上野和良 UENO Kazuyoshi

研究者番号	10433765
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2010年度 – 2023年度: 芝浦工業大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野	研究代表者小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連 / 電子デバイス・電子機器研究代表者以外リハビリテーション科学・福祉工学
キーワード	研究代表者エレクトロマイグレーション / 電流作用 / 配線 / 低温化 / 電流印加 / 固相析出 / 低抵抗化 / グラフェン / ナノカーボン / 構造変化 … もっと見る / ラマン分光 / 抵抗変化型メモリ / グラファイト結合 / ダイヤモンド結合 / 抵抗変化 / 結合状態変化 / 結晶性向上 / ナノプロセス / 結晶化 / 電子デバイス / 電極・配線 / 電流の作用 / ドーピング / 多層グラフェン / 膜質向上 / 電流ストレス / アニール / 均一性改善 / 直接堆積 / 電流密度 / 結晶性改善 / 電流印加アニール / グラフェン形成 / 集積回路 / 結晶性 / 低温プロセス / 化学的気相成長 / グラフェン配線 / 電子散乱 / 熱処理方法 / 微細構造制御 / 超臨界流体 / 集積回路プロセス / 電子デバイス・機器 / 電子・電気材料 / デバイス設計・製造プロセス / 半導体超微細化 / 集積回路配線 … もっと見る研究代表者以外薄膜 / Ge / 環境制御装置 / ALS / 多変量解析 / 脳血流量 / めっき法 / フレキシブル基板 / ゲルマニウムセンサー / YES/NO判定 / 脳血流 / 薄膜センサ / NIRS / flexible sensor / YES/NO judge system 隠す

電流印加によるナノカーボンの構造変化と抵抗変化の関係解明研究代表者
- 研究代表者
  
  上野和良
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
- 研究機関
  芝浦工業大学
電流印加による多層グラフェン固相析出プロセスの低温化と低抵抗化研究代表者
- 研究代表者
  
  上野和良
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
- 研究機関
  芝浦工業大学
電流ストレス印加CVDおよびアニールによるグラフェン配線の低抵抗化研究代表者
- 研究代表者
  
  上野和良
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  芝浦工業大学
血中酸素飽和度測定のための超薄型センサーヘッドシステムの開発
- 研究代表者
  
  内田恭敬
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2014
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  リハビリテーション科学・福祉工学
- 研究機関
  帝京科学大学
超臨界アニールおよびEMアニールによる微細銅配線の低抵抗化研究代表者
- 研究代表者
  
  上野和良
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  芝浦工業大学

[図書] 半導体・MEMSのための超臨界流体2012
- 著者名/発表者名
  上野和良、他
- 出版者
  コロナ社
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[雑誌論文] Advances in multilayer graphene processes for metallization and high-frequency devices2023
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: SA ページ: SA0802-SA0802
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac8884
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[雑誌論文] Optimization of MoCl5 intercalation for low-resistance and low-damage exfoliated highly oriented graphite2022
- 著者名/発表者名
  Ekkaphop Ketsombun, Kazuyoshi Ueno
- 雑誌名
  
  Microelectronic Engineering
  
  巻: 252 ページ: 111666-111666
- DOI
  10.1016/j.mee.2021.111666
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[雑誌論文] Present Status and Prospect of Graphene Interconnect Applications2022
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 雑誌名
  
  IEICE Transactions on Electronics
  
  巻: E105.C 号: 10 ページ: 572-577
- DOI
  10.1587/transele.2021FUP0008
- ISSN
  0916-8524, 1745-1353
- 年月日
  2022-10-01
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[雑誌論文] Present status and prospect of graphene interconnect applications2022
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 雑誌名
  
