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山崎 登志成  YAMAZAKI Toshinari

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 20200660
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1990年度 – 1991年度: 富山大学, 工学部, 講師
審査区分/研究分野
研究代表者
応用物理学一般
研究代表者以外
金属物性
キーワード
研究代表者
Composition / Thickness / Molybdenum Silicide / Uniformity / Thin Film / Angular Distribution / Sputtering / 組成均一性 / モリブデシシリサイド / スパッタリング … もっと見る / 組成 / 膜厚 / モリブデンシリサイド / 均一性 / 薄膜 / 角度分布 / スパッタ … もっと見る
研究代表者以外
metal-semiconductor transition / desk-top-type sputtering apparatus / amorphous / V-Si / 低温比熱 / 中性子回折 / 超高速スパッタ装置 / 金属一半導体相転移 / 金属-半導体相転移 / デスク・トップ型スパッタ装置 / アモルファス 隠す
  • 研究課題

    (2件)
  • 共同研究者

    (4人)
  •  デスク・トップ型超高速スパッタ装置の試作と金属-半導体相転移の研究

    • 研究代表者
      水谷 宇一郎
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      金属物性
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  スパッタリング薄膜の組成均一性に及ぼす原子の放出角度分布の影響研究代表者

    • 研究代表者
      山崎 登志成
    • 研究期間 (年度)
      1990 – 1991
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      富山大学
  • 1.  水谷 宇一郎 (00072679)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  古谷野 有 (00215419)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  福永 俊晴 (60142072)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  深道 和明 (00005969)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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