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大橋 史隆  Ohashi Fumitaka

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 20613087
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 岐阜大学, 工学部, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2020年度 – 2025年度: 岐阜大学, 工学部, 准教授
2016年度 – 2019年度: 岐阜大学, 工学部, 助教
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分13020:半導体、光物性および原子物理関連 / 無機材料・物性
研究代表者以外
中区分21:電気電子工学およびその関連分野 / 小区分21050:電気電子材料工学関連 / 電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者
薄膜 / クラスレート / 光物性 / 電子物性 / IV族系材料 / ナトリウム / 半導体 / 結晶成長 / 合成技術 / IV族 … もっと見る / Hall効果測定 / 光透過測定 / 合成 / 光透過スペクトル / ゲルマニウム / シリコン / 膜状合成 … もっと見る
研究代表者以外
半導体クラスレート / 半導体材料 / IV族クラスレート / 半導体クラスレート薄膜 / SiGeクラスレート薄膜 / SiGe混晶クラスレート / 薄膜 / クラスレート薄膜 / クラスレート / 太陽電池 / 電子・電気材料 / IV族半導体クラスレート / IV族元素 / 薄膜II型クラスレート 隠す
  • 研究課題

    (5件)
  • 研究成果

    (78件)
  • 共同研究者

    (7人)
  •  直接ギャップを有するIV族系新材料クラスレートの創成と物性解明

    • 研究代表者
      久米 徹二
    • 研究期間 (年度)
      2025 – 2028
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 審査区分
      中区分21:電気電子工学およびその関連分野
    • 研究機関
      岐阜大学
  •  直接遷移型IV族半導体クラスレートの創成と光デバイス応用

    • 研究代表者
      久米 徹二
    • 研究期間 (年度)
      2021 – 2024
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 審査区分
      小区分21050:電気電子材料工学関連
    • 研究機関
      岐阜大学
  •  IV族クラスレートの内包Naの制御および電子、光物性評価研究代表者

    • 研究代表者
      大橋 史隆
    • 研究期間 (年度)
      2020 – 2022
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分13020:半導体、光物性および原子物理関連
    • 研究機関
      岐阜大学
  •  可視光領域の直接ギャップを有するSiGe混晶クラスレートの物性解明

    • 研究代表者
      久米 徹二
    • 研究期間 (年度)
      2017 – 2020
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      岐阜大学
  •  IV族クラスレート膜の新規合成方法の開発研究代表者

    • 研究代表者
      大橋 史隆
    • 研究期間 (年度)
      2016 – 2018
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      無機材料・物性
    • 研究機関
      岐阜大学

すべて 2024 2023 2022 2021 2020 2019 2018 2017 2016

すべて 雑誌論文 学会発表

  • [雑誌論文] Synthesis and Characterization of Type II Ge-Si Clathrate Films for Optoelectronic Applications2024

    • 著者名/発表者名
      Kumar Rahul、Kurita Shiori、Ohashi Fumitaka、Iida Tamio、Habuchi Hitoe、Kume Tetsuji
    • 雑誌名

      Materials

      巻: 17 号: 2 ページ: 504-504

    • DOI

      10.3390/ma17020504

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [雑誌論文] Synthesis and optical properties of Ge clathrate films with and without Al doping2023

    • 著者名/発表者名
      Aye Tun Naing、Kawaura Yuto、Kumar Rahul、Ohashi Fumitaka、Jha Himanshu S.、Kume Tetsuji
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 62 号: SD ページ: SD1018-SD1018

    • DOI

      10.35848/1347-4065/acade8

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820, KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [雑誌論文] Optimization of synthesis condition of type II Ge clathrate film2023

    • 著者名/発表者名
      Kumar Rahul、Yamada Kohei、Ohashi Fumitaka、Jha Himanshu Shekhar、Kume Tetsuji
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 62 号: SD ページ: SD1020-SD1020

    • DOI

      10.35848/1347-4065/acae2c

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820, KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [雑誌論文] A fabrication method for type-II Ge clathrate film by annealing of Ge film covered with Na layer2021

    • 著者名/発表者名
      Kumar Rahul、Hazama Yuta、Ohashi Fumitaka、Jha Himanshu S.、Kume Tetsuji
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 734 ページ: 138859-138859

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2021.138859

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820, KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [雑誌論文] X-Ray Diffraction Investigation of Lithium Silicides under High Pressure2020

    • 著者名/発表者名
      Iwasa H.、Ikemoto S.、Ohashi F.、Jha H. S.、Kume T.
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics: Conference Proceedings