  IEICE Transaction
  
  巻: E105-C, No.10
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[雑誌論文] Low-temperature synthesis of multilayer graphene directly on SiO2 by current-enhanced solid-phase deposition using Ni catalyst2020
- 著者名/発表者名
  Tomohiro Tamura and Kazuyoshi Ueno
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: 6 ページ: 066501-066501
- DOI
  10.35848/1347-4065/ab9165
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[雑誌論文] Reaction temperature and time dependence of MoCl5 intercalation to few-layer graphene2020
- 著者名/発表者名
  Ekkaphop Ketsombun, Xiangyu Wu, Inge Asselberghs, Swati Achra, Cedric Huyghebaert, Dennis Lin, Zsolt Tokei and Kazuyoshi Ueno
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: SL ページ: SLLE01-SLLE01
- DOI
  10.35848/1347-4065/ab7e3c
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[雑誌論文] Enhancing Interface Doping in Graphene-Metal Hybrid Devices using H2 Plasma Clean2020
- 著者名/発表者名
  2)S. Achra, T. Akimoto, J-F. Mameffe, T. Nuytten, X. Wu, S. Brems, I. Asselberghs, Z. Tokei, K. Ueno, M, Heyns
- 雑誌名
  
  Applied Surface Science
  
  巻: 538 ページ: 148046-148046
- DOI
  10.1016/j.apsusc.2020.148046
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[雑誌論文] Thermal stability of a Schottky diode fabricated with transfer-free deposition of multilayer graphene on n-GaN by solid-phase reactions2017
- 著者名/発表者名
  Uddin Md. Sahab　Ueno Kazuyoshi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 56 号: 7S2 ページ: 07KD05-07KD05
- DOI
  10.7567/jjap.56.07kd05
- NAID
  210000148107
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[雑誌論文] Effect of current stress during thermal CVD of multilayer graphene on cobalt catalytic layer2016
- 著者名/発表者名
  K. Ueno, H. Ichikawa, T. Uchida
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 55 号: 4S ページ: 04EC13-04EC13
- DOI
  10.7567/jjap.55.04ec13
- NAID
  210000146293
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[雑誌論文] Improvement of multilayer graphene crystallinity by solid-phase precipitation with current stress application during annealing2016
- 著者名/発表者名
  Md. S. Uddin, H. Ichikawa, S. Sano, K. Ueno
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 55 号: 6S3 ページ: 06JH02-06JH02
- DOI
  10.7567/jjap.55.06jh02
- NAID
  210000146738
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[雑誌論文] Properties of electrodeposited germanium thin films2014
- 著者名/発表者名
  Y. Uchida, T. Funayama, Y. Kogure and K. Ueno
- 雑誌名
  
  Phys. Status Solidi C
  
  巻: 11-12 号: 11-12 ページ: 1661-1664
- DOI
  10.1002/pssc.201400094
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24500661, KAKENHI-PROJECT-26350635
[雑誌論文] 半導体集積回路の配線に用いる銅めっき膜の不純物2012
- 著者名/発表者名
  上野和良
- 雑誌名
  
  表面技術
  
  巻: 63 号: 4 ページ: 227
- DOI
  10.4139/sfj.63.227
- NAID
  130002553394
- ISSN
  0915-1869, 1884-3409
- 言語
  日本語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[雑誌論文] Japanese Journal of Applied Physics2012
- 著者名/発表者名
  Liyana Razak, Takamasa Yamaguchi, Seishi Akahori, Hideki Hashimoto, Kazuyoshi Ueno
- 雑誌名
  
  Current Induced Grain Growth of Electroplated Copper Film
  
  巻: 51 05EA04 号: 5S ページ: 1-6
- DOI
  10.1143/jjap.51.05ea04
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[雑誌論文] 半導体集積回路の配線に用いる銅めっき膜の不純物（解説）2012
- 著者名/発表者名
  上野　和良
- 雑誌名
  
  表面技術
  
  巻: 63 ページ: 227-232
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[雑誌論文] 超臨界流体中アニールによるめっき銅膜の改質2010
- 著者名/発表者名
  上野和良, (他計10名)
- 雑誌名
  
