沖村邦雄 OKIMURA KUNIO

研究者番号	00194473
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 東海大学, 工学部, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2021年度 – 2024年度: 東海大学, 工学部, 教授 2015年度 – 2017年度: 東海大学, 工学部, 教授 2009年度 – 2013年度: 東海大学, 工学部, 教授 2010年度: 東海大学, 情報理工学部, 教授 2006年度 – 2008年度: 東海大学, 情報理工学部, 教授 … もっと見る 2005年度: 東海大学, 電子情報学部, 教授 2004年度: 東海大学, 電子情報学部, 助教授 2000年度: 東海大学, 工学部・電子工学科, 助教授 1998年度 – 2000年度: 東海大学, 工学部電子工学科, 助教授 1996年度 – 1997年度: 福井工業高等専門学校, 電子情報工学科, 助教授 1995年度: 福井工業高等専門学校, 電子情報工学科, 講師 1994年度: 福井工業高等専門学校電子情報工学科, 講師 1993年度: 福井工業高等専門学校, 電子情報工学科, 講師隠す
審査区分/研究分野	研究代表者プラズマ科学 / 応用物性・結晶工学 / プラズマ理工学 / 小区分29010:応用物性関連 / 応用物性研究代表者以外材料加工・処理 / 広領域 / 小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連 / プラズマ科学
キーワード	研究代表者相転移酸化物 / エピタキシャル成長 / 相転移 / バナジウム酸化膜 / 機能性酸化物 / 結晶成長 / 二酸化バナジウム薄膜 / 絶縁体－金属転移 / 自励発振現象 / vanadium dioxide … もっと見る / epitaxial growth / ICP-assisted sputtering / ICP支援スパッタ装置 / 薄膜堆積 / 絶縁体金属転移 / バナジウム酸化物 / メモリーデバイス / プラズマプロセス / ICP支援スパッタ成膜法 / スイッチングデバイス / 相共存 / 偏光制御 / ポリイミド膜 / 協調発振現象 / メタマテリアル / テラヘルツ波の透過偏光制御 / ヒステリシス幅 / 自発発振現象 / 相転移VO2素子 / プレーナ型素子 / 電圧印加スイッチング / メタ表面 / 光学透過制御 / テラヘルツ波 / 絶縁体-金属転移 / 配向性TiN電極 / 積層構造素子 / 相転移現象 / 中間状態 / プローバー圧 / 配向成長 / TiNバッファー層 / しきい値スイッチング / 負性抵抗特性 / stoichiometry / planer structure / switching phenomenon / resistive change / metal-insulator transition / ププラズマプロセス / in-situ sputtering / negative oxygen ion / high-density plasma / titanium dioxide / oxide material / アニール挙動 / アナターゼ型Ti酸化膜 / ルチル型Ti酸化膜 / 酸素ラジカル生成 / In-situ連続成膜 / 酸素負イオン生成 / 高密度プラズマ生成 / チタン酸化膜 / アメリカ / フランス / 国際情報交流 / 結晶変態 / 電気的特性 / 酸化バナジウム薄膜 / アニール効果 / マグネリ相 / 酸化状態制御 / スパッタ成膜法 / プラズマパラメータ / He希釈 / 低温成長 / ルチルTiO_2薄膜 / RFマグネトロンスパッタ / ペニング効果 / 電子衝突電離 / 光吸収法 / ラングミュアプローブ / イオン化率 / ルチル型TiO_2 / 熱電子放出プローブ / 反応性スパッタリング … もっと見る研究代表者以外 ceramic coating / nitriding / plasma treatment / 複合処理 / 表面処理 / セラミックコーティング / 窒化 / プラズマ処理 / chromium nitride / suraface treatment / 窒化クロム / duplex treatment / テラヘルツ / 二酸化バナジウム / メタ表面 / スマート反射板 / wear / chromium - nickel / 摩耗 / クロム・ニッケル / 表面改質 / educational use / picture of survey route / equivalent dose rate / NaI (T1) scintillation detector / pulse-count / CsI (T1) scintillation detector / carborne survey / environmental radiation / 環境映像 / 自然放射線量の環境依存 / 計測制御教材 / 小型可搬放射線測定器 / 放射線教育 / surface treatment / 大規模マイクロ波プラズマ / 大規模ラインプラズマ / 大面積プラスティック表面処理 / フレキシブルエレクトロニクス / 太陽電池薄膜CVD / フラットパネルディスプレー / 大面積プラズマ / 大面積プラズマプロセス / 排気効率 / 排気経路 / ガス密度分布 / 弾性散乱電子 / 電子線照射 / ガスノズル / 真空容器隠す

二酸化バナジウムメタ表面を用いたテラヘルツスマート反射板の創成
- 研究代表者
  
  中田陽介
- 研究期間 (年度)
  2023 – 2026
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
- 研究機関
  大阪大学
相転移VO2素子群のモデリング解析とテラヘルツ波の高速変調への応用研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  2021 – 2023
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分29010:応用物性関連
- 研究機関
  東海大学
相転移酸化物薄膜の面直方向スイッチングに基づく低電圧発振素子に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物性
- 研究機関
  東海大学
酸化度の異なる相転移酸化物結晶の成長と電気伝導特性に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2013
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物性・結晶工学
- 研究機関
  東海大学
大規模マイクロ波ラインプラズマの生成技術に関する研究
- 研究代表者
  
  進藤春雄
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマ科学
- 研究機関
  東海大学
相転移酸化物結晶成長と電界誘起スイッチングに関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物性・結晶工学
- 研究機関
  東海大学
プラズマプロセスによる相転移酸化物結晶成長とスイッチングデバイス創製研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2007
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマ科学
- 研究機関
  東海大学
酸素負イオンの挙動に着目したスパッタ酸化膜のエピタキシャル成長に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  2004 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマ科学
- 研究機関
  東海大学
耐環境性を有する高靱性セラミックス及びサーメット厚膜の開発研究
- 研究代表者
  
  安丸尚樹
- 研究期間 (年度)
  1998 – 2000
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  福井工業高等専門学校
プラズマ窒化とクロム系高靱性セラミック及びサ-メット厚膜による高機能複合表面処理
- 研究代表者
  
  安丸尚樹
- 研究期間 (年度)
  1996 – 1997
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  福井工業高等専門学校
環境映像も含む自然放射線経路分布測定システムの試作と放射線教育への利用
- 研究代表者
  
  前多信博
- 研究期間 (年度)
  1996 – 1997
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  広領域
- 研究機関
  福井工業高等専門学校
ガス導入真空容器内のガス密度分布の測定と効率的排気法の研究
- 研究代表者
  
  前多信博
- 研究期間 (年度)
  1995
- 研究種目
  
  試験研究(B)
- 研究分野
  
  広領域
- 研究機関
  福井工業高等専門学校
He希釈RFスパッタによるルチル型TiO_2結晶の低温成長とその機構解明研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  1995
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  プラズマ理工学
- 研究機関
  福井工業高等専門学校
ECR高密度プラズマによる窒化とセラミック膜を複合させた表面高機能化処理
- 研究代表者
  
  安丸尚樹
- 研究期間 (年度)
  1994 – 1995
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  福井工業高等専門学校
プラズマ中蒸発Ti原子のポストイオン化によるTiO_2ルチル作成の試み研究代表者
- 研究代表者
  
