清水英彦 SHIMIZU Hidehiko

研究者番号	00313502
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 新潟大学, 自然科学系, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2008年度 – 2014年度: 新潟大学, 自然科学系, 准教授 2002年度 – 2005年度: 新潟大学, 工学部, 助教授 2001年度: 新潟大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野	研究代表者電子・電気材料工学 / 電子・電気材料工学研究代表者以外電子・電気材料工学 / 電子・電気材料工学 / 薄膜・表面界面物性 / 応用物性・結晶工学
キーワード	研究代表者希釈水素ガス / パラジウム / マグネシウム / 触媒 / Mg系水素吸蔵合金 / フッ化リチウム / Mgフタロシアニン / Mg系薄膜 / マグネシウムフタロシアニン / クロミック … もっと見る / 水素 / パラジウム超薄膜 / マグネシウム系薄膜 / 調光ミラー / 還元 / 配向性 / 結晶性 / 真空中熱処理法 / SrAl_2O_4蛍光体 / 発光特性 / 組成分布 / アルミン酸ストロンチウム / 酸素分圧 / 熱処理温度 / 空気中熱処理法 / スパッタ法 … もっと見る研究代表者以外 Facing target sputtering / 低温成膜 / surface smoothness / Stress free / plastic substrate / dual sputtering / damage-less deposition / low temperature deposition / Transparent conductive film / ITO / 高速成膜 / 低ダメージ / スパッタ法 / デュアルスパッタ / 自己陰影効果 / 液体窒素温度成膜 / 低ダメージスパッタ / Zn添加 / ITO薄膜 / 表面平滑性 / 応力フリー / プラスチック基板 / 対向ターゲット式スパ多 / デュアルスパッタ法 / 低ダメージスパッタ法 / 透明導電膜 / Pulse sputtering / Low voltage sputtering / Permalloy under layer / Fe film / Fe-Co film / Soft magnetic thin films / Low temperature deposition / Fe-Co合金 / 純鉄膜 / パルスプラズマ / 高飽和磁化 / 軟磁性薄膜 / スパッタ / 対向ターゲット式スパッタ / パーマロイト不地膜 / Fe-Co薄膜 / Fe薄膜 / パルススパッタ / 液体窒素温度堆積 / 高飽和磁化軟磁性薄膜 / 低電圧スパッタ / 薄膜 / 酸化亜鉛 / 酸化亜鉛薄膜 / 触媒反応 / 化学気相堆積法 / 表面・界面物性 / プラズマ加工 / 表面、界面物性 / 低温物性 / 超伝導材料・素子 / 磁性 / 超伝導体隠す

触媒反応生成高エネルギー水分子ビームを用いた高品位酸化亜鉛薄膜成長技術の構築
- 研究代表者
  
  安井寛治
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2014
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  薄膜・表面界面物性
- 研究機関
  長岡技術科学大学
マグネシウム系薄膜による表示デバイス開発のための基礎研究研究代表者
- 研究代表者
  
  清水英彦
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2014
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  新潟大学
対向超伝導マグネトロンスパッタ技術の基礎研究
- 研究代表者
  
  岡徹雄
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物性・結晶工学
- 研究機関
  新潟大学
プラスチックフィルム基板上への低抵抗・高蜜着性透明導電膜の高速成膜技術の開発
- 研究代表者
  
  星陽一
- 研究期間 (年度)
  2004 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京工芸大学
スパッタビーム堆積法によるSrAl_2O_4薄膜の結晶性及び配向性制御に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  清水英彦
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2003
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  新潟大学
液体窒素温度成膜法による薄膜ヘッド用高飽和磁化軟磁性薄膜の開発
- 研究代表者
  
  星陽一
- 研究期間 (年度)
  2001 – 2003
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京工芸大学

すべて 2014 2012 2008 2004 2003 2002 2001 その他

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Mechanical Properties of Permalloy Thin Films Deposited by Sputtering. (in Japanese)2004
- 著者名/発表者名
  H.Shimizu, Y.Hoshi
- 雑誌名
  
  IEEJ Trans.FM. Vol.124,No.3
  
  ページ: 265-270
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] Low temperature deposition of ITO thin films by low voltage sputtering in various rare gases.2004
- 著者名/発表者名
  Y.Hoshi, H.Shimizu
- 雑誌名
  
  IEICE Transactions on Electronics E87-C, No.2
  
  ページ: 212-217
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] スパッタ法により作成したパーマロイト薄膜の機会的特性2004
- 著者名/発表者名
  清水英彦, 星陽一
- 雑誌名
  
  電気学会論文誌 124、NO.3
  
  ページ: 265-270
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] Low temperature deposition of ITO thin films by low voltage sputtering in various rare gases.2004
- 著者名/発表者名
  Y.Hoshi, H.Shimizu
- 雑誌名
  
  IEICE Transactions on Electronics E87-C, No.2
  
  ページ: 212-217
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16560281
[雑誌論文] Low temperature deposition of ITO thin films by low voltage sputtering in various rare gases2004
- 著者名/発表者名
  Y.Hoshi, H.Shimizu
- 雑誌名
  
  IEICE Trans.Electronics 87-C, No.2
  
  ページ: 212-217
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] High Rate Deposition of TiO_2 Thin Films using Sputtering Technique.2003
- 著者名/発表者名
  T.Takahashi, T.Nakano, Y.Hoshi, H.Shimizu
- 雑誌名
  
  Transactions of the Materials Research Society of Japan 28[4]
  
