| 研究者番号 |
00392598
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| その他のID |
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| 所属 (現在) |
2024年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員
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| 所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 |
2019年度 – 2021年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員
2008年度: 産業技術総合研究所, ネットワークフォトニクス研究センター, 特別研究員
2005年度 – 2006年度: 独立行政法人産業技術総合研究所, 強相関電子技術研究センター, 研究員
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| 審査区分/研究分野 |
- 研究代表者
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小区分13030:磁性、超伝導および強相関系関連 /
物性Ⅰ
- 研究代表者以外
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理工系
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| キーワード |
- 研究代表者
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磁気光学顕微鏡 / スピン起電力 / 磁区ダイナミクス / 時間分解磁気光学顕微鏡 / 磁化ダイナミクス / 磁気イメージング / 空間分解 / 光磁気記録 / 時間分解能 / 空間分解能 / 磁気光学効果 / フェムト秒レーザー / スピンダイナミクス
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- 研究代表者以外
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ドーピング濃度 / 不均一広がり / 均一広がり / 位相緩和時間 / 歪補償 / 光閉じ込め / AlAsSb / AlAs / InGaAs / サブバンド間遷移スイッチ / 屈折率 / フォトリフレクタンス / 超高速全光スイッチ / 超高速光信号処理 / ピコ秒 / 周期構造 / 有効質量 / バンドオフセット / 歪補償量子井戸構造 / 超薄膜結合量子井戸 / 超高速ゲートスイッチ / MBE / 全光位相変調効果 / サブバンド間遷移 / 量子井戸
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