  沖村邦雄
- 研究期間 (年度)
  1993
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  プラズマ理工学
- 研究機関
  福井工業高等専門学校

[雑誌論文] Flexible VO2 films grown on ZnO-nanorod buffered polyimide sheets with large insulator metal transition: Evaluation of flexible performance2024
- 著者名/発表者名
  Yukito Ozawa, Rai Hiranabe, Shinpei Shimono, Qiuzhi Liu, and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Journal of Vaccuum Science & Technology A
  
  巻: 42 号: 3
- DOI
  10.1116/6.0003378
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[雑誌論文] Study on Relation Between Voltage-induced Switching Behavior and Self-sustained Electrical Oscillations in Vanadium Dioxide Thin Films2023
- 著者名/発表者名
  Lamisa Hoque, Md. Suruz Mian, Kunio Okimura, and Toshihiro Nakanishi
- 雑誌名
  
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology
  
  巻: 21 号: 4 ページ: 324-330
- DOI
  10.1380/ejssnt.2023-042
- ISSN
  1348-0391
- 年月日
  2023-05-13
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[雑誌論文] Modulation of insulator metal transition of VO2 films grown on Al2O3 (001) and TiO2 (001) substrates by the crystallization of capping Ge2Sb2Te5 layer,2023
- 著者名/発表者名
  Takuto Ohnuki, Kunio Okimura, Reki Nakamoto, Yuji Muraoka, Joe Sakai and Masashi Kuwahara
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 134 号: 24 ページ: 245302-245302
- DOI
  10.1063/5.0176810
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868, KAKENHI-PROJECT-21H01624
[雑誌論文] High luminous transmittance and solar modulation of VO2-based smart windows with SiO2 anti-reflection coatings2023
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, Md. Suruz Mian, Iwao Yamaguchi, and Tetsuo Tsuchiya
- 雑誌名
  
  Solar Energy Materials and Solar Cells
  
  巻: 251 ページ: 112162-112162
- DOI
  10.1016/j.solmat.2022.112162
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[雑誌論文] VO2 films on flexible thin polyimide films: Fabrication and characterization of electrical and optical properties in insulator-metal transition2022
- 著者名/発表者名
  Yuta Miyatake, Yukito Ozawa, Kunio Okimura, and Toshihiro Nakanishi
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology A
  
  巻: 40 号: 4
- DOI
  10.1116/6.0001808
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[雑誌論文] Dynamic inversion of planar-chiral response of terahertz metasurface based on critical transition of checkerboard structures2022
- 著者名/発表者名
  Yoshiro Urade, Kai Fukawa, Fumiaki Miyamaru, Kunio Okimura, Toshihiro Nakanishi, Yosuke Nakata
- 雑誌名
  
  Nanophotonics
  
  巻: 11 号: 9 ページ: 2057-2064
- DOI
  10.1515/nanoph-2021-0671
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[雑誌論文] Approaching ultrathin VO2 films on sapphire (001) substrates by biased reactive sputtering: Characteristic morphology and its effect on the infrared-light switching2021
- 著者名/発表者名
  Okimura Kunio、Sakai Joe、Kuwahara Masashi、Zaghrioui Mustapha、Uehara Yoichi
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology A
  
  巻: 39 号: 4 ページ: 043401-043401
- DOI
  10.1116/6.0001023
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05024, KAKENHI-PROJECT-21K04868
[雑誌論文] Dynamic Quarter‐Wave Metasurface for Efficient Helicity Inversion of Polarization Beyond the Single‐Layer Conversion Limit2021
- 著者名/発表者名
  Kobachi Mitsuki、Miyamaru Fumiaki、Nakanishi Toshihiro、Okimura Kunio、Sanada Atsushi、Nakata Yosuke
- 雑誌名
  
  Advanced Optical Materials
  
  巻: 10 号: 2 ページ: 2101615-2101615
- DOI
  10.1002/adom.202101615
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K05360, KAKENHI-PROJECT-21K04868
[雑誌論文] Low-temperature growth of VO2 films on transparent ZnO/glass and Al-doped ZnO/glass and their optical transition properties2018
- 著者名/発表者名
  Kenta Sato, Hiroaki Hoshino, Md. Suruz Mian, and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films
  
  巻: 651 ページ: 91-96
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Impact of (111)-oriented TiN conductive layers for the growth of vanadium dioxide films and the effect of grain boundary diffusions2018
- 著者名/発表者名
  omohiro Aoto, Kenta Sato, Md. Suruz Mian, and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Jouranal of Alloys and Compounds
  
  巻: 748 ページ: 87-92
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Comparative study of TiN and TiN/Ti as bottom electrodes for layered type devices with phase transition VO2 films2017
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian, , Kunio Okimura, and Masao Kohzaki
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films
  
  巻: 636 ページ: 63-69
- DOI
  10.1016/j.tsf.2017.05.027
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Recrystallization of VO2 films into (011)-oriented micrometer-sized grains on Al2O3 (001) in biased reactive sputtering2017
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan, K. Okimura, K. Matsuoka, Mustapha Zaghrioui, and J. Sakai
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science and Technology A
  
  巻: 35 号: 6
- DOI
  10.1116/1.4989669
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Fabrication of amorphous silicon nitride thin films by radio-frequency sputtering assisted by an inductively coupled plasma2017
- 著者名/発表者名
  Y. Ishii, T. Kaneko, K. Okimura, H. Shindo, and M. Isomura
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films
  
  巻: 624 ページ: 49-53
- DOI
  10.1016/j.tsf.2017.01.022
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Oriented Growth of VO2(B) Thin Films on Mo Foils by Reactive Sputtering for Lithium Ion Batteries2016
- 著者名/発表者名
  Kui Su, Takuya Naka, Nurul Hanis Azhan, Kunio Okimura, and Masashi Higuchi
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films
  
  巻: ６１６ページ: 95-100
- DOI
  10.1016/j.tsf.2016.07.056
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Anisotropic Babinet-Invertible Metasurfaces to Realize Transmission-Reflection Switching for Orthogonal Polarizations of Light2016
- 著者名/発表者名
  Yosuke Nakata, Yoshiro Urade, Kunio Okimura, Toshihiro Nakanishi, Fumiaki Miyamaru, Mitsuo W. Takeda, and Masao Kitano
- 雑誌名
  
  Physical Review Applied
  
  巻: 6 号: 4 ページ: 044022-044022
- DOI
  10.1103/physrevapplied.6.044022
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15J07603, KAKENHI-PROJECT-15K04652, KAKENHI-PROJECT-16K13699
[雑誌論文] Large modification in insulator-metal transition of VO2 films grown on Al2O3 (001) by high energy ion irradiation in biased reactive sputtering2016
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan, Kunio Okimura, Yoshiyuki Ohtsubo, Shin-ichi Kimura, Mustapha Zaghrioui, and Joe Sakai
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 119 号: 5
- DOI
  10.1063/1.4941348
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652, KAKENHI-PROJECT-26887024, KAKENHI-PROJECT-15H03676
[雑誌論文] Dynamically Babinet-invertible metasurface: a capacitive-inductive reconfigurable filter for terahertz waves using vanadium-dioxide metal-insulator transition2016
- 著者名/発表者名
  Yoshiro Urade, Yosuke Nakata, Kunio Okimura, Toshihiro Nakanishi, Fumiaki Miyamaru, Mitsuo Wada Takeda, and Masao Kitano
- 雑誌名
  
