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大橋 朝夫  OHASHI Asao

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 20023244
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1998年度 – 1999年度: 愛知工業大学, 工学部, 教授
1994年度: 朝夫工業大学, 工学部, 教授
1993年度 – 1994年度: 愛知工業大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
電子・電気材料工学
研究代表者以外
電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者
Organic gas / Nonlinear optical single crystal / Third-order susceptibility / Vanadyl-phthalocyanine / Third harmonic generation / Second harmonic generation / Pseudoepitaxy / Epitaxy / 光コンピュータ / 分子線エピタキシー … もっと見る / 光スイッチング / 光コンピュータ用IC / KBr基板 / 三次非線形光学感受率 / エピタキシー成長 / 単結晶 / 分子線エピタキシー装置 / 有機ガス / 非線形光学単結晶 / 3次非線形光学感受率 / バナジルフタロシアニン / 3次高調波 / 2次高調波 / 擬似エピタキシー / エピタキシー … もっと見る
研究代表者以外
X Ray Diffraction (XRD) / X ray Photoelectron Spectroscopy (ESCA) / Second-order Nonlinear Optical Thin Film / Mica / Vanadyl Phthalocyanine / Molecular Beam Epitaxy (MBE) / Substrate interface / Nonlinear Optical Thin Film / 化学シフト / 薄膜界面の強い相互作用 / 基板 / マイカ基板 / 溶融石英基板 / エピタキシキシャル成長 / 最適蒸発源温度 / VOPc薄膜のX線光電子分光 / 非線形光学材料 / X線回折装置 / X線光電子分光装置(ESCA) / 二次光非線形薄膜 / 雲母 / バナジルフタロシアニン / 分子線エピタキシ- / 基板界面 / 光非線形薄膜 隠す
  • 研究課題

    (2件)
  • 共同研究者

    (5人)
  •  非線形光学用単結晶の非線形光学特性に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      大橋 朝夫
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      愛知工業大学
  •  光非線形性薄膜の作成とその物理・化学的評価および電気物性に関する研究

    • 研究代表者
      家田 正之
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      一般研究(A)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      愛知工業大学
  • 1.  落合 鎮康 (10078909)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  家田 正之 (50022984)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  前田 昭徳 (40078910)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  内田 悦行 (20023187)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  小嶋 憲三 (30064942)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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