本村大成 Motomura Taisei

研究者番号	00635815
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2017年度 – 2018年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 2016年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 製造技術研究部門, 主任研究員 2015年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 製造技術研究部門, 研究員 2014年度: 独立行政法人産業技術総合研究所, 製造技術研究部門, 研究員
審査区分/研究分野	研究代表者プラズマエレクトロニクス
キーワード	研究代表者プラズマ / プラズマ加工 / 高速成膜 / ガリウムターゲット / 窒素プラズマ / 高密度プラズマ / 窒化ガリウム / 液体金属 / スパッタリング / プラズマエッチング / エッチング

常磁性低融点金属スパッタリングに用いる新規プラズマ源の研究開発研究代表者
- 研究代表者
  
  本村大成
- 研究期間 (年度)
  2016 – 2018
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマエレクトロニクス
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所
高密度イオン軌道ベクトル制御プラズマによる高速・高アスペクト比エッチングの創成研究代表者
- 研究代表者
  
  本村大成
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2015
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  プラズマエレクトロニクス
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所

すべて 2019 2018 2017 2016 2015 2014

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Potential of High-density Convergent Plasma Sputtering Device for Magnetic Film Deposition2019
- 著者名/発表者名
  T. Motomura and T. Tabaru
- 雑誌名
  
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology
  
  巻: 17 号: 0 ページ: 27-31
- DOI
  10.1380/ejssnt.2019.27
- NAID
  130007618362
- ISSN
  1348-0391
- 年月日
  2019-03-23
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[雑誌論文] High-density convergent plasma sputtering device for a liquid metal target using an unheated glass plate2018
- 著者名/発表者名
  T. Motomura and T. Tabaru
- 雑誌名
  
  Review of Scientific Instruments
  
  巻: 89 号: 6 ページ: 063501-063501
- DOI
  10.1063/1.5025093
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[雑誌論文] Evaluation of SF<sub>6</sub> Reactive Ion Etching Performance with a Permanent Magnet Located behind the Substrate based on a Simple Design Concept2016
- 著者名/発表者名
  Taisei Motomura, Kazunori Takahashi, Yuji Kasashima, Kazuya Kikunaga, Fumihiko Uesugi and Akira Ando
- 雑誌名
  
  Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ
  
  巻: 59 号: 1 ページ: 11-15
- DOI
  10.3131/jvsj2.59.11
- NAID
  130005123319
- ISSN
  1882-2398, 1882-4749
- 言語
  日本語
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26790066
[雑誌論文] Effect of External Magnetic Field on Compact Inductively-coupled Reactive Ion Etching Reactor2015
- 著者名/発表者名
  Taisei Motomura, Kazunori Takahashi, Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi, Akira Ando
- 雑誌名
  
  Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ
  
  巻: 58 号: 10 ページ: 392-396
- DOI
  10.3131/jvsj2.58.392
- NAID
  130005106937
- ISSN
  1882-2398, 1882-4749
- 言語
  英語
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26790066
[学会発表] 産総研九州での取り組み:プラズマプロセス用診断技術と新規スパッタ装置の開発2018
- 著者名/発表者名
  田原竜夫、本村大成、笠嶋悠司
- 学会等名
  プラズマ材料科学第153委員会第139回研究会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[学会発表] Plasma sputtering device using convergent magnetic field for GaN film production2018
- 著者名/発表者名
  T. Motomura and T. Tabaru
- 学会等名
  10th international symposium on organic molecular electronics
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[学会発表] 高速プロセスのための磁場を活用したプラズマ装置の研究2017
- 著者名/発表者名
  本村大成
- 学会等名
  有機薄膜・デバイス・材料研究討論会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[学会発表] 高密度収束プラズマを用いた液体金属スパッタリング装置2017
- 著者名/発表者名
  本村大成、田原竜夫
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[学会発表] 電磁場を活用したプラズマプロセス装置の研究2017
- 著者名/発表者名
  本村大成、田原竜夫
- 学会等名
  第４回産総研プラズマ研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[学会発表] 高密度窒素プラズマ源を用いた液体金属スパッタリング装置2017
- 著者名/発表者名
  本村大成、田原竜夫
- 学会等名
  第58回真空に関する連合講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[学会発表] 有磁場RFプラズマ源を用いたプラズマプロセス装置の研究開発2016
- 著者名/発表者名
  本村大成
- 学会等名
  第3回産総研プラズマ研究会
- 発表場所
  産総研つくば中央第２（茨城県）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K05000
[学会発表] Plasma discharge characteristics in compact SF6 radio-frequency plasma source for plasma etching application2015
- 著者名/発表者名
  Taisei Motomura, Kazunori Takahashi, Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi and Akira Ando
- 学会等名
  ICRP-9 / GEC-68 / SPP-33
- 発表場所
  Hawaii Convention Center（USA）
- 年月日
  2015-10-13
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26790066
[学会発表] 超高速エッチングのための高密度プラズマについて2014
- 著者名/発表者名
  本村大成, 高橋和貴, 笠嶋悠司, 安藤晃, 上杉文彦, クンプアンソマワン, 原史朗
- 学会等名
  第2回産総研プラズマワークショップ
- 発表場所
  産業技術総合研究所九州センター
- 年月日
  2014-04-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26790066

1. 高橋和貴

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
2. 安藤晃

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
3. 上原雅人

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
4. 田原竜夫

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 6件

本村 大成 Motomura Taisei

研究課題

研究成果

共同研究者

常磁性低融点金属スパッタリングに用いる新規プラズマ源の研究開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

高密度イオン軌道ベクトル制御プラズマによる高速・高アスペクト比エッチングの創成研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Potential of High-density Convergent Plasma Sputtering Device for Magnetic Film Deposition2019

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] High-density convergent plasma sputtering device for a liquid metal target using an unheated glass plate2018

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Evaluation of SF<sub>6</sub> Reactive Ion Etching Performance with a Permanent Magnet Located behind the Substrate based on a Simple Design Concept2016

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

言語

データソース

[雑誌論文] Effect of External Magnetic Field on Compact Inductively-coupled Reactive Ion Etching Reactor2015

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

言語

データソース

[学会発表] 産総研九州での取り組み:プラズマプロセス用診断技術と新規スパッタ装置の開発2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Plasma sputtering device using convergent magnetic field for GaN film production2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 高速プロセスのための磁場を活用したプラズマ装置の研究2017

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 高密度収束プラズマを用いた 液体金属スパッタリング装置2017

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 電磁場を活用したプラズマプロセス装置の研究2017

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 高密度窒素プラズマ源を用いた 液体金属スパッタリング装置2017

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 有磁場RFプラズマ源を用いたプラズマプロセス装置の研究開発2016

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

データソース

[学会発表] Plasma discharge characteristics in compact SF6 radio-frequency plasma source for plasma etching application2015

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

年月日

本村大成 Motomura Taisei

[学会発表] 高密度収束プラズマを用いた液体金属スパッタリング装置2017

[学会発表] 高密度窒素プラズマ源を用いた液体金属スパッタリング装置2017