  Optics Express
  
  巻: 24 号: 5 ページ: 4405-4410
- DOI
  10.1364/oe.24.004405
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15J07603, KAKENHI-PROJECT-25790065, KAKENHI-PROJECT-15K04652, KAKENHI-PROJECT-16K13699
[雑誌論文] Self-oscillation up to 9 MHz based on voltage triggered switching in VO2/TiN point contact junctions2015
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian, Kunio Okimura, Joe Sakai
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 117 号: 21
- DOI
  10.1063/1.4922122
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Radio frequency substrate biasing effects on the insulator-metal transition behavior of reactively sputtered VO2 films on sapphire (001)2015
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan, Ku Sui, Kunio Okimura, and Joe Sakai
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 117 号: 18
- DOI
  10.1063/1.4921105
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[雑誌論文] Effects of energetic substrate-incident ions on the growth of crystalline vanadium dioxide films in inductively coupled plasma-assisted sputtering2014
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: vol.53, No.3 ページ: 35802-35802
- NAID
  210000143443
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Temperature-dependent Raman and UPS studies on phase transition behavior of VO2 films with M1 and M2 phases2014
- 著者名/発表者名
  K. Okimura, N. H. Azhan, T. Hajiri, S. Kimura, M. Zaghrioui, J. Sakai
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 115 号: 15 ページ: 153501-153501
- DOI
  10.1063/1.4870868
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13J02477, KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Temperature - dependent Raman and UPS studies on phase transition behavior of VO_2 films with M1 and M2 phases2014
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, Nurul Hanis Azhan, Tetsuya Hajiri, Shin-ichi Kimura, Mustapha Zaghrioui and Joe Sakai
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys.
  
  巻: vol.115 ページ: 153501-153501
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Effects of energetic substrate-incident ions on the growth of crystalline vanadium dioxidefilms in inductively coupled plasma-assisted sputtering2014
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese. Journal of Applied Physics
  
  巻: 53 号: 3 ページ: 035802-035802
- DOI
  10.7567/jjap.53.035802
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Phase selective growth and characterization of vanadium dioxide films on silicon substrates2013
- 著者名/発表者名
  Tomo Watanabe, Kunio Okimura, Shin-ichi Kimura, Tetsuya Hajiri and Joe Sakai
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys.
  
  巻: vol.113 ページ: 163503-163503
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Pulsed laser-deposited VO2 thin films on Pt layers2013
- 著者名/発表者名
  Joe Sakai,Mustapha Zaghrioui, Vinh Ta Phuoc, Sylvain Roger, C_ecile Autret-Lambert, and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 113 号: 12
- DOI
  10.1063/1.4795813
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Pulsed laser-deposited VO_2 thin films on Pt layers2013
- 著者名/発表者名
  Joe Sakai, Mustapha Zaghrioui, Vinh Ta Phuoc, Sylvain Roger, Cecile Autret-Lambert, and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys.
  
  巻: vol.113 ページ: 123503-123503
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Phase Selective Growth and Characterization of Vanadium Dioxide Films on Silicon Substrates2013
- 著者名/発表者名
  Tomo Watanabe, Kunio Okimura, Tetsuya Hajiri, Shin-ichi Kimura, and Joe Sakai
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 113 号: 16
- DOI
  10.1063/1.4802652
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Stress-induced VO2 films with M2 monoclinic phase stable at room temperature grown by inductively coupled plasma-assisted reactive sputtering2012
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, Tomo Watanabe, and Joe Sakai
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 111 号: 7
- DOI
  10.1063/1.3700210
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Stress-induced VO_2 films with M2 monoclinic phase stable at room temperature grown by inductively coupled plasma-assisted reactive sputtering2012
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, Tomo Watanabe, and Joe Sakai
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys.
  
  巻: vol.111 ページ: 73514-73514
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Low-temperature oriented growth of vanadium dioxide films on CoCrTa metal template on Si and vertical metal-insulator transition2012
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, and Md.Suruz Mian
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol.
  
  巻: A 30 ページ: 51502-51502
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Low-temperature oriented growth of vanadium dioxide films on CoCrTa metal template on Si and vertical metal-insulator transition2012
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, and Md.Suruz Mian
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science and Technology A
  
  巻: 30 号: 5
- DOI
  10.1116/1.4733995
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] 反応性スパッタ法による相転移V_2O_3薄膜のサファイア基板上へのエピタキシャル成長2011
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄,鈴木康史
- 雑誌名
  
  Journal of the Vacuum Society of Japan (真空)
  
  巻: Vol.54, No3 ページ: 169-172
- NAID
  10028057028
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] 反応性スパッタ法による相転移V_2O_3薄膜のサファイア基板上へのエピタキシャル成長2011
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄, 鈴木康史
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Society of Japan
  
  巻: 54(印刷中)
- NAID
  10028057028
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Photo-induced lattice softening of excited-state VO_22011
- 著者名/発表者名
  Masaki Hada, Kunio Okimura and Jiro Matsuo
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Lett.
  
  巻: 99 ページ: 51903-51903
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Epitaxial Growth of V2O3 Thin Films on c-Al2O3 in Reactive Sputtering and Its Transformation to VO2 Films by Post-annealing2011
- 著者名/発表者名
  K.Okimura and Y.Suzuki
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 50 号: 6R ページ: 065803-065803
- DOI
  10.1143/jjap.50.065803
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] Epitaxial Growth of V_2O_3 Thin Films on c-Al_2O_3 in Reactive Sputtering and Its Transformation to VO_2 Films by Post-annealing2011
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura and Yasushi Suzuki
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: Vol.50, No.6 ページ: 65803-65803
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[雑誌論文] In-situ X-ray diffraction studies on epitaxial VO_2 films grown on c-Al_2O_3 during thermally induced insulator-metal transition2010
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, J.Sakai, S.Ramanatha
- 雑誌名
  
  J.Appl.Phys. Vol.107
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Characterization of structural dynamics of VO2 thin film on c-Al2O3 using in-air time-resolved X-ray diffraction2010
- 著者名/発表者名
  M.Hada, K.Okimura, J.Matsuo
- 雑誌名
  
  Phy.Rev.B 82
  
  ページ: 153401-153401
- NAID
  120002661515
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Characterization of structural dynamics of VO_2 thin film on c-Al_2O_3 using in-air time-resolved X-ray diffraction2010
- 著者名/発表者名
  M.Hada, K.Okimura, J.Matsuo
- 雑誌名
  
  Physical Review B
  
  巻: 82
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] In-situ X-ray diffraction studies on epitaxial VO_2 films grown on c-Al_2O_3 during thermally induced insulator-metal transition2010
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, J.Sakai, S.Ramanathan
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 107
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] サファイア基板上VO_2薄膜の結晶構造転移の温度依存性2009
- 著者名/発表者名
  小池秀明,野中利倫,沖村邦雄
- 雑誌名
  
