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草野 英二  Kusano Eiji

研究者番号 00278095
その他のID
  • ORCIDhttps://orcid.org/0000-0002-6782-1300
所属 (現在) 2025年度: 金沢工業大学, バイオ・化学部, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2012年度 – 2017年度: 金沢工業大学, バイオ・化学部, 教授
2006年度: 金沢工業大学, 環境建築学部, 教授
2004年度 – 2005年度: 金沢工業大学, 環境・建築学部, 教授
2001年度 – 2002年度: 金沢工業大学, 工学部, 教授
1995年度 – 2000年度: 金沢工業大学, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野
研究代表者
表面界面物性 / 材料加工・組織制御工学 / 材料加工・処理
研究代表者以外
応用物理学一般 / 計測工学 / 表面界面物性 / 応用物理学一般
キーワード
研究代表者
スパッタリング / 薄膜 / Titanium / Sputtering / Thin Films / アルミニウム / チタニウム / スパタリング / 阻止電位 / 負イオン … もっと見る / 負イオン入射 / フッ化マグネシウム / 負イオン阻止 / CZTS薄膜 / フッ化マグネシウム薄膜 / アニオン欠陥 / Polytetrafluoroethylene / Titanium nitride / Aluminium / Multilayerm / nanoindentation / 多層膜 / 窒化バナジウム / Al / ナノインデンテーション / ポリテトラフルオルエチレン / 窒化チタニウム / 多層構造 / 超微小押し込み硬さ試験 / Network Structure / Island structure / Fractal / Aluminum / フラクタル / 網目状構造 / 島状構造 / フラクタル性 / CZTS太陽電池光吸収層 / ホットウォール / 熱反射壁 / CZTS … もっと見る
研究代表者以外
分子認識膜 / 薄膜 / プラズマCVD / 分子認識機能 / においセンサ / 表面プラズモン共鳴 / Kansei / plasma CVD / gas concentrator / molecular recognition / odor sensing system / 味センサ / 感性 / 濃縮管 / 匂いセンサシステム / kansei measurement / molecular recognition membrane / plasma-polymerized thin film / electronic nose / surface plasmon resonance / quartz crystal microbalance / 悪臭検知 / プラズマ重合 / エレクトロニックノーズ / 有機薄膜 / 水晶振動子においセンサ / 酢の種類判別 / プラズマ重合法 / 半導体においセンサ / 感性計測 / プラズマ有機薄膜 / エレクトロニックノース / 表面プラズモン共鳴味センサ / 水晶振動子式匂いセンサ / Oxide semiconductors / Gas sensor / Chemical sensor / Thin films / Sputtering method / Intelligent sensor / インテリジェント センサ / 酸化物半導体 / ガスセンサ / 感性化学センサ / スパッタリング / インテリジェントセンサ / Microhardness / Multilayr Structure / Compositional Gradient / Titanium Nitride / Titanium Oxide / Reactive Sputtering / Thin Films / 微小硬さ / 窒化チタン / 多層構造 / 組成変調 / 酸化チタン / 反応性スパッタリング / 鮮度センサ / アクリル酸 / アンモニア / 匂いセンサ / 表面ブラズモン共鳴 / 多変量解析 / プラズマ技術 / 化学センサ / 感性センサ 隠す
  • 研究課題

    (10件)
  • 研究成果

    (45件)
  • 共同研究者

    (5人)
  •  フッ化・硫化物薄膜スパッタリング堆積におけるアニオン欠陥形成の機構解明とその抑制研究代表者

    • 研究代表者
      草野 英二
    • 研究期間 (年度)
      2015 – 2017
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      材料加工・組織制御工学
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  硫化物太陽電池薄膜の低コスト・低温堆積に向けたホットウォールスパッタリング法研究代表者