  表面技術
  
  巻: 61 ページ: 583-586
- NAID
  10026542629
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[雑誌論文] Grain Growth Enhancement of Electroplated Copper Film by Supercritical Annealing2010
- 著者名/発表者名
  上野和良, (他計10名)
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 49
- NAID
  210000068523
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[雑誌論文] Grain Growth Enhancement of Electroplated Copper Film by Supercritical Annealing2010
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno, Yuji Shimada, Shigeru Yomogida, Seishi Akahori,Tomohiko Yamamoto,Takamasa Yamaguchi, Yoshinori Aoki, Akiko Matsuyama, Takashi Yata,, Hideki Hashimoto
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 49 05FA08 号: 5S2 ページ: 05FA08-05FA08
- DOI
  10.1143/jjap.49.05fa08
- NAID
  210000068523
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[産業財産権] グラフェン膜製造方法、グラフェン膜製造装置2013
- 発明者名
  上野　和良、ラザク　リヤナ
- 権利者名
  芝浦工業大学
- 産業財産権種類
  特許
- 出願年月日
  2013-01-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[産業財産権] グラフェン膜製造方法、グラフェン膜製造装置2013
- 発明者名
  上野和良、ラザクリヤナ
- 権利者名
  芝浦工業大学
- 取得年月日
  2013-01-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] Optimization for current-enhanced solid-phase deposition of multi-layer graphene with high crystallinity and uniformity2023
- 著者名/発表者名
  Ryutaro Tsuchida,　Kazuyoshi .Ueno
- 学会等名
  7th International Conference on Nano and Materials Science (ICNMS)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] パターンNi触媒を用いた固相析出法による多層グラフェン形成2023
- 著者名/発表者名
  小笹滉太、上野和良
- 学会等名
  第84回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04222
[学会発表] Adhesion improvement of multilayer graphene formed by solid phase deposition on SiO2 with Ti adhesion layer2023
- 著者名/発表者名
  Takumi Nishimura, Motonobu Sato, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference, Asian session (ADMETA Plus) 2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04222
[学会発表] Intercalated multilayer graphene / nickel hybrid antenna　with enhanced inductance density for size reduction2023
- 著者名/発表者名
  Keigo Hosokawa, Kenta Matsunaga, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  7th IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing (EDTM) Conf. 2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Effect of current on Ni catalyst layer used for current-enhanced CVD of multilayer graphene2022
- 著者名/発表者名
  Junpei Tokida, Reno Hasumi, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  2022 IEEE International Interconnect Technology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] 電流を印加した多層グラフェンの層交換成長2022
- 著者名/発表者名
  土田龍太郎、上野和良
- 学会等名
  電気化学会 2022年電気化学春季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Recent progress in graphene processes for metallization and RF applications2022
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC2022)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] 電流印加多層グラフェンCVDのNi触媒層における電流の影響2022
- 著者名/発表者名
  時田　純平、上野　和良
- 学会等名
  電気化学会2022年電気化学春季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] 多層グラフェンの電流印加層交換成長における昇温速度依存性2022
- 著者名/発表者名
  土田　龍太郎, 上野和良
- 学会等名
  2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Advances in graphene processes for metallization and high frequency devices2022
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  14th Int. Symp. Advanced Plasma Sci. and its Applications for Nitrides and Nanomaterials /15th Int.Conf. Plasma-Nano Technology & Sci.
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Effect of current on Ni catalyst layer used for current-enhanced CVD of multilayer graphene2022
- 著者名/発表者名
  Junpei Tokida, Reno Hasumi, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] ドープ多層グラフェンを用いたパッチアンテナの作製2022
- 著者名/発表者名
  松永健太、秋本　知輝、ケトソンブン　エッカフォップ、上野　和良
- 学会等名
  電気化学会 2022年電気化学春季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Advances in graphene processes for metallization and high frequency devices2022
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  14th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Recent progress in graphene processes for metallization and RF applications2022
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  2022 IEEE International Interconnect Technology Conference
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] 電流を印加した多層グラフェンの層交換成長2022
- 著者名/発表者名
  土田　龍太郎、上野　和良
- 学会等名
  電気化学会2022年電気化学春季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Present status and prospect of graphene interconnect applications2021
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  2021 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Fabrication of highly doped MLG patterns using selective CVD and MoCl5 intercalation2021
- 著者名/発表者名
  Ekkaphop Ketsombun, Tomoki Akimoto, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  2021 IEEE International Interconnect Technology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] フォトリソグラフィで形成したNiパターンへの選択CVDによる高濃度ドープMLGパターン形成2021
- 著者名/発表者名
  大山　嵩太、Ekkaphop Ketsombun、上野　和良
- 学会等名
  第85回半導体・集積回路技術シンポジウム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] 窒素添加ニッケル触媒を用いた電流印加固相析出法による多層グラフェン形成2020
- 著者名/発表者名
  泉沢　錬、小早川　祥輝、上野　和良
- 学会等名
  第84回半導体・集積回路シンポジウム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Efficient MoCl5 intercalation doping of multilayer graphene for low-resistance and low-damage2020
- 著者名/発表者名
  2)Ekkaphop Ketsombun, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] MoCl5 Intercalation for CVD Graphene at Low Temperature using High Chemical Concentration2019
- 著者名/発表者名
  Ketsombun Ekkaphop,Kosuke Yokosawa, Xiangyu Wu, Inge Asselberghs, Swati Achra, Cedric Huyghebaert, Zsolt Tokei and Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC 2019) and the Materials for Advanced Metallization Conference (MAM 2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Layer Number Dependence of MoCl5 Intercalation to Few-Layer Graphene2019
- 著者名/発表者名
  Ekkaphop Ketsombun, Xiangyu Wu, Inge Asselberghs, Swati Achra, Cedric Huyghebaert, Dennis Lin, Zsolt Tokei and Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2019 (ADMETA2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Chemical Concentration Dependence of MoCl5 Intercalation to Bilayer Graphene2019