  真空 Vol.52, No3
  
  ページ: 167-1970
- NAID
  10024897925
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Effect of annealing with Ar plasma irradiation for transparent conductive Nb-doped TiO_2 films on glass substrate2009
- 著者名/発表者名
  M.Hojo, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. Vol.48, Special Issue
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Changes in Lattice Parameters of VO_2 Films Grown on c-Al_2O_3 Substrate across Metal-Insulator Transition2009
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, J.Sakai
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. Vol.48, No.4
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Electric Field-Induced Multi-Step Resistance Switching Phenomena in a Planer VO_2/c-Al_2O_3 Structure2009
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, Nurul Ezreena, Y.Sasakawa, J.Sakai
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.48
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Effect of Light Irradiation on Electric Field Induced Resistance Switching Phenomenon in Planer VO_2/c-Al_2O_3 Structure2009
- 著者名/発表者名
  Nurul Ezreena Mohamad, K.Okimura, J.Sakai
- 雑誌名
  
  International Journal of Nanoscience Nos.1 & 2
  
  ページ: 147-150
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Effect of annealing with Ar plasma irradiation for transparent conductive Nb-doped TiO_2 films on glass substrate2009
- 著者名/発表者名
  M.Hojo, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.48
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] サファイア基板上VO_2薄膜の結晶構造転移の温度依存性2009
- 著者名/発表者名
  小池秀明, 野中利倫, 沖村邦雄
- 雑誌名
  
  Journal of the Vacuum Society of Japan 第52巻3号
  
  ページ: 167-170
- NAID
  10024897925
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Electric Field-Induced Multi-Step Resistance Switching Phenomena in a Planer VO_2/c-Al_2O_3 Structure2009
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, Nurul Ezreena, Y.Sasakawa, J.Sakai
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. Vol.48, No.6
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Changes in Lattice Parameters of VO_2 Films Grown on c-Al_2O_3 Sub-strate across Metal-Insulator Transition2009
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, J.Sakai
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.48
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Advantages of Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering for Preparation of Stoichiometric VO_2 films with Metal Insulator Transition2008
- 著者名/発表者名
  Y.Nihei, Y.Sasakawa and K.Okimura
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films (On-line)
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Advantages of Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering for Preparation of Stoichiometric VO_2 films with Metal-Insulator Transition2008
- 著者名/発表者名
  Y. Nihei, Y. Sasakawa, K. Okimura
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol. 516
  
  ページ: 3572-3576
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Advantages of Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering for Preparation of Ctoichiometric VO_2 films with Metal-Insulator Transition2008
- 著者名/発表者名
  Yusuke Nihei, Yusuke Sasakawa and Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol.516
  
  ページ: 3572-3576
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Effect of annealing with Ar plasma irradiation for transparent conductive Nb-doped TiO_2 films on glass substrate2008
- 著者名/発表者名
  Mika Hojo, Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of International Symposium on Dry Process 2008
  
  ページ: 195-196
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Advantages of Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering for Preparation of Stoichiometric VO_2 films with Metal-Insulator Transition2008
- 著者名/発表者名
  Y.Nihei, Y.Sasakawa, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol.516
  
  ページ: 3572-3576
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[雑誌論文] Advantages of Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering for Preparation of Stoichiometric V0_2 films with Metal-Insulator Transition2008
- 著者名/発表者名
  Yusuke, Nihei, Yusuke, Sasakawa, Kunio, Okimura
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol. 516
  
  ページ: 3572-3576
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Time-dependent Characteristics of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Planer VO_2/Al_2O_3 Structure2007
- 著者名/発表者名
  K.Okimura and J.Sakai
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.46,No.34
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Electric Field Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Films on Sapphire Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2007
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, Yusuke Nihei and Yusuke Sasakawa
- 雑誌名
  
  Solid State Phenomena Vols.123-126
  
  ページ: 703-706
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Growth of VO_2 films with metal-insulator transition on silicon substrates in inductively coupled plasma-assisted sputtering2007
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, N.Kubo
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol.515
  
  ページ: 4992-4995
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Time-dependent Characteristics of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Planer VO_2/Al_2O_3 Structure2007
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura and J Sakai
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.46,No.34
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Electric Field Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Films on Sapphire Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2007
- 著者名/発表者名
  Kunio, Okimura, Yusuke, Nihei, Yusuke, Sasakawa
- 雑誌名
  
  Solid State Phenomena Vol. 124-126
  
  ページ: 703-706
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Growth of V0_2 films with metal-insulator transition on silicon substrates in inductively coupled plasma -assisted sputtering2007
- 著者名/発表者名
  Kunio, Okimura, N., Kubo
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol. 515
  
  ページ: 4992-4995
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Electric Field Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Films on Sapphire Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2007
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, Y.Nihei, Y.sasakawa
- 雑誌名
  
  Solid State Phenomena Vols.124-126
  
  ページ: 703-706
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Growth of VO_2 films wtih metal-insulator transition on silicon substrates in inductively coupled plasma-assisted sputtering2007
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura and N.Kubo
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol.515
  
  ページ: 4992-4995
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Time-dependent Characteristics of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Planer VO_2 /Al_2O_3 Structure2007
- 著者名/発表者名
  Kunio, Okimura, J, Sakai
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol. 46, No. 34
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Advantages of Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering for Preparation of Stoichiometric VO_2 Films with Metal-Insulator Transition2006
- 著者名/発表者名
  Y.Nihei, Y.Sasakawa, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of 6^<th> International Symposium on Dry Process
  
  ページ: 117-118
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] X-ray Diffraction Study of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Film on Sapphire Substrate2006
- 著者名/発表者名
  Kunio, Okimura, Yusuke, Sasakawa, Yusuke, Nihei
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45, No. 12
  
  ページ: 9200-9202
- NAID
  40015182135
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] X-ray Diffraction Study of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Film on Sapphire Substrate2006
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, Y.Sasakawa, Y.Nihei
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.45
  
  ページ: 9200-9202
- NAID
  40015182135
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Highly Oriented Growth of Sb-doped SnO_2 Films on A1_2O_3 substrate in ICP-Assisted Reactive Sputtering2006
- 著者名/発表者名
  T.Sugimoto, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of the 6^<th> International Conference on Reactive Plasmas and 23^<rd> Symposium on Plasma Processing
  
  ページ: 661-662
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] X-ray Diffraction Study of Electric Field-Induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Film on Sapphire Substrate2006
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, Yusuke Sasakawa and Yusuke Nihei
- 雑誌名
  
  Japanese Jouranl of Applied Physics Vol.45,No.12
  
  ページ: 9200-9202
- NAID
  40015182135
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Epitaxial Growth of Conductive Anatase TiO_2 : Nb Films on SrTiO_3 Substrate by Reactive Sputtering2006
- 著者名/発表者名
  J.Takayama, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of 6^<th> International Symposium on Dry Process
  
  ページ: 269-270
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[雑誌論文] Selective Growth of Rutile and Anatase TiO_2 Films on MgO substrate Using TiN Buffer Layer in Reactive Sputtering2006
- 著者名/発表者名
  J.Takayama, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of the 6^<th> International Conference on Reactive Plasmas and 23^<rd> Symposium on Plasma Processing
  
  ページ: 659-660
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Growth of VO_2 Films with Metal-Insulator Transition on Silicon Substrates by Inducitvely Coupled Plasma-Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of 27^th International Symposium on Dry Process
  
