メニュー
検索
研究課題をさがす
研究者をさがす
KAKENの使い方
日本語
英語
前のページに戻る
高塚 登志子
Takatsuka Toshiko
ORCID連携する
*注記
…
別表記
奥井 登志子 オクイ トシコ
隠す
研究者番号
20398895
その他のID
所属 (現在)
2020年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 主任研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく)
*注記
2005年度 – 2006年度: 武蔵工業大学, 総合研究所, ポストドクター
審査区分/研究分野
研究代表者
電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者
電子・電気材料 / 半導体物性 / ヘテロ構造 / 走査プロープ顕微鏡 / 走査プローブ顕微鏡
研究課題
(
1
件)
研究成果
(
1
件)
研究開始年: 新しい順
研究開始年: 古い順
走査型トンネル顕微鏡によるSiGe系微細ヘテロ構造のポテンシャル解析
研究代表者
研究代表者
奥井 登志子
研究期間 (年度)
2005 – 2006
研究種目
若手研究(B)
研究分野
電子・電気材料工学
研究機関
武蔵工業大学
すべて
2007
すべて
雑誌論文
[雑誌論文] Surface treatments of SiGe for scanning tunneling microscopy/spectroscopy and characterization of SiGe p-n junction
2007
著者名/発表者名
奥井登志子
雑誌名
Journal of Vacuum Science & Technology B Vol. 25, No. 1
ページ
: 29-32
データソース
KAKENHI-PROJECT-17760257
×
この研究者とORCID iDの連携を行いますか?
※ この処理は、研究者本人だけが実行できます。
×
×