- 著者名/発表者名
  Ekkaphop Ketsombun, Xiangyu Wu, Inge Asselberghs, Swati Achra, Cedric Huyghebaert, Dennis Lin, Zsolt Tokei and Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  第80回応用物理学会秋季学術講演会（2019　北海道）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Synthesis of Nintrogen-doped Multilayer Graphene Film by Solid-Phase Deposition Using Co-N Catalyst2019
- 著者名/発表者名
  Yuki Fujishima and Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  IEEE Electron Device Technology and Manufacturing (EDTM2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] ナノカーボンの配線・電極への応用2018
- 著者名/発表者名
  上野　和良
- 学会等名
  電気化学会第85回大会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] 電流印加固相析出によるSiO2上への多層グラフェンの直接形成2018
- 著者名/発表者名
  田村智洋, 上野和良
- 学会等名
  第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Current-Enhanced Solid Phase Precipitation of Multilayer Graphnen Directly on SiO22018
- 著者名/発表者名
  Tomohiro Tamura and Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  29th International Conference on Diamond and Carbon Materials (DIAM2018)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04289
[学会発表] Improvement of multilayer graphene (MLG) / n-GaN Schottky diode properties fabricated with transfer-free deposition of MLG on n-GaN by solid-phase reaction2017
- 著者名/発表者名
  Uddin Md. Sahab and Ueno Kazuyoshi
- 学会等名
  第81回半導体・集積回路シンポジウム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] Current enhanced solid phase precipitation (CE-SPP) for direct deposition of multilayer graphene on SiO2 from a Cu capped Co-C layer2017
- 著者名/発表者名
  H. Ichikawa, K. Ueno
- 学会等名
  2017 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference
- 発表場所
  Toyama International Conference Center
- 年月日
  2017-02-28
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] Effect of current stress on formation and crystallinity of multilayer graphene by solid phase precipitation2016
- 著者名/発表者名
  Md. Sahab Uddin, Hiroyasu Ichikawa, Shota Sano, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  10th SEATAC Symposium
- 発表場所
  Shibaura Institute of Technology
- 年月日
  2016-02-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] 電流印加した固相析出法によるグラフェン形成2016
- 著者名/発表者名
  ウッディン　MD　サハブ、市川　博康、佐野　翔太、上野　和良
- 学会等名
  応用物理学会シリコンテクノロジー分科会「配線・実装技術の新展開」
- 発表場所
  機械振興会館
- 年月日
  2016-01-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] Improvement of multilayer graphene crystallinity by solid phase precipitation applying current stress during annealing2015
- 著者名/発表者名
  Md. Sahab Uddin, Hiroyasu Ichikawa, Shota Sano, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2015 Asian Session
- 発表場所
  Seoul National University
- 年月日
  2015-09-17
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] Effect of current stress during thermal CVD of multilayer graphene on cobalt catalytic layer2015
- 著者名/発表者名
  Hiroyasu Ichikawa, Takaki Uchida, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  2015 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  Sapporo Convention Center
- 年月日
  2015-09-27
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] 熱CVD中の電流印加による多層グラフェンの膜質改善2015
- 著者名/発表者名
  市川　博康、内田　昂紀、上野　和良
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場
- 年月日
  2015-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420319
[学会発表] Properties of electrodeposited Germanium thin films2014
- 著者名/発表者名
  Y. Uchida, T. Funayama, Y. Kogure, K. Ueno,
- 学会等名
  Europian-Material Research Society 2014 Spring Meeting
- 発表場所
  Lille,(France)
- 年月日
  2014-05-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24500661
[学会発表] Improvement of Multilayer Graphene Quality by Current Stress during Thermal CVD2013
- 著者名/発表者名
  Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  Materials for Advanced Metallization (MAM) 2013
- 発表場所
  Leuven, Belgium
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] Improvement of Multilayer Graphene Quality by Current Stress during Thermal CVD2013
- 著者名/発表者名
  Liyana Razak, Daiki Tobino, Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  Materials for Advanced Metallization 2013
- 発表場所
  Leuven、Belgium
- 年月日
  2013-03-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] 電流を印加した熱CVD法によるナノカーボン成長2013
- 著者名/発表者名
  上野　和良
- 学会等名
  第60回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  厚木市、神奈川県
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] 超臨界アニールによるめっき銅膜の粒成長(4) EBSDによる粒観察2011
- 著者名/発表者名
  青木和慶,蓬田茂,伊藤寛征, 中島里絵, 池野昌彦, 上野和良
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形
- 年月日
  2011-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] Current Induced Grain Growth of Electro-plated Copper Film2011
- 著者名/発表者名
  Liyana Razak, Takamasa, Yamaguchi, Seishi Akahori, Hideki Hasimoto, and Kazuyoshi Ueno
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2011, Asian Session
- 発表場所
  Tokyo
- 年月日
  2011-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] 電流ストレスによるめっきCu薄膜の粒成長:添加剤濃度依存性2011
- 著者名/発表者名
  上野和良
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形(山形大学)
- 年月日
  2011-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] 超臨界アニールによるめっき銅膜の粒成長(4)EBSDによる粒観察2011
- 著者名/発表者名
  上野和良
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形(山形大学)
- 年月日
  2011-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] Current Induced Grain Growth of Electroplated Copper Film2011
- 著者名/発表者名
  上野和良
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2011, 21^<st>. Asian Session
- 発表場所
  東京(芝浦工業大学)
- 年月日
  2011-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560344
[学会発表] Evaluation of electrodeposited Germanium thin films
- 著者名/発表者名
  Y. Uchida, T. Funayama, Y. Kogure, K. Ueno
- 学会等名
  第23回日本MRS年次大会、T-P10-025
- 発表場所
  横浜
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24500661
[学会発表] めっき法により堆積したGe 膜の評価
- 著者名/発表者名
  内田恭敬，白濱大援，中島基博，舩山朋子，木暮嘉明，上野和良
- 学会等名
  第74 回応用物理学会秋季学術講演会、17ｐ-P11-1
- 発表場所
  京都
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24500661