  ページ: 317-318
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] In-Plane Orientation and Annealing Behavior of Rutile TiO_2 Films on MgO Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44, No.5A
  
  ページ: 3192-3195
- NAID
  10015707072
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] In-Plane Orientation of Epitaxially Grown Rutile TiO2 Films on MgO Substrate in ICP-Assisted Reactive Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  T.Furumi, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Proceeding of Plasma Science Symposium 2005/The 22^<th> Symposium on Plasma Processing
  
  ページ: 383-384
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] In-Plane Orientation and Annealing Behavior of Rutile TiO_2 Films on MgO Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, T.Furumi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44, No.5A
  
  ページ: 3192-3195
- NAID
  10015707072
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Growth of VO_2 Films with Metal Insulator Transition on Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, N.Kubo
- 雑誌名
  
  Proceedings of 27th International Symposium on Dry Process
  
  ページ: 317-318
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Preparation of VO_2 Films with Metal-Insulator on Sapphire and Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44,No.36
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] In-Plane Orientation and Annealing Behavior of Rutile TiO_2 Films on MgO Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44,No.5A
  
  ページ: 3192-3195
- NAID
  10015707072
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Preparation of VO_2 Films with Metal-Insulator Transition on Sapphire and Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44, No.36
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] In-Plane Orientation and Annealing Behavior of Rutile TiO2 Films on MgO Substrate Prepared by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputterin2005
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, T.Furumi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44,No.5A(accepted for publication)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Preparation of VO_2 Films with Metal-Insulator Transition on Sapphire and Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, N.Kubo
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44, No.36
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Growth of VO_2 Films with Metal-Insulator Transition on Silicon Substrates by Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2005
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of 27^<th> International Symposium on Dry Process
  
  ページ: 317-318
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Performance of Ihductively Coupled Plasma Source with an External Coil for Sputtering of Titanium Oxide2005
- 著者名/発表者名
  K.Okamura, K.Okimura
- 雑誌名
  
  Proceedings of Plasma Science Symposium 2005/The 22^<th> Symposium on Plasma Processing
  
