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鈴木 彰  SUZUKI Akira

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 10111931
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2004年度 – 2009年度: 立命館大学, 総合理工学研究機構, 教授
2003年度: 総合理工学研究機構, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
電子・電気材料工学
研究代表者以外
電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者
内殻遷移 / ワイドギャップ半導体 / 紫外発光 / 希土類 / ガドリニウム / 窒化アルミニウム / スパッタ製膜法 / MBE成長法 / 結晶薄膜 / スパッタ法 … もっと見る
研究代表者以外
… もっと見る InGaN / InN / HFET / RF-MBE / crystal growth / quantum well / heterostructure / bandqap / Full Band Monte Carlo Simulation / 二次元電子ガス / GaN / AlGaN / 低温中間層 / 窒化 / 最大ドリフト速度 / モンテカルロシミュレーション / ヘテロ接合 / AlNバッファ / Si基板 / 極性 / バンドギャツプ / 貫通転位 / 量子井戸構造 / InAlN / 臨界膜厚 / 結晶成長 / 量子井戸 / ヘテロ構造 / バンドギャップ / 窒化インジウムガリウム / 窒化インジウム 隠す
  • 研究課題

    (3件)
  • 研究成果

    (11件)
  • 共同研究者

    (11人)
  •  ガドリニウム添加窒化アルミニウムを用いた新規紫外光発光デバイスの作製研究代表者

    • 研究代表者
      鈴木 彰
    • 研究期間 (年度)
      2007 – 2009
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      立命館大学
  •  新規紫外光発光材料ガドリニウム添加窒化アルミニウムの作製研究代表者

    • 研究代表者
      鈴木 彰
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2006
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      立命館大学
  •  InN、GaNおよびその混晶によるヘテロ構造の作製とHFETへの応用に関する研究

    • 研究代表者
      名西 やす之
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2004
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      立命館大学

すべて 2010 2009 2007 2006 2004 2003 2002

すべて 雑誌論文 産業財産権

  • [雑誌論文] Photoluminescence and photoluminescence excitation spectra from AlN doped with Gd3+2010

    • 著者名/発表者名
      K. Fukui, S. Sawai, T. Ito, S. Emura, T. Araki, A. Suzuki
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi (c) (掲載予定)

    • NAID

      120002851451

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19360148
  • [雑誌論文] Ferromagnetism and luminescence of diluted magnetic semiconductors GaGdN and AlGdN2009

    • 著者名/発表者名
      S. Emura, M. Takahashi, H. Tambo, A. Suzuki, T. Nakamura, Y. Zhou, S. Hasegawa, H. Asahi
    • 雑誌名

      Materials Research Society Symposium Proceedings 1111

      ページ: 49-60

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19360148
  • [雑誌論文] スパッタ法で作製したGd添加AIN膜の紫外発光特性2007

    • 著者名/発表者名
      廣村友紀, 小坂賢一, 宮原 学, 荒木 努, 名西〓之, 江村修一, 鈴木 彰
    • 雑誌名

      第54回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 No. 1

      ページ: 387-387

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17656110
  • [雑誌論文] Band-Gap Energy and Physical Properties of InN Grown by RF-Molecular Beam Epitaxy2004

    • 著者名/発表者名
      Y.Nanishi, Y.Saito, T.Yamaguchi, F.Matsuda, T.Araki, H.Naoi, A.Suzuki, H.Harima, T.Miyajima
    • 雑誌名

      Mat.Res.Soc.Symp.Proc. 798

      ページ: 189-200

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-13450131
  • [雑誌論文] Band-Gap Energy and Physical Properties of InN Grown by RF-Molecular Beam Epitaxy2004

    • 著者名/発表者名
      Y.Nanishi, Y.Saito, T.Yamaguchi, F.Matsuda, T.Araki, H.Naoi, A.Suzuki, H.Harima, T.Miyajima
    • 雑誌名

      Mat.Res.Soc.Symp.Proc. 789

      ページ: 189-200

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-13450131
  • [雑誌論文] The effect of substrate polarity on the growth of InN by RF-MBE2004

    • 著者名/発表者名
      H.Naoi, F.Matsuda, T.Araki, A.Suzuki, Y.Nanishi
    • 雑誌名

      J.Cryst.Growth 269

      ページ: 155-161

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-13450131
  • [雑誌論文] Growth and properties of In-rich InGaN films grown on (0001) supphire by RF-MBE2004

    • 著者名/発表者名
      M.Kurouchi, T.Araki, H.Naoi, T.Yamaguchi, A.Suzuki, Y.Nanishi
    • 雑誌名

      phys.stat.sol.(b) 241

      ページ: 2843-2848

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-13450131
  • [雑誌論文] MBE-Growth, Characterization and Properties of InN and InGaN2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Nanishi, Y.Saito, T.Yamaguchi, M.Hori, F.Matsuda, T.Araki, A.Suzuki, T.Miyajima
    • 雑誌名

      phys.stat.sol.(a) 200

      ページ: 202-208

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-13450131
  • [雑誌論文] Growth Temperature Dependence of Indium Nitride Crystalline Quality Grown by RF-MBE2002

    • 著者名/発表者名
      Y.Saito, H.Harima, E.Kurimoto, T.Yamaguchi, N.Teraguchi, A.Suzuki, T.Araki, Y.Nanishi
    • 雑誌名

      phys.stat.sol.(b) 234

      ページ: 796-800

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-13450131
  • [雑誌論文] Optical properties of InxGa1-xN with entire alloy composition on InN buffer layer grown by RF-MBE2002

    • 著者名/発表者名
      M.Hori, K.Kano, T.Yamaguchi, Y.Saito, T.Araki, Y.Nanishi, N.Teraguchi, A.Suzuki
    • 雑誌名

      phys.stat.sol.(b) 234

      ページ: 750-754

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-13450131
  • [産業財産権] 窒化物材料製造方法2006

    • 発明者名
      鈴木 彰
    • 権利者名
      学校法人立命館
    • 産業財産権番号
      2006-287160
    • 出願年月日
      2006-10-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17656110
  • 1.  荒木 努 (20312126)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 9件
  • 2.  江村 修一 (90127192)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 3件
  • 3.  田中 悟 (80281640)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  園田 早紀 (30397690)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  福井 一俊 (80156752)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 6.  名西 やす之 (40268157)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 7件
  • 7.  高倉 秀行 (30112022)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  今井 茂 (40223309)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  播磨 弘 (00107351)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 3件
  • 10.  寺口 信明
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  鈴木 章
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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