    • 研究代表者
      草野 英二
    • 研究期間 (年度)
      2012 – 2014
    • 研究種目
      挑戦的萌芽研究
    • 研究分野
      材料加工・処理
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  表面プラズモン共鳴現象を用いたエレクトロニックノーズシステムの機能設計と構築

    • 研究代表者
      南戸 秀仁
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2006
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  分子認識機能を有するインテリジェント匂いおよび味センサシステムの開発とその応用

    • 研究代表者
      南戸 秀仁
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2006
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      計測工学
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  プラズマ有機薄膜の機能設計とエレクトロニックノースへの応用

    • 研究代表者
      南戸 秀仁
    • 研究期間 (年度)
      2000 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  金属/誘電体薄膜界面の表面プラズモン共鳴現象の感性化学センサへの応用

    • 研究代表者
      南戸 秀仁
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      萌芽的研究
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  多層薄膜への超微小圧子押し込み/引き抜き過程におけるエネルギー散逸の物理的評価研究代表者

    • 研究代表者
      草野 英二
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 2000
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  モジュレーションスパッタ法による半導体薄膜の機能設計と感性化学センサへの応用

    • 研究代表者
      南戸 秀仁
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  フラクタル網目構造無機薄膜材料の作製および表面物性の評価研究代表者

    • 研究代表者
      草野 英二
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      金沢工業大学
  •  モジュレーション・リアクティヴ・スパッタリング法の開発とその多層構造への応用

    • 研究代表者
      金原 粲
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      金沢工業大学

すべて 2018 2017 2016 2015 2014 2013 2004 その他

すべて 雑誌論文 学会発表 図書 産業財産権

  • [図書] スパッタリング法により堆積した薄膜におけるボイドあるいはピンホール発生要因とその対策,「気泡・ボイドの発生メカニズムと未然防止・除去技術」,6章6節[5}2014

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 総ページ数
      4
    • 出版者
      技術情報協会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [図書] ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎  表面技術協会編2013

    • 著者名/発表者名
      草野 英二(共著)
    • 総ページ数
      17
    • 出版者
      コロナ社
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [雑誌論文] 誤解してしまう水の三態と状態変化-開放系と閉鎖系-2018

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 雑誌名

      化学と教育

      巻: 66 ページ: 184-185

    • NAID

      130007621816

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] Radio frequency sputter deposition of Cu 2 ZnSnS 4 thin films with a temperature-controlled reflector wall: Effects of H 2 addition to the sputtering gas2018

    • 著者名/発表者名
      Kusano Eiji、Kondo Yu
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 646 ページ: 75-82

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2017.11.033

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] Mechanisms of the structural modification of Ti films by pulsed direct current and inductively coupled plasma-assisted pulsed direct current sputtering2017

    • 著者名/発表者名
      Kusano Eiji、Kikuchi Naoto
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 634 ページ: 73-84

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2017.05.014

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] 加賀友禅とガラス技術の融合2017

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 雑誌名

      表面科学

      巻: 38 号: 8 ページ: 425-426

    • DOI

      10.1380/jsssj.38.425

    • NAID

      130005997148

    • ISSN
      0388-5321, 1881-4743
    • 言語
      日本語
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] 乾燥および高湿環境におけるファインセラミックス薄膜摩擦摩耗試験方法の標準化への取り組み2016

    • 著者名/発表者名
      草野英二 他5名
    • 雑誌名

      Mechanical Surface Tech

      巻: 33 ページ: 22-26

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] Control of composition and properties by the use of reflector wall in RF sputter deposition of Cu2ZnSnS4 thin films2015

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano, Muneaki sakamoto
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 589 ページ: 433-440

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2015.06.015

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] パルス放電の基礎とパルススパッタリング法の工業展開-日本真空学会スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会勉強会の内容から-2015

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 雑誌名

      真空ジャーナル

      巻: 153 ページ: 11-16

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] Revisit to zone structure model by observing the relationship between normalized deposition temperature and film structure and properties in sputter deposition of the group 4 metals2015