  ページ: 387-388
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Epitaxial Growth of TiO_2 Films on MgO Substrate in Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2004
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.44,No.5B
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Epitaxial Growth of Rutile TiO_2 Films on MgO Substrate in Inductively Coupled Plasma-Assisted Sputtering2004
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.43, No.5B
- NAID
  10012930898
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[雑誌論文] Epitaxial Growth of Rutile TiO2 Films on MgO Substrate in Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering2004
- 著者名/発表者名
  K.Okimura, T.Furumi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.43,No.5B
- NAID
  130004532032
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16540454
[産業財産権] メモリー素子の製造方法およびメモリー素子2007
- 発明者名
  沖村邦雄, 笹川裕介
- 権利者名
  学校法人東海大学
- 産業財産権番号
  2007-038800
- 出願年月日
  2007-02-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[学会発表] 対向電極を有するプレーナー型VO2素子の自励発振に関する研究 -発振周波数の回路パラメータ及び素子温度依存性-2024
- 著者名/発表者名
  樹所純平、沖村邦雄、モハメッドシュルズミヤ、中西俊博
- 学会等名
  第71回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] ZnOナノロッドバッファ層導入によるpolyimide上VO2膜のIMT特性の改善2023
- 著者名/発表者名
  小澤雪斗、宮武佑多、沖村邦雄
- 学会等名
  第70回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] Self-sustained electrical oscillations based on negative resistance switching of VO2 thin films grown on Al2O3 (001) with planer facing electrodes2023
- 著者名/発表者名
  Junpei Kidokoro, Lamisa Hoque, Mian Md.Suruz, Kunio Okimura, and Toshihiro Nakanishi
- 学会等名
  International grand meeting, MRM2023/IUMRS-ICA2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] Self-sustained electrical oscillations of VO2-based planar devices and their coupled oscillation phenomena2023
- 著者名/発表者名
  Junpei Kidokoro, Kunio Okimura, Suruz Md Mian, Lamisa Hoque, and Toshihiro Nakanishi
- 学会等名
  日本表面真空学会学術講演会 JVSS2023
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] Emerging technologies utilizing vanadium dioxide films with insulator metal transition 　- Smart windows for energy savings and self-sustained electrical oscillations -2023
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 学会等名
  日本表面真空学会学術講演会 JVSS2023
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] 導電性ITO上相転移VO2薄膜の電圧印加自励発振現象に関する研究 -電極用コンタクトプローブ圧の効果-2023
- 著者名/発表者名
  ラミサホック、モハメッドシュルズミヤ、沖村邦雄、中西俊博
- 学会等名
  第70回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] Study on Relation Between Voltage-induced Switching Behavior and Self-sustained Electrical Oscillations in Vanadium Dioxide Thin Films2022
- 著者名/発表者名
  Lamisa Hoque, Md. Suruz Mian, Kunio Okimura, Toshihiro Nakanishi
- 学会等名
  22nd International Vacuum Congress (IVC-22)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] ポリイミド膜上への相転移VO2薄膜成長と電気的・光学的特性評価2022
- 著者名/発表者名
  小澤雪斗、宮武佑多、沖村邦雄、中西俊博
- 学会等名
  第83回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] Fabrication and Characterization of Flexible VO2 Films on Polyimide Sheets with Insulator-Metal Transition2022
- 著者名/発表者名
  Yuta Miyatake, Yukito Ozawa, Kunio Okimura, Toshihiro Nakanishi
- 学会等名
  22nd International Vacuum Congress (IVC-22)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] ポリイミド上へのVO2薄膜成長と剥離後の電気的特性評価2021
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄，宮武佑多, 中西俊博
- 学会等名
  2021年日本表面真空学会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] Smart windows for energy savings and emerging technologies utilizing vanadium dioxide films with insulator-metal transition2021
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura
- 学会等名
  12th ISAJ (Indian Scientists Association in Japan) Symposium, 2021
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] ポリイミド膜上へのVO2薄膜成長と電気的特性評価2021
- 著者名/発表者名
  宮武佑多，沖村邦雄，中西俊博
- 学会等名
  第82回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04868
[学会発表] TiN導電層上VO2薄膜における自励発振特性の電極探針荷重依存性2018
- 著者名/発表者名
  戸部　龍太, 青戸　智寛, 北川　陽介, 間宮　圭亮，沖村邦雄
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] TiN(111)配向基板の導入による相転移VO2薄膜の配向成長と粒界拡散効果2018
- 著者名/発表者名
  青戸智寛, 沖村邦雄
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Phase Transition Properties of VO2 Thin Films on Conductive TiN Layers2017
- 著者名/発表者名
  R. Tobe, T, Aoto, K. Sato, Md. Suruz Mian, and K. Okimura
- 学会等名
  Micro/Nano Technology Center International Symposium (mntcis2017)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Electrical and optical properties of VO2 films deposited on conductive Al:ZnO layer2017
- 著者名/発表者名
  Kenta Sato, Hiroaki Hoshino, Md. Suruz Mian, Kunio Okimura, Yoshio Yasumori
- 学会等名
  The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 2017)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Self-oscillation characteristics of oriented VO2 films on conductive TiN/Ti layers2017
- 著者名/発表者名
  Tomohiro Aoto, Kenta Sato, Md. Suruz Mian, Kunio Okimura
- 学会等名
  The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 2017)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Growth of VO2 thin films on transparent conductive Al-doped ZnO films on glass substrates2017
- 著者名/発表者名
  H. Hoshino, K. Sato, M.S. Mian, Y. Yasumori, and K. Okimura
- 学会等名
  The 14th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2017)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] VO2/TiN/Ti/Si積層構造デバイスにおけるマルチステップ発振2017
- 著者名/発表者名
  青戸智寛，佐藤賢太，モハメッドシュルズミヤ，沖村邦雄
- 学会等名
  第64回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  パシフィコヨコハマ
- 年月日
  2017-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Oriented growth of VO2 thin films on conductive TiN/Ti layers and thiir self-oscillations phenomena2017
- 著者名/発表者名
  T. Aoto, K. Sato, M.S. Mian, and K. Okimura
- 学会等名
  The 14th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2017)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] 相転移VO2における金属的状態間を遷移する発振現象2017
- 著者名/発表者名
  青戸智寛, 沖村邦雄
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Low temperature growth of VO2 films on ZnO/glass and their transition properties2016
- 著者名/発表者名
  K. Sato, H. Hoshino, Md. Suruz Mian, and K. Okimura
- 学会等名
  The 26th Annual meeting of MRS-J International Symposium: Advanced Functional Oxide Materials
- 発表場所
  Yokohama Port Opening Plaza
- 年月日
  2016-12-19
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] ZnO/glass上への反応性スパッタ法によるVO2薄膜の低温成長と特性評価2016
- 著者名/発表者名
  佐藤賢太，星野寛明，モハメッドシュルズミヤ，沖村邦雄
- 学会等名
  第77回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  朱鷺メッセ・新潟
- 年月日
  2016-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] 導電性ITO層上に成長したM2相VO2薄膜のIMT特性及び自励発振特性2016
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ，佐藤賢太，按田祐輔，椎名庸介，沖村邦雄，坂井　穣
- 学会等名
  第63回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東京工業大学大岡山キャンパス
- 年月日
  2016-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] 導電性TiN層上への相転移VO2薄膜の配向成長と転移特性評価2016
- 著者名/発表者名
  青戸智寛, 田邊祐大, 中村拓也, 佐藤賢太, モハメッドシュルズミヤ，沖村邦雄
- 学会等名
  第36回表面科学学術講演会・第57回真空に関する連合講演会(真空・表面合同講演会2016)
- 発表場所
  名古屋国際会議場
- 年月日
  2016-11-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Characteristic μm-sized VO2 domains grown on Al2O3 (001) deposited under particular substrate biasing conditions2016
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan, Kunio Okimura, Mustapha Zaghrioui, and Joe Sakai
- 学会等名
  The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE18)
- 発表場所
  Nagoya International Convention Center
- 年月日
  2016-08-07
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] High frequency self-oscillations in VO2 based out-of-plane device structure2015
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian, Kunio Okimura, Joe Sakai
- 学会等名
  The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2015)
- 発表場所
  Kyoto Research Park
- 年月日
  2015-07-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] Voltage induced electrical oscillation in VO2-based layered structure device2015
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian, Kunio Okimura and Joe Sakai
- 学会等名
  14th International Union of Materials Research Societies – International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM)
- 発表場所
  Jeju International Convention Center, Korea
- 年月日
  2015-10-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] VO2/Ti/Si点接触積層型デバイスにおける自励発振現象のパラメータ依存性2015
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ，沖村邦雄，坂井　穣
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場
- 年月日
  2015-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04652
[学会発表] 反応性スパッタ法によるVO_2(B)薄膜の成長とアニールによるVO_2(M1)への変換2014
- 著者名/発表者名
  ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会予稿集
- 発表場所
  青山学院大学(19a-E8-8)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] TiN導電バッファー層によるVO2薄膜の結晶成長及び転移特性の改善2014
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ, 沖村邦雄
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] 反応性スパッタ法によるVO2(B)薄膜の成長とアニールによるVO2(M1)への変態2014
- 著者名/発表者名
  ヌルーハニスアズハン, 蘇　魁, 沖村邦雄
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] TiNバッファー層によるVO_2薄膜の結晶成長及び転移特性の改善2014
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会予稿集
- 発表場所
  青山学院大学(18a-E8-6)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] スパッタ法により堆積したVO2薄膜の電気的特性とポストアニールによる伝導型反転2013
- 著者名/発表者名
  ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
- 学会等名
  第74回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  同志社大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法における基板入射イオンエネルギー分析とVO_2薄膜の低温成長に関する研究2013
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ,ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
- 学会等名
  第74回応用物理学会学術講演会予稿集
- 発表場所
  同志社大学(16p-D3-3)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Insulator-metal Transition of VO_2 Films on Noble Metal Bottom Electrodes2013
- 著者名/発表者名
  J. Sakai, M. Zaghrioui, V. T. Phuoc, J. Wolfman, and K. Okimura
- 学会等名
  2013JSAP-MRS Joint Symposium
- 発表場所
  同志社大学(19a-M6-8, JSAP-MRS-E-008)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO_2薄膜の低温成長と積層方向スイッチング2013
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工大(29p-F2-19)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Electrical Properties of VO2 Thin Films and Post-annealing Effects on the Growth of Non-stoichiometric VOx2013
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
- 学会等名
  MJIIT-JUC Joint Symposium 2013 (MJJS 2013)
- 発表場所
  東海大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Layered growth of vanadium dioxide films on Ti/Si by inductively coupled plasma assisted sputtering method and out-of-plane electrical switching characteristics2013
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
- 学会等名
  Proceedings of. 12^<th> International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
- 発表場所
  Kyoto
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] スパッタ法により堆積したVO_2薄膜の電気的特性とポストアニールによる伝導型反転2013
- 著者名/発表者名
  ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
- 学会等名
  第74回応用物理学会学術講演会予稿集
- 発表場所
  同志社大学(16p-D3-5)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法における基板入射イオンエネルギー分析とVO2薄膜の低温成長に関する研究2013
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ，ヌルーハニスアズハン,沖村邦雄
- 学会等名
  第74回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  同志社大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Electrical Properties of Post-annealed VO2 Thin Films on Silicon Substrates with Metal-Insulator Transition2013
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
- 学会等名
  12th International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
- 発表場所
  Kyoto Research Park
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO2薄膜の低温成長と積層方向スイッチング2013
- 著者名/発表者名
  モハメッド　シュルズ　ミヤ，沖村邦雄
- 学会等名
  第60回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Layered growth of vanadium dioxide films on Ti/Si by inductively coupled plasma assisted sputtering method and out-of-plane electrical switching characteristics2013
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
- 学会等名
  12th International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
- 発表場所
  Kyoto Research Park
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ガラス基板上M2相VO2薄膜の結晶構造変態と金属‐絶縁体転移特性2013
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄，渡辺　智，坂井　穣
