| 研究者番号 |
10757248
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| その他のID |
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| 所属 (現在) |
2025年度: 鈴鹿工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授
2025年度: 鈴鹿工業高等専門学校, その他部局等, 准教授
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| 所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 |
2025年度: 鈴鹿工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授
2021年度 – 2022年度: 鈴鹿工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授
2018年度 – 2019年度: 鈴鹿工業高等専門学校, その他部局等, 准教授
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| 審査区分/研究分野 |
- 研究代表者
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小区分30010:結晶工学関連 /
小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
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| キーワード |
- 研究代表者
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液相エピタキシャル結晶成長 / 表面融液 / ナノニードル結晶 / 局所静電プロセッシング / 電子ビーム溶融 / 高電界印加 / 強磁場印加 / その場観察 / 表面微細パターニング / エレクトロマイグレーション
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/ 溶融凝固 / 半導体微細加工法 / 鉄シリサイド / 液相エピタキシャル成長 / 準溶融状態 / シリコン / 表面結晶アレイ / シリサイド微小結晶 / 表面融液エピタキシャル結晶成長
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