      巻: 8 ページ: 011302-011302

    • DOI

      10.7567/jjapcp.8.011302

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [雑誌論文] Preparation of Guest Free Type?II Si?Ge Clathrate Using Ionic Liquid Method2020

    • 著者名/発表者名
      Hisamatsu H.、Yamada K.、Ohashi F.、Jha H. S.、Kume T.
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Conference Proceedings

      巻: 8 ページ: 011302-011302

    • DOI

      10.7567/jjapcp.8.011102

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820, KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [雑誌論文] Growth of Ge clathrate on sapphire and optical properties2020

    • 著者名/発表者名
      Kumar R.、Maeda T.、Hazama Y.、Ohashi F.、Jha H. S.、Kume T.
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: SF ページ: SFFC05-SFFC05

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ab6e0a

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820, KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [雑誌論文] Growth of Si Clathrate Films with Various Annealing Conditions2020

    • 著者名/発表者名
      Tanaka K.、Kumar R.、Maeda T.、Ohashi F.、Jha H. S.、Kume T.
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Conference Proceedings

      巻: 8 ページ: 011101-011101

    • DOI

      10.7567/jjapcp.8.011101

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820, KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [雑誌論文] Electron spin resonance, dynamic Jahn-Teller effect, and electric transport mechanism in Na-doped type II silicon clathrates2020

    • 著者名/発表者名
      Yamaga Mitsuo、Kishita Takumi、Goto Kouhei、Sunaba Shogo、Kume Tetsuji、Ban Takayuki、Himeno Roto、Ohashi Fumitaka、Nonomura Shuichi
    • 雑誌名

      Journal of Physics and Chemistry of Solids

      巻: 140 ページ: 109358-109358

    • DOI

      10.1016/j.jpcs.2020.109358

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820, KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [雑誌論文] Group IV clathrates for photovoltaic applications2017

    • 著者名/発表者名
      Kume Tetsuji、Ohashi Fumitaka、Nonomura Shuichi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 56 号: 5S1 ページ: 05DA05-05DA05

    • DOI

      10.7567/jjap.56.05da05

    • NAID

      210000147753

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [雑誌論文] Cross-sectional transmission electron microscope observation of Si clathrate thin films grown on Si(111) substrates2017

    • 著者名/発表者名
      3.Kentaro Sakai, Hirotaka Takeshita, Tomohiro Haraguchi, Hidetoshi Suzuki, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume, Atsuhiko Fukuyama, Shuichi Nonomura, Tetsuo Ikari
    • 雑誌名

      Thin Solid films

      巻: 621 ページ: 32-35

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2016.11.019

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [雑誌論文] Group IV clathrates for photovoltaic application2017

    • 著者名/発表者名
      Tetsuji Kume, Fumitaka Ohashi, Shuichi Nonomura
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Progress Review

      巻: 56

    • NAID

      210000147753

    • 査読あり / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] チウム-スズ化合物の高圧下XRD測定2023

    • 著者名/発表者名
      増田隼多,鵜飼泰生, Jha Himanshu S., 大橋史隆, 久米徹二
    • 学会等名
      第64回高圧討論会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Nax(AlyGe1-y)136膜の構造および光学的評価2023

    • 著者名/発表者名
      福田悠馬,Tun Naing Aye, Rahul Kumar, Himanshu S. Jha, 大橋史隆, 久米徹二
    • 学会等名
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] 構造II型SiおよびGe半導体クラスレートの研究開発2023

    • 著者名/発表者名
      大橋史隆、久米徹二
    • 学会等名
      第10回次世代太陽電池用新材料研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] 様々なSiGe原子組成比をもつII型SiGe合金クラスレート薄膜の結晶構造および光学特性評価2023

    • 著者名/発表者名
      新谷 明宏、栗田 詩織、大橋 史隆、Jha Himanshu、Kumar Rahul、久米 徹二
    • 学会等名
      第70回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] 様々なSiGe組成比のII型SiGe合金クラスレート薄膜の結晶構造および光学特性評価2023

    • 著者名/発表者名
      新谷明宏, 栗田詩織, 大橋史隆, Himanshu S. Jha, Rahul Kumar, 久米徹二
    • 学会等名
      第70回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Alをドープした構造II型Geクラスレート膜の作製と評価2023

    • 著者名/発表者名
      福田悠馬、大橋史隆、久米徹二
    • 学会等名
      第10回次世代太陽電池用新材料研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] II型クラスレートのラットリング振動2023

    • 著者名/発表者名
      前田大成、大橋史隆、久米徹二
    • 学会等名
      第10回次世代太陽電池用新材料研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Optical and Electronic Properties of the Type II Ge Clathrate Film and Effects of Si/Al Doping2022

