature2005

    • 著者名/発表者名
      M..Katto, K.Kurosawa, A.Yokotani, S.Kubodera, A.Kameyama, T.Higashiguchi, T.Nakayama, M.Tsukamoto
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 248,1

      ページ: 365-368

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Applications of OLEDs that use VUV-CVD films2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, J.Miyano, A.Yokotani, K.Kurosawa Y Matsumoto
    • 雑誌名

      Journal of the Society for Information Display 13,5

      ページ: 453-457

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femto-second laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44-11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femto- second laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44・11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [雑誌論文] Analysis of the photochemical reaction on the surface for room temperature deposition of SiO2 thin films by photo-CVD using vacuum ultraviolet light2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, K.Amari, Y.Maezono, K.Toshikawa, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44,2

      ページ: 1019-1021

    • NAID

      130004533297

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外光CVDを用いた半導体プロセス低温化技術2005

    • 著者名/発表者名
      横谷 篤至
    • 雑誌名

      電気学会 光・量子デバイス研究会 OQD-04-34

      ページ: 13-18

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femtosecond laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Pysics 44・11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femtosecond laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44(11)

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femtosecond laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, T.Mukumoto, Y.Kanamitsu, H.Fukumoto, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44,11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Amorphous silicon film deposition from SiH4 by chemical vapor deposition with argon excimer lamp2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44,11

      ページ: 7785-7788

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Poly-crystallized hydroxyapatite coating deposited by pulsed laser deposition method at room temperature2005

    • 著者名/発表者名
      M.Katto, K.Kurosawa, A.Yokotani, S.Kubodera, A.Kameyama, T.Higashiguchi, T.Nakayama, M.Tsukamoto
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 248,1

      ページ: 365-368

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Analysis of the Photochemical Reaction on the Surface for Room Temperature Deposition of SiO_2 Thin Films by Photo-CVD using Vacuum Ultraviolet Light2005

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Yokotani
    • 雑誌名

      Jpn.Journal of Applied Physics 44・2

      ページ: 1019-1021

    • NAID

      10014419047

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究2005

    • 著者名/発表者名
      亀山 晃弘, 甲藤 正人, 横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 雑誌名

      レーザー研究第241回研究会(レーザー応用) RTM-05-3 2

      ページ: 5-10

    • NAID

      10016859040

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Applications of OLEDs that use VUV-CVD films2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, J.Miyano, A.Yokotani, K.Kurosawa, Y Matsumoto
    • 雑誌名

      Journal of the Society for Information Display 13,5

      ページ: 453-457

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外エキシマランプ光CVDによるシリカ薄膜常圧形成技術の開発2004

    • 著者名/発表者名
      前園好成, 横谷篤至, 黒澤宏, 菱沼宣是, 松野博光
    • 雑誌名

      レーザー研究 32(1)

      ページ: 54-57

    • NAID

      10011982586

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] シリコン清浄表面上におけるTEOS分子の光分解過程の観測2004

    • 著者名/発表者名
      柳田英明, 上村一秀, 黒澤宏, 横谷篤至
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 124(7)

      ページ: 1410-1415

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] PLD法によるハイドロキシアパタイト被膜の形成2004

    • 著者名/発表者名
      横谷 篤至
    • 雑誌名

      電気学会 光・量子デバイス研究会 OQD-04-33

      ページ: 7-11

    • NAID

      10025660151

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価2004

    • 著者名/発表者名
      横谷 篤至
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C C-124(11)

      ページ: 2267-2273

    • NAID

      10013713752

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外エキシマランプ光CVDによるシリカ薄膜常圧形成技術の開発2004

    • 著者名/発表者名
      横谷 篤至
    • 雑誌名

      レーザー研究 32(1)

      ページ: 54-57

    • NAID

      10011982586

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価2004

    • 著者名/発表者名
      横谷篤至, 水野俊男, 向本徹, 川原公介, 二宮孝文, 沢田博司, 黒澤宏
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 124(11)

      ページ: 2267-2273

    • NAID

      10013713752

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Characterization of SiO_2 Films Deposited by VUV-CVD Using OMCTS Precursor2004

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, J.Miyano, Y.Yagi, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      4^<th>-International Symposium on Dry Process 2004 6(5)

