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寺田 吏  Terada Tsukasa

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 00963662
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 大阪大学, 大学院基礎工学研究科, 助教
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2022年度 – 2024年度: 東北大学, 金属材料研究所, 助教
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分28020:ナノ構造物理関連 / 0402:ナノマイクロ科学、応用物理物性、応用物理工学およびその関連分野
キーワード
研究代表者
熱電変換 / 層状物質 / 薄膜成長 / IV族系化合物 / 薄膜合成 / ゲルマネン
  • 研究課題

    (2件)
  • 研究成果

    (2件)
  •  ディラック半金属のバンド構造自在制御による熱電性能向上の実証研究代表者

    • 研究代表者
      寺田 吏
    • 研究期間 (年度)
      2024 – 2026
    • 研究種目
      若手研究
    • 審査区分
      小区分28020:ナノ構造物理関連
    • 研究機関
      東北大学
  •  IV族二次元原子層を用いたディラック系熱電薄膜の創製研究代表者

    • 研究代表者
      寺田 吏
    • 研究期間 (年度)
      2022 – 2023
    • 研究種目
      研究活動スタート支援
    • 審査区分
      0402:ナノマイクロ科学、応用物理物性、応用物理工学およびその関連分野
    • 研究機関
      東北大学

すべて 2023

すべて 学会発表

  • [学会発表] 分子線エピタキシー法を用いたAMnBix (A = Eu, Yb) 薄膜合成における Bi供給量と膜中Bi量の相関2023

    • 著者名/発表者名
      寺田 吏、塚﨑 敦
    • 学会等名
      第145回金研講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22K20492
  • [学会発表] 分子線エピタキシー法によるトポロジカル半金属YbMnBi2薄膜の合成2023

    • 著者名/発表者名
      寺田 吏、塚﨑 敦
    • 学会等名
      第144回金研講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22K20492

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