    • 著者名/発表者名
      Yuta Bohya, Keisuke Akinaga, Eiji Kusano
    • 雑誌名

      The Proceedings of the 13th Intl. Symp. Sputtering and Plasma Processes

      巻: 13 ページ: 186-189

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] Model calculation of time-dependent changes in getter-pump pumping speed in reactive sputtering2015

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano
    • 雑誌名

      The Proceedings of the 13th Intl. Symp. Sputtering and Plasma Processes

      巻: 13 ページ: 174-177

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [雑誌論文] Structure modification of titanium oxide thin films by rf-plasma assistance in TiO2 reactive dc and pulsed dc sputtering2013

    • 著者名/発表者名
      Mune-aki Sakamoto, Eiji Kusano, Hiroaki Matsuda
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 531 ページ: 49-55

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2012.12.034

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [雑誌論文] Model calculation of dynamic mass-balance changes in reactive sputtering2013

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano
    • 雑誌名

      The proceedings of the 12nd International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Kyoto, Japan, July 10-12, 2013

      巻: 12 ページ: 10-13

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [雑誌論文] One-step deposition of Cu2ZnSnS4 thin films by hot-wall sputtering2013

    • 著者名/発表者名
      Mune-aki Sakamoto, Eiji Kusano
    • 雑誌名

      The proceedings of the 12nd International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Kyoto, Japan, July 10-12, 2013

      巻: 12 ページ: 288-290

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [雑誌論文] Odor sensor utilizing surface plasmon resonance for environmental monitoring2004

    • 著者名/発表者名
      H.Nanto, Y.Kitade, Y.Sekikawa, Y.Takei, E.Kusano, A.Kinbara
    • 雑誌名

      SPIE Proceedins 5270

      ページ: 174-181

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360208
  • [雑誌論文] Odor sensor utilizing surface plasmon resonance for environmental monitoring2004

    • 著者名/発表者名
      H.Nanto, Y.Kitade, Y.Sekikawa, Y.Takei, E.Kusano, A.Kinbara
    • 雑誌名

      SPIE Proceedings-Advanced Enviromental, Chemical and Biological Sensing Technology 5270

      ページ: 174-181

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16656031
  • [雑誌論文] Odor sensor utilizing surface Plasmon resonance for environmental monitoring2004

    • 著者名/発表者名
      H.Nanto, Y.Kitade, Y.Sekikawa, Y.Takei, N.Kubota, E.Kusano, A.Kinbara
    • 雑誌名

      Proceedings of SPIE-Advanced Environmental, Chemical and Bilogical Sensing Technology- 5270

      ページ: 174-181

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360208
  • [雑誌論文] Odor sensor utilizing surface Plasmon resonance for environmental monitoring2004

    • 著者名/発表者名
      H.Nanto, Y.Kitade, Y.Sekikawa, Y.Takei, N.Kubota, E.Kusano, A.Kinbara
    • 雑誌名

      Proceedings of SPIE-Advanced Environmental, Chemical and Biological Sensing Technology- Vol.5272

      ページ: 174-181

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360208
  • [産業財産権] 試料保持台2017

    • 発明者名
      草野 英二
    • 権利者名
      草野 英二
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2017
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] 反応性スパッタリング法によるMgF2薄膜堆積における負イオン入射阻止の薄膜堆積速度および光学物性への影響2017

    • 著者名/発表者名
      草野 英二 ,松永 大輝
    • 学会等名
      一般社団法人日本真空学会第58回真空に関する連合講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Band gap and film structure control by H2 addition to Ar discharge gas in Cu2ZnSnS4 thin film deposition by reflector-wall sputtering2017

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano, Yu Kondo
    • 学会等名
      Iberian Vacuum Conference, RIVA-X 8th and European Topical Conference on Hard Coatings
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] 中部から世界へ発信する表面技術2017