      ページ: 341-346

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外光CVDを用いた半導体プロセス低温化技術2004

    • 著者名/発表者名
      横谷篤至, 甘利紘一, 石村想, 黒澤宏, 歳川清彦, 宮野淳一
    • 雑誌名

      電気学会 光・量子デバイス研究会 OQD-04-34

      ページ: 13-18

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Second-order optical nonlinearity and change in refractive index in silica glasses by a combination of thermal poling and x-ray irradiation2004

    • 著者名/発表者名
      A.Kameyama, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 248,1

      ページ: 4000-4006

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト病レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価2004

    • 著者名/発表者名
      横谷 篤至
    • 雑誌名

      宮崎大学工学部紀要 33

      ページ: 93-99

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] シリコン清浄表面上におけるTEOS分子の光分解過程の観察2004

    • 著者名/発表者名
      横谷 篤至
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C C-124(7)

      ページ: 1410-1415

    • NAID

      10013268147

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外光CVD法による有機シロキサンを用いた酸化膜形成評価2003

    • 著者名/発表者名
      宮野淳一, 黒澤宏, 横谷篤至
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 123(5)

      ページ: 858-863

    • NAID

      130000089275

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Development of Dicing Technique for Thin Semiconductor Substrate With Femtosecond Laser2003

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, Y.Kurogi, N.Matsuo, K.Kurosawa, K.Kawahara, T.Ninomiya, H.Sawada
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 27-30

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Development of Dicing Technique for Thin Semiconductor Substrate With Femtosecond Laser2003

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Proc.of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 27-30

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の加工特性に及ぽす影響2003

    • 著者名/発表者名
      沢田博司, 川原公介, 二宮孝文, 横谷篤至, 黒澤宏
    • 雑誌名

      精密工学会誌 69(1)

      ページ: 83-88

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Second harmonic generation in high-purity silica glasses by a combination of thermal poling and UV laser pulse irradiation2003

    • 著者名/発表者名
      A.Kameyama, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 86-89

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] VUV-CVD法で生成したシリカ膜の電気特性2003

    • 著者名/発表者名
      本山理一, 黒澤宏, 横谷篤至
    • 雑誌名

      電子情報通信学会(エレクトロニクスソサイエティ C) 86(8)

      ページ: 913-919

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Atomospheric pressure deposition of silica thin films by photo-CVD using vacuum ultraviolet excimer lamp2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono, K.Nishi, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of Chemical Vapor Deposition XVI and EUROCVD 14 1

      ページ: 596-602

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Room Temperature Deposition of SiO_2 thin film by Photo-CVD using Vacuum Ultraviolet Light2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono, J.Miyano, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 127-130

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Characteristics of double pulsed femtosecond laser ablation on silicon2003

    • 著者名/発表者名
      T.Ninomiya, H.Sawada, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 7-10

    • NAID

      10010447130

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Growth of oriented LaF_3 thin films on Si(100) substrates by the pursed laser deposition method2003

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      J.Korean Cryst.Growth and Cryst.Technol. 13(4)

      ページ: 157-161

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Growth of orienied LaF_3 thin films on Si (100) substrates by the pulsed laser deposition method2003

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, T.Ito, A.Sato, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      J. Korean Cryst. Growth and Cryst. Technol 13(4)

      ページ: 157-161

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト秒レーザを用いた薄板半導体基板の切断加工技術の開発2003

    • 著者名/発表者名
      横谷篤至, 黒木泰宣, 松尾直之, 川原公介, 二宮孝文, 黒澤宏
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 123(2)

      ページ: 216-221

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] 水溶液あるいは微粒子懸濁液を用いた被膜生成手法(被膜生成方法および被膜生成装置)2006

    • 発明者名
      甲藤 正人, 東口 武史, 窪寺 昌一, 横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-143925
    • 出願年月日
      2006-05-24
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] 光ファイバーブラッググレーティングおよびその作製方法(ファイバブラッググレーティングの消去方法、ファイバブラッググレーテイングの調整方法、ファイバブラッググレーティングを備え光部品の製造方法及び同光部品の製造装置)2006

    • 発明者名
      横谷 篤至, 前薗 好成
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-230997
    • 出願年月日
      2006-08-28
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] 光ファイバーブラッググレーティングおよびその作製方法(ファイバブラッググレーティングの消去方法、ファイバブラッググレーティングの調整方法、ファイバブラッググレーティングを備えた光部品の製造方法及び同光製品の製造装置)2006

    • 発明者名
      横谷 篤至, 前薗 好成
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-230997
    • 出願年月日
      2006-08-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] プラスチック表面の改質方法、プラスチック表面のメッキ方法、プラスチック、プラスチック表面改質装置2006