  ページ: 1129-1132
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] High Rate Deposition of TiO_2 Thin Films using Sputtering Technique2003
- 著者名/発表者名
  T.Takahashi, T.Nakano, Y.Hoshi, H.Shimizu
- 雑誌名
  
  Trans.of the Materials Research Society of Japan 28[4]
  
  ページ: 1129-1132
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] The consideration on the Initial Growth stage of Sputtered Ag Thin Films Observed by Ellipsometry.2002
- 著者名/発表者名
  H.Shimizu, Y.Hoshi, S.Kawabata
- 雑誌名
  
  IEEJ Trans.FM Vol.122,No.8
  
  ページ: 755-760
- NAID
  10009584149
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] Fe and Fe-N films sputter-deposited at liquid nitrogen temperature.2001
- 著者名/発表者名
  Wataru Seiko, Yoichi Hoshi, Hidehiko Shimizu
- 雑誌名
  
  J.Mag.Mag.Mat. 235
  
  ページ: 196-200
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] 偏光解析法を用いたAgスパッタ薄膜の初期成長過程の考察
- 著者名/発表者名
  清水, 星, 川畑
- 雑誌名
  
  電気学会論文誌A Vol.122-A、No.8
  
  ページ: 755-760
- NAID
  10009584149
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[雑誌論文] Fe and Fe-N films sputter-deposited at liquid nitrogen temperature
- 著者名/発表者名
  Wataru Seiko, Yoichi Hoshi, Hidehiko Shimizu
- 雑誌名
  
  J.Mag.Mag.Mat. 235
  
  ページ: 196-200
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13650357
[学会発表] 水素ガス雰囲気中におけるフタロシアニンマグネシウム薄膜の特性2014
- 著者名/発表者名
  清水英彦，新保一成，岩野春男，川上貴浩，福嶋康夫，永田向太郎
- 学会等名
  第75回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  北海道大学札幌キャンパス，北海道札幌市北区北8条西5丁目
- 年月日
  2014-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23760279
[学会発表] H_2-O_2触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いて堆積したZnO/a-Al_2O_3の電気伝導特性の解析2012
- 著者名/発表者名
  永冨瑛智,山口直也,清水英彦,梅本宏信,加藤孝弘,安井寛治
- 学会等名
  2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学、松山大学
- 年月日
  2012-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24360014
[学会発表] スパッタ法で成膜されたMo/Si二層膜のXPSによる深さ方向組成分析2008
- 著者名/発表者名
  菊地北斗, 関崎大輔, 清水英彦, 山口隆, 柳陽介, 伊藤佳孝, 生田博志, 岡徹雄
- 学会等名
  2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学(愛知県)
- 年月日
  2008-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560006
[学会発表] Mg 薄膜への添加金属による調光ミラー特性の検討
- 著者名/発表者名
  清水英彦，跡部雅富，下田竜也，小林和希，岩野春男，川上貴浩
- 学会等名
  電子情報通信学会電子部品・材料研究会
- 発表場所
  釧路市生涯学習センター，北海道釧路市幣舞町４番28号
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23760279
[学会発表] Mg-Fe 薄膜の調光ミラー特性の検討
- 著者名/発表者名
  下田竜也，跡部雅富，小林和希，清水英彦，岩野春男，川上貴浩
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学京田辺キャンパス，京都府京田辺市多々羅都谷1-3
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23760279
[学会発表] Zn 添加によるMg 系薄膜の調光ミラー特性の検討
- 著者名/発表者名
  下田竜也、跡部雅富、本多広和、清水英彦、岩野春男、川上貴浩
- 学会等名
  平成24年度応用物理学会北陸・信越支部学術講演会
- 発表場所
  富山県民会館（富山市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23760279
[学会発表] 調光ミラー特性を有するMg系薄膜への添加材料の検討
- 著者名/発表者名
  跡部雅富，津野大輔，清水英彦，岩野春男，川上貴浩
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学（松山市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23760279

1. 星陽一 (20108228)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 11件
2. 鈴木英佐 (60113007)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
3. 岡徹雄 (40432091)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
4. 福井聡 (70293199)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 小川純 (60377182)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 安井寛治 (70126481)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
7. 梅本宏信 (80167288)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
8. 加藤孝弘

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件

清水 英彦 SHIMIZU Hidehiko

研究課題

研究成果

共同研究者

触媒反応生成高エネルギー水分子ビームを用いた高品位酸化亜鉛薄膜成長技術の構築

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

マグネシウム系薄膜による表示デバイス開発のための基礎研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

対向超伝導マグネトロンスパッタ技術の基礎研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

プラスチックフィルム基板上への低抵抗・高蜜着性透明導電膜の高速成膜技術の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

スパッタビーム堆積法によるSrAl_2O_4薄膜の結晶性及び配向性制御に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

液体窒素温度成膜法による薄膜ヘッド用高飽和磁化軟磁性薄膜の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Mechanical Properties of Permalloy Thin Films Deposited by Sputtering. (in Japanese)2004

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Low temperature deposition of ITO thin films by low voltage sputtering in various rare gases.2004

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] スパッタ法により作成したパーマロイト薄膜の機会的特性2004

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Low temperature deposition of ITO thin films by low voltage sputtering in various rare gases.2004

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Low temperature deposition of ITO thin films by low voltage sputtering in various rare gases2004

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] High Rate Deposition of TiO_2 Thin Films using Sputtering Technique.2003

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] High Rate Deposition of TiO_2 Thin Films using Sputtering Technique2003

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] The consideration on the Initial Growth stage of Sputtered Ag Thin Films Observed by Ellipsometry.2002

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

説明

データソース

清水英彦 SHIMIZU Hidehiko