- 学会等名
  第60回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Electrical Properties of VO_2 Thin Films and Post-annealing Effects on the Growth of Non-stoichiometric VOx2013
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
- 学会等名
  MJIIT-JUC Joint Symposium 2013 (MJJS 2013)
- 発表場所
  Tokai University, Hiratsuka, Japan(Proceedings ES-2-2)
- 年月日
  2013-11-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Electrical Properties of Post-annealed VO_2 Thin Films on Silicon Substrates with Metal-Insulator Transition2013
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
- 学会等名
  Proceedings of. 12^<th> International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
- 発表場所
  Kyoto
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ガラス基板上M2相VO_2薄膜の結晶構造変態と金属-絶縁体転移特性2013
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄,渡部智,坂井穣
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工大(29p-F2-18)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] 反応性スパッタ法によるマグネリ相を含む低酸化度バナジウム酸化膜堆積2012
- 著者名/発表者名
  鈴木康史,沖村邦雄
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学(17p-F6-14)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ストレス誘起M2相VO2薄膜の電子状態と相転移特性2012
- 著者名/発表者名
  渡部智，モハメッドシュルズミヤ，沖村邦雄，坂井穣
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Vanadium Dioxide Film Growth onn Titanium Metal Layer on Si (100) by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering Method2012
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
- 学会等名
  MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
- 発表場所
  MJIIT, UTM, KL, Malaysia(Proceedings ESE-8)
- 年月日
  2012-11-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Electrical Properties of Vanadium Dioxide Thin Films on Silicon Substrate with Metal-Insulator Transition2012
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
- 学会等名
  MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
- 発表場所
  MJIIT, UTM, KL, Malaysia(Proceedings ESE-8)
- 年月日
  2012-11-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Electrical Properties of Vanadium Dioxide Thin Films on Silicon Substrate with Metal-Insulator Transition2012
- 著者名/発表者名
  Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
- 学会等名
  MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
- 発表場所
  Kuala Lumpur, Malaysia
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Vanadium Dioxide Film Growth onn Titanium Metal Layer on Si (100) by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering Method2012
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
- 学会等名
  MJIIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS 2012)
- 発表場所
  Kuala Lumpur, Malaysia
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法におけるストレス誘起M2相VO_2薄膜の成長とその特性2012
- 著者名/発表者名
  渡部智,沖村邦雄,坂井穣
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学(17p-F6-13)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ストレス誘起M_2相VO_2薄膜の電子状態と相転移特性2012
- 著者名/発表者名
  渡部智,モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄,坂井穣
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会予稿集
- 発表場所
  愛媛大学・松山大学(12a-C13-4)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] 反応性スパッタ法によるマグネリ相酸化バナジウム薄膜の堆積と相転移特性2012
- 著者名/発表者名
  鈴木康史,沖村邦雄
- 学会等名
  第53回真空に関する連合講演会予稿集
- 発表場所
  甲南大学ポートアイランドキャンパス(15P-16)
- 年月日
  2012-11-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO_2薄膜の低温成長2012
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会予稿集
- 発表場所
  愛媛大学・松山大学(12a-C13-5)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] 反応性スパッタ法によるマグネリ相酸化バナジウム薄膜の堆積と相転移特性2012
- 著者名/発表者名
  鈴木康史，沖村邦雄
- 学会等名
  第53回真空に関する連合講演会
- 発表場所
  甲南大学ポートアイランドキャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法によるTi/Si(100)上へのVO2薄膜の低温成長2012
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ，沖村邦雄
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法による金属膜上へのVO_2薄膜の成長と積層方向スイッチング特性2012
- 著者名/発表者名
  モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学(17p-F6-12)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Growth of vanadium dioxide thin films with metal-insulator transition on CoCrTa/Si at low temperature2011
- 著者名/発表者名
  Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
- 学会等名
  15^<th> International Conference on Thin Films
- 発表場所
  KyotoTERSSA(P-S2-33)
- 年月日
  2011-11-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Growth of phase transition VO_2 films with M_2 phase in inductively coupled plasma assisted reactive sputtering2011
- 著者名/発表者名
  T. Watanabe, Md. Suruz Mian, K.Okimura and J. Sakai
- 学会等名
  15^<th> International Conference on Thin Films
- 発表場所
  KyotoTERSSA(P-S2-44)
- 年月日
  2011-11-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Effects of phase coexistence and stress on the metal-insulator transition of V2O3 films grown on c-plane sapphire in reactive sputtering2011
- 著者名/発表者名
  K.Okimura and Y. Suzuki
- 学会等名
  11th International Conference on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2011)
- 発表場所
  Kyoto Research Park
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] サファイアc面基板上にスパッタ成膜したV_2O_3薄膜の相転移特性と膜中ストレスの影響2011
- 著者名/発表者名
  鈴木康史,沖村邦雄
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会予稿集
- 発表場所
  山形大学(1a-ZK-3)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] ICP支援スパッタ法によるM_2相VO_2薄膜の成長と相転移特性2011
- 著者名/発表者名
  渡部智,モハメッドシュルズミヤ,沖村邦雄
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会予稿集
- 発表場所
  山形大学(1a-ZK-1)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] c面サファイア基板上バナジウム酸化膜におけるマグネリ相を含む相共存モデル2011
- 著者名/発表者名
  鈴木康史,沖村邦雄
- 学会等名
  第52回真空に関する連合講演会予稿集
- 発表場所
  学習院大学(17P-39)
- 年月日
  2011-11-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] Effects of phase coexistence and stress on the metal-insulator transition of V_2O_3 films grown on c-plane sapphire in reactive sputtering2011
- 著者名/発表者名
  K.Okimura and Y. Suzuki
- 学会等名
  11^<th> International Conference on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2011) TF 1-5
- 発表場所
  Kyoto research Park
- 年月日
  2011-07-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560013
[学会発表] 反応性スパッタ法による金属-絶縁体相転移VO2薄膜の成長とその応用2010
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄
- 学会等名
  表面技術協会第121回講演大会
- 発表場所
  成蹊大学
- 年月日
  2010-03-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] サファイア基板上に成長したバナジウム酸化膜の相転移特性に対するポストアニール効果2010
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄
- 学会等名
  第57回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  東海大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] サファイア基板上エピタキシャルV_2O_3薄膜成長とアニールによるVO_2への変態2010
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄,鈴木亮太,鈴木康史
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] 時間分解X線回折法を用いたVO2薄膜の構造ダイナミクスの評価2010
- 著者名/発表者名
  羽田真毅,沖村邦雄,松尾二郎
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] 反応性スパッタ法による相転移V2O3薄膜のサファイア基板上へのエピタキシャル成長2010
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄,鈴木康史
- 学会等名
  第51回真空に関する連合講演会(真空・表面科学合同講演会
- 発表場所
  大阪大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] PLD法及びスパッタ法により堆積した相転移VO_2薄膜の結晶格子長測定2008
- 著者名/発表者名
  小池秀明,沖村邦雄,坂井穣
- 学会等名
  第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] X-ray diffraction study on structures of vanadium dioxide films with metal-insulator transition2008
- 著者名/発表者名
  Kunio Okimura, Nurul Ezreena, Joe Sakai
- 学会等名
  XXI Congress of the International Union of Crystallography
- 発表場所
  Osaka International Convention Center
- 年月日
  2008-08-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] In-situ連続成膜ICP支援スパッタによる相転移VO_2薄膜堆積2008
- 著者名/発表者名
  野中利倫,二瓶祐輔,沖村邦雄
- 学会等名
  第55回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  日本大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] Effect of annealing with Ar plasma irradiation for transparent conductive Nb-doped TiO_2 films on glass substrate2008
- 著者名/発表者名
  Mika Hojo, Kunio Okimura
- 学会等名
  International Symposium on Dry Process
- 発表場所
  Tokyo
- 年月日
  2008-11-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] サファイア基板上VO_2薄膜の結晶構造転移の温度依存性2008
- 著者名/発表者名
  小池秀明,野中利倫,沖村邦雄
- 学会等名
  第49回真空に関する連合講演会
- 発表場所
  くにびきメッセ,松江
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] ガラス基板上NbドープTiO_2スパッタ薄膜へのICP高密度Arプラズマアニール処理の効果2008
- 著者名/発表者名
  北条美加,沖村邦雄
- 学会等名
  第55回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  日本大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] Effect of Light Irradiation on Electric Field Induced Resistance Switching Phenomenon in Planer VO_2/c-Al_2O_3 Structure2008
- 著者名/発表者名
  Nurul Ezreena Mohamad, Kunio Okimura, Joe Sakai
- 学会等名
  The 2008 Asian Conference on Nanoscience and Nanotechnology (AsiaNANO 2008)
- 発表場所
  Singapore
- 年月日
  2008-11-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] ICP支援スパッタ法により堆積したVO_2薄膜の電界誘起相転移(II)2008
- 著者名/発表者名
  ヌルルエズリナ,笹川裕介,沖村邦雄
- 学会等名
  第55回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  日本大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] 反応性スパッタ法による酸化ビスマス薄膜の堆積と光記録膜への応用2008
- 著者名/発表者名
  小池秀明,上村隆久,村田吉正,沖村邦雄,後藤廣則
- 学会等名
  第55回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  日本大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] ICP支援スパッタ法による相転移VO_2薄膜成長におけるバナジウムバッファ層の効果2008
- 著者名/発表者名
  野中利倫,沖村邦雄
- 学会等名
  第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] ガラス基板上NbドープTiO_2スパッタ薄膜へのICP高密度Arプラズマアニール処理の効果(II)2008
- 著者名/発表者名
  北条美加,沖村邦雄
- 学会等名
  第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] Nurul Ezreena and Joe Sakai : X-ray diffraction study on structures of vanadium dioxide films with metal-insulator transition2008
- 著者名/発表者名
  沖村邦雄
- 学会等名
  XXI Congress of the International Union of Crystallography
- 発表場所
  Osaka
- 年月日
  2008-08-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560016
[学会発表] Electric Field Induced Fast Switching Phenomena of Vanadium Dioxide (VO_2) on Sapphire Substrate2007
- 著者名/発表者名
  Nurul Ezreena Mohamad, Yusuke Sasakawa, Yusuke Nihei and Kunio Okimura
- 学会等名
  Malaysia-Japan International Symposium On Advanced Technology 2007 (MJISAT)
- 発表場所
  Kuararunpul,Malaysia
- 年月日
  2007-11-14
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[学会発表] Electric Field Induced Fast Switching Phenomena of Vanadium Dioxide(VO_2) on Sapphire Substrate2007
- 著者名/発表者名
  Nurul Ezreena, Yusuke Sasakawa, Yusuke Nihei and Kunio Okimura
- 学会等名
  Malaysia-Japan International Symposium On Advanced Technology 2007
- 発表場所
  Malaysia,Kuala Lumpur
- 年月日
  2007-11-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[学会発表] Electric Field Induced Fast Switching Phenomena of Vanadium Dioxide(V0_2) on Sapphire Substrate2007
- 著者名/発表者名
  Ezreena, Mohamad, Yusuke Sasakawa, Yusuke Nihei, Kunio, Okimura
- 学会等名
  Malaysia-Japan International Symposium On Advanced Technology 2007(MJISAT)
- 発表場所
  Kuararunpul, Malaysia
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[学会発表] Epitaxial Growth of Conductive Anatase TiO_2 : Nb Films on SrTiO_3 Substrate by Reactive Sputtering2006
- 著者名/発表者名
  Jun, Takayama, Kunio, Okimura
- 学会等名
  6th International Symposium on Dry Process
- 発表場所
  Nagoya
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[学会発表] X-ray Diffraction Study on Electric field induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Films on Sapphire Substrate Prepared by Reactive Sputtering2006
- 著者名/発表者名
  Yusuke, Sasakawa, Kunio, Okimura
- 学会等名
  Kyoto Conference on Solid State Chemistry, Transition Metal Oxides Past, Present and Future
- 発表場所
  Kyoto
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[学会発表] Expitaxial Growth of Conductive Anatase TiO_2:Nb Films on SrTiO_3 Substrate by Reactive Sputtering2006
- 著者名/発表者名
  Jun Takayama and Kunio Okimura
- 学会等名
  6th International Symposium on Dry Process
- 発表場所
  Nagoya,Japan
- 年月日
  2006-11-30
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495
[学会発表] X-ray Diffraction Study on Electric field induced Metal-Insulator Transition of Vanadium Dioxide Films on Sapphire Substrate Prepared by Reactive Sputtering2006
- 著者名/発表者名
  Yusuke Sasakawa and Kunio Okimura
- 学会等名
  Kyoto Conference on Solid State Chemistry, Transition Metal Oxides Past, Present and Future
- 発表場所
  Kyoto,Japan
- 年月日
  2006-11-12
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18540495

