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佐藤 忠夫  SATO Tadao

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 20002941
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2003年度 – 2005年度: 室蘭工業大学, 工学部, 教授
1991年度 – 1992年度: 室蘭工業大学, 工学部, 助教授
1986年度: 室工大, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野
研究代表者
金属材料 / 材料加工・処理
研究代表者以外
金属製錬・金属化学
キーワード
研究代表者
RF Ion Plating Method / Titanium Diboride / CVD法 / RFイオンプレーティング法 / 2ホウ化チタン / ホウ酸形成 / SUS304鋼 / ホウ酸皮膜成長形態 / 原子間力顕微鏡 / 自己修復 / 潤滑被膜 / ホウ酸膜形成 / ホウ素浸透 … もっと見る
研究代表者以外
… もっと見る Molten Salt / Solubility / Rare Earth Metal / Activation Energy / Rate-determing Step / Mechanism / Thermal Reduction Reaction / Rare Earth Oxide / 活性化エネルギ- / 速度論 / レア・ア-ス酸化物 / 溶融塩 / 溶解度 / レア・アース金属 / 活性化エネルギー / 律速段階 / 反応機構 / 熱還元反応 / レア・アース酸化物 隠す
  • 研究課題

    (3件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  自己修復型ホウ酸系潤滑皮膜の開発研究代表者

    • 研究代表者
      佐藤 忠夫
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      材料加工・処理
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  •  金属熱還元法によるレア・アース酸化物(Tm_2O_3およびYb_2O_3)の還元反応機構

    • 研究代表者
      嶋影 和宜
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      金属製錬・金属化学
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  •  反応性RFイオンプレーティングによる2ホウ化チタン被膜の合成研究代表者

    • 研究代表者
      佐藤 忠夫
    • 研究期間 (年度)
      1985 – 1986
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      金属材料
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  • 1.  嶋影 和宜 (70005346)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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