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 学会等名
      一般社団法人表面技術協会第136回講演大会
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Model calculation and visualization of time-dependent reactive gas mass balance change in Ti-O2 reactive sputtering2017

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano
    • 学会等名
      16th International Conference on Reactive Sputtering
    • 招待講演 / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Reactive sputter deposition of transparent and low refractive-index MgF2 thin films using a double-grid negative-ion retarding electrode2017

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano, Daiki Matsunaga
    • 学会等名
      16th International Conference on Reactive Sputtering
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] 反応性スパッタリングにおける反応性ガス消費の時間変化2017

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 学会等名
      一般社団法人日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会平成28年度技術交流会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] ~数100eVのエネルギーを持った入射粒子とターゲットあるいは基板・薄膜との相互作用を理解する2016

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 学会等名
      日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会平成28年度第1回勉強会
    • 発表場所
      金沢工業大学東京事務所会議室,東京
    • 年月日
      2016-11-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] 熱反射壁を用いたスパッタリング法によるCu2ZnSnS4薄膜太陽電池光吸収層堆積における放電ガスへの水素添加の影響2016

    • 著者名/発表者名
      草野 英二
    • 学会等名
      日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会第13回技術交流会
    • 発表場所
      機械振興会館,東京
    • 年月日
      2016-12-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] 負イオン阻止電極をもちいた高周波スパッタリング法によるフッ化マグネシウム薄膜の堆積2016

    • 著者名/発表者名
      松永大輝, 草野英二
    • 学会等名
      第57回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場,名古屋
    • 年月日
      2016-11-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Deposition of Cu2ZnSnS4 thin film solar absorber by reflector-wall sputtering from a quaternary target: effects of H2 addition to discharge gas2016

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano, Yu Kondo
    • 学会等名
      The 20th Intl. Vacuum Congress
    • 発表場所
      BEXCO, Busan, Korea
    • 年月日
      2016-08-21
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Deposition of Cu2ZnSnS4 thin film solar absorber by reflector-wall sputtering from a quaternary target: effects of H2 addition to discharge gas2016

    • 著者名/発表者名
      Eiji KUSANO, Yu KONDO
    • 学会等名
      20th International Vacuum Congress
    • 発表場所
      Busan, Korea
    • 年月日
      2016-08-24
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] 熱反射壁を用いたスパッタリング法によるCZTS 薄膜太陽電池光吸収層の堆積における放電ガスへの水素添加の影響2016

    • 著者名/発表者名
      草野英二,近藤 優,保屋勇太
    • 学会等名
      表面技術協会第133講演大会
    • 発表場所
      早稲田大学,東京
    • 年月日
      2016-03-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Suppression of F- ion incidence to growing film surface by using a double-grid retarding electrode in sputter deposition of MgF2 thin films", preliminary abstract code2016

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano, Satoshi Jinbo
    • 学会等名
      15th International Conference on Plasma Surface Engineering - Conference and Exhibition
    • 発表場所
      Congress Center, Garmisch-Partenkirchen, Germany
    • 年月日
      2016-09-13
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Suppression of F- ion incidence to growing film surface by using a double-grid retarding electrode in sputter deposition of MgF2 thin films2016

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano, Satoshi Jinbo
    • 学会等名
      15th International Conference on Plasma Surface Engineering
    • 発表場所
      Garmisch-Partenkirchen, Germany
    • 年月日
      2016-09-13
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Revisit to zone structure model by observing the relationship between normalized deposition temperature and film structure and properties in sputter deposition of the group 4 metals2015

    • 著者名/発表者名
      Yuta Bohya, Keisuke Akinaga, Eiji Kusano
    • 学会等名
      13th Intl. Symp. Sputtering and Plasma Processes
    • 発表場所
      Kyoto Research Park, Kyoto, Japan
    • 年月日
      2015-07-09
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Model calculation of time-dependent changes in getter-pump pumping speed in reactive sputtering2015

