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市川 公善  Ichikawa Kimiyoshi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 10829427
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 金沢大学, ナノマテリアル研究所, 特任准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2023年度: 金沢大学, ナノマテリアル研究所, 特任助教
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分26020:無機材料および物性関連
キーワード
研究代表者
不純物ドープ / 熱フィラメントCVD / エピタキシャル成長 / 転位 / ダイヤモンド
  • 研究課題

    (1件)
  • 研究成果

    (3件)
  •  金属ドープダイヤモンド成長の転位論と低転位密度結晶の創製研究代表者

    • 研究代表者
      市川 公善
    • 研究期間 (年度)
      2023 – 2025
    • 研究種目
      若手研究
    • 審査区分
      小区分26020:無機材料および物性関連
    • 研究機関
      金沢大学

すべて 2023

すべて 学会発表

  • [学会発表] HFCVDを用いたホモエピタキシャルダイヤモンド(111)成長におけるフィラメント温度の影響2023

    • 著者名/発表者名
      市川 公善、田口 稜真、小林 和樹、松本 翼、林 寛、猪熊 孝夫、山崎 聡 、徳 田 規夫
    • 学会等名
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K13543
  • [学会発表] 熱フィラメントCVD法を用いたホモエピタキシャル ダイヤモンド(111)成長2023

    • 著者名/発表者名
      市川 公善、田口 稜真、小林 和樹、松本 翼、林 寛、猪熊 孝夫、山崎 聡 、徳 田 規夫
    • 学会等名
      第37回ダイヤモンドシンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K13543
  • [学会発表] ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜/基板界面での転位変換2023

    • 著者名/発表者名
      市川 公善,寺地 徳之
    • 学会等名
      先進パワー半導体分科会第10回講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K13543

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