    • 発明者名
      横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-136944
    • 出願年月日
      2006-05-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] 薄膜作製方法2006

    • 発明者名
      横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-133269
    • 出願年月日
      2006-05-12
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] 被覆の窒化方法2005

    • 発明者名
      横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-254698
    • 出願年月日
      2005-09-02
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] プラスチックの表面の改質方法、プラスチック表面のメッキ方法、プラスチック・プラスチック表面改質装置2005

    • 発明者名
      横谷篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-098776
    • 出願年月日
      2005-03-30
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] 被膜の窒化方法2005

    • 発明者名
      横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-254698
    • 出願年月日
      2005-09-02
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] FBG製造装置2005

    • 発明者名
      黒澤 宏, 横谷 篤至, 亀山 晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306488
    • 出願年月日
      2005-10-21
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] プラスチックの表面の改質方法、プラスチック表面のメッキ方法、プラスチック・プラスチック表面改質装置2005

    • 発明者名
      横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-098776
    • 出願年月日
      2005-03-30
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [産業財産権] FBG製造装置2005

    • 発明者名
      黒澤宏, 横谷篤至, 亀山晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306488
    • 出願年月日
      2005-10-25
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] FBGを用いた歪み計測システム2005

    • 発明者名
      黒澤宏, 横谷篤至, 亀山晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306487
    • 出願年月日
      2005-10-25
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] 被覆の窒化方法2005

    • 発明者名
      黒澤宏, 横谷篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-254698
    • 出願年月日
      2005-09-02
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] FBGを用いた歪み計測システム2005

    • 発明者名
      黒澤 宏, 横谷 篤至, 亀山 晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306487
    • 出願年月日
      2005-10-21
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560288
  • [学会発表] 高性能光ファイバーセンサーの開発2022

    • 著者名/発表者名
      亀山晃弘、甲藤正人、横谷篤至
    • 学会等名
      レーザー学会第567回研究会報告 フォトニクスワークショップ in 九州(福岡)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05273
  • [学会発表] OFI rare-gas excimer amplifier for high-intensity VUV pulse generation2009

    • 著者名/発表者名
      S. Kubodera, M. Kaku, K. Oda, T. Kamikihara, M. Katto, A. Yokotani, N. Miyanaga, and K. Mima
    • 学会等名
      Photonics West 2009 (SPIE Meeting)
    • 発表場所
      San Jose (USA)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [学会発表] Optical amplification of the OFI rare-gas excimers in the vacuum ultraviolet2008

    • 著者名/発表者名
      M. Kaku, S. Harano, S. Touge, M. Katto, A. Yokotani, S. Kubodera, N. Miyanaga, and K. Mima
    • 学会等名
      The 21st Annual Meeting of the IEEE Lasers & Electro-Optics Society (IEEE/LEOS 2008)
    • 発表場所
      Newport Beach (USA)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [学会発表] 真空紫外光源とその応用2007

    • 著者名/発表者名
      窪寺昌一、甲藤正人、横谷篤至
    • 学会等名
      レーザー学会学術講演会第27回年次大会
    • 発表場所
      宮崎
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • [学会発表] 真空紫外光で拓く環境調和型プロセスに向けて~高輝度真空紫外コヒーレント光の発生とその応用技術の開発~2006

    • 著者名/発表者名
      甲藤正人、横谷篤至、窪寺昌一、宮永憲明、三間圀興
    • 学会等名
      第67回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      立命館大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360040
  • 1.  黒澤 宏 (80109892)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 25件
  • 2.  亀山 晃弘 (00264367)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 6件
  • 3.  河仲 準二 (50264362)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  窪寺 昌一 (00264359)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 9件
  • 5.  甲藤 正人 (80268466)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 9件
  • 6.  佐々木 亘 (30081300)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  七島 篤志 (60380838)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  菱川 善隆 (60304276)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  松本 仁 (90363572)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  徐 岩 (40506763)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  加来 昌典 (10425621)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 6件
  • 12.  福井 一俊 (80156752)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 13.  東口 武史 (80336289)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 14.  佐々木 孝友 (50029237)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 15.  吉田 国雄 (70029338)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 16.  山口 優也 (60779966)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 17.  甲斐 健吾 (90851585)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 18.  池ノ上 実 (40612370)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 19.  SAUERBREY Ro
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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