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano
    • 学会等名
      13th Intl.Symp.Sputtering and Plasma Processes
    • 発表場所
      京都リサーチパーク,京都市
    • 年月日
      2015-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [学会発表] Model calculation of time-dependent changes in getter-pump pumping speed in reactive sputtering2015

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano
    • 学会等名
      13th Intl. Symp. Sputtering and Plasma Processes
    • 発表場所
      Kyoto Research Park, Kyoto, Japan
    • 年月日
      2015-07-09
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] 直流および直流パルススパッタリング法による4族金属薄膜堆積における高周波プラズマ支援の薄膜構造および物性への影響2015

    • 著者名/発表者名
      保屋勇太,田中さおり,草野英二
    • 学会等名
      日本真空学会第56回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      つくば国際会議場,つくば
    • 年月日
      2015-12-01
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Mechanisms involved in modification of film structure and properties in ICP assisted dc and pulsed dc sputtering2015

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano
    • 学会等名
      International symposium on Surface Engineering based Convergence Science & Technology (SECST2015)and the 49th Korean Vacuum Society
    • 発表場所
      Changwon Convention Center, Changwon, Korea
    • 年月日
      2015-08-25
    • 招待講演 / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K06513
  • [学会発表] Revisit to zone structure model by observing the relationship between normalized deposition temperature and film structure and properties in sputter deposition of the group 4 metals2015

    • 著者名/発表者名
      Yuta Bohya, Keisuke Akinaga, Eiji Kusano
    • 学会等名
      13th Intl.Symp.Sputtering and Plasma Processes
    • 発表場所
      京都リサーチパーク,京都市
    • 年月日
      2015-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [学会発表] ホットウォールスパッタリング法により堆積したCZTS薄膜太陽電池光吸収層の組成および物性制御2014

    • 著者名/発表者名
      草野 英二,坂本 宗明
    • 学会等名
      一般社団法人表面技術協会第129回講演大会
    • 発表場所
      東京理科大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [学会発表] Evaluation of time-dependent compound layer formation and removal at target surface by model calculation of mass balance change in reactive sputtering2013

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano., Mune-aki Sakamoto
    • 学会等名
      19th International Vacuum Congress IVC-19
    • 発表場所
      Palais des Congress, Paris
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [学会発表] ホットウォール高周波スパッタリング法によるCu2ZnSnS4薄膜堆積におけるホットウォール温度および放電圧力の薄膜組成、構造および物性への影響

    • 著者名/発表者名
      坂上拓哉,坂本宗明,草野英二
    • 学会等名
      日本真空協会 第53回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      甲南大学, 神戸
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [学会発表] 高周波スパッタリング法によるCu2ZnSnS4薄膜堆積におけるホットウォール温度および放電圧力の薄膜組成,構造および物性への影響

    • 著者名/発表者名
      坂上拓哉,中村一貴,稲葉駿介,坂本宗明,草野英二
    • 学会等名
      日本化学会 第93春季年会
    • 発表場所
      立命館大学,草津
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [学会発表] One-step deposition of Cu2ZnSnS4 thin films by hot-wall sputtering,

    • 著者名/発表者名
      M. Sakamoto, E. Kusano
    • 学会等名
      12th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park, Kyoto
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • [学会発表] Refractive index enhancement by rf-plasma assistance in reactive dc and pulsed dc sputter deposition of Ta2O5 and TiO2 films

    • 著者名/発表者名
      Eiji Kusano
    • 学会等名
      Reactive Sputter Deposition 2012
    • 発表場所
      Ghent University, Belgium
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656450
  • 1.  金原 あきら (90010719)
    共同の研究課題数: 6件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  南戸 秀仁 (30133466)
    共同の研究課題数: 6件
    共同の研究成果数: 4件
  • 3.  竹井 義法 (30350755)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 4件
  • 4.  山ノ口 崇 (30410286)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  参沢 匡将
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件

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