1. 内田恭敬 (80134823)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 4件
2. 木暮嘉明 (20016124)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 4件
3. 舩山朋子 (20460389)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 4件

上野 和良 UENO Kazuyoshi

研究課題

研究成果

共同研究者

電流印加によるナノカーボンの構造変化と抵抗変化の関係解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

電流印加による多層グラフェン固相析出プロセスの低温化と低抵抗化研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

電流ストレス印加CVDおよびアニールによるグラフェン配線の低抵抗化研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

血中酸素飽和度測定のための超薄型センサーヘッドシステムの開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

超臨界アニールおよびEMアニールによる微細銅配線の低抵抗化研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] 半導体・MEMSのための超臨界流体2012

著者名/発表者名

出版者

データソース

[雑誌論文] Advances in multilayer graphene processes for metallization and high-frequency devices2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Optimization of MoCl5 intercalation for low-resistance and low-damage exfoliated highly oriented graphite2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Present Status and Prospect of Graphene Interconnect Applications2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Present status and prospect of graphene interconnect applications2022

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Low-temperature synthesis of multilayer graphene directly on SiO2 by current-enhanced solid-phase deposition using Ni catalyst2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Reaction temperature and time dependence of MoCl5 intercalation to few-layer graphene2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Enhancing Interface Doping in Graphene-Metal Hybrid Devices using H2 Plasma Clean2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Thermal stability of a Schottky diode fabricated with transfer-free deposition of multilayer graphene on n-GaN by solid-phase reactions2017

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

上野和良 UENO Kazuyoshi