1. 進藤春雄 (20034407)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 0件
2. 安丸尚樹 (90158006)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 0件
3. 前多信博 (40124028)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
4. 伊部壽夫

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
5. 出原敏孝 (80020197)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 田中茂利 (20025240)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
7. 荒川正和 (30232044)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 平井恵子 (60132601)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
9. 太田泰雄 (10042988)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
10. 佐藤匡 (10225964)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
11. 中西俊博 (30362461)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 12件
12. 中田陽介 (50745205)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
13. 高木克明

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
14. シュルズミヤモハメッド

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 14件
15. アズハンヌルーハニス

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 5件
16. 桜井充

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
17. 桑原正史

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 1件

沖村 邦雄 OKIMURA KUNIO

研究課題

研究成果

共同研究者

二酸化バナジウムメタ表面を用いたテラヘルツスマート反射板の創成

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

相転移VO2素子群のモデリング解析とテラヘルツ波の高速変調への応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

相転移酸化物薄膜の面直方向スイッチングに基づく低電圧発振素子に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

酸化度の異なる相転移酸化物結晶の成長と電気伝導特性に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

大規模マイクロ波ラインプラズマの生成技術に関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

相転移酸化物結晶成長と電界誘起スイッチングに関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

プラズマプロセスによる相転移酸化物結晶成長とスイッチングデバイス創製研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

酸素負イオンの挙動に着目したスパッタ酸化膜のエピタキシャル成長に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

耐環境性を有する高靱性セラミックス及びサーメット厚膜の開発研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

プラズマ窒化とクロム系高靱性セラミック及びサ-メット厚膜による高機能複合表面処理

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

環境映像も含む自然放射線経路分布測定システムの試作と放射線教育への利用

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

ガス導入真空容器内のガス密度分布の測定と効率的排気法の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

He希釈RFスパッタによるルチル型TiO_2結晶の低温成長とその機構解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

沖村邦雄 OKIMURA KUNIO