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar、Shiori Kurita、Tun Naing Aye、Tamio Iida、Hitoe Habuchi、Fumitaka Ohashi、Himanshu S. Jha、Tetsuji Kume
    • 学会等名
      The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] Synthesis and Properties of Type II Ge clathrate film on Sapphire Substrate2022

    • 著者名/発表者名
      Tun Naing Aye, Yuto Kawaura, Rahul Kumar, Himanshu S. Jha, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Thin film synthesis and characterizations of Type II SiGe alloyed clathrates2022

    • 著者名/発表者名
      S. Kurita, R. Noguchi, R. Kumar, TunNaingAye, F. Ohashi, H. S. Jha, T. Kume
    • 学会等名
      33rd International Photovoltaic Sciene and Engineering Conference
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Optical and Electrical Properties of Ge Clathrate films with and without Al doping2022

    • 著者名/発表者名
      Tun Naing Aye, Yuto Kawaura, Rahul Kumar, Fumitaka Ohashi, Himanshu S. Jha, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      The 6th Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Synthesis and Properties of Type II Ge clathrate film on Sapphire Substrate2022

    • 著者名/発表者名
      Tun Naing Aye、Yuto Kawaura、Himanshu S. Jha、Fumitaka Ohashi、Tetsuji Kume
    • 学会等名
      2022年第69回応用物理学会春期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] Optical and Electronic Properties of the Type II Ge Clathrate Film and Effects of Si/Al Doping2022

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar, Shiori Kurita, Tun Naing Aye, Tamio Iida, Hitoe Habuchi, Fumitaka Ohashi, Himanshu S. Jha, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Thin Film Synthesis and Characterizations of Type II SiGe Alloyed Clathrates2022

    • 著者名/発表者名
      Shiori Kurita, Ryo Noguchi, Rahul Kumar, Tun Naing Aye, Fumitaka Ohashi, Himanshu S. Jha, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      nternational Photovoltaic Science and Engineering Conference, PVSEC-33
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] An Experimental Approach to the Optimization of Synthesis Condition of Type II Ge Clathrate Film2022

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar, Kouhei Yamada, Fumitaka Ohashi, Himanshu Shekhar Jha and Tetsuji Kume
    • 学会等名
      The 6th Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] A New Synthesis Technique for type-II Ge Clathrate Film2021

    • 著者名/発表者名
      1.Rahul Kumar, Yuta Hazama, Fumitaka Ohashi1, Himanshu Shekhar Jha, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] リチウム-Ⅳ族化合物の高圧物性2021

    • 著者名/発表者名
      杉浦優太郎,岡部嘉朗,Himanshu S. Jha,大橋史隆,久米徹二
    • 学会等名
      第62回高圧討論会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] A new synthesis technique for type-II Ge clathrate filme2021

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar, Y. Hazama, F. Ohashi, H.S. Jha, T. Kume
    • 学会等名
      第68回応用物理学会学術講演会(オンライン開催)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Optical Properties of Type-II Ge Clathrate Film2021

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar, Kohei Yamada, Tun Naing Aye, Fumitaka Ohashi, H. S. Jha, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第18回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Synthesis of Type-II Ge Clathrate Films with Various Film Thickness2021

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar, Y. Hazama, F. Ohashi, H.S. Jha, T. Kume
    • 学会等名
      第82回応用物理学会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Synthesis of ternary type II clathrate films using AlGe alloy2021

    • 著者名/発表者名
      Tun Naign Aye, Rahul Kumar, Himanshu S. Jha, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第68回応用物理学会学術講演会(オンライン開催)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Synthesis of ternary type II clathrate films using AlGe alloy2021

    • 著者名/発表者名
      2.Tun Naing Aye, Rahul Kumar, Himanshu Shekhar Jha, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] Preparations of Type II Clathrates Thin Films Using AlGe Films2021

    • 著者名/発表者名
      Tun Naing Aye, Yuto Kawaura, Rahul Kumar, Himanshu S. Jha, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第18回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K20952
  • [学会発表] Synthesis of Type-II Ge Clathrate Films with Various Film Thickness2021

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar、Tun Naing Aye、Fumitaka Ohashi、Himanshu Shekhar Jha、Tetsuji Kume
    • 学会等名
      2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] Na内包II型Geクラスレート膜の新規合成方法2020

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar, 大橋 史隆, 山田 航平, Himanshu S. Jha, 久米 徹二
    • 学会等名
      第17回 「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム(岐阜)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Na内包II型Geクラスレート膜の新規合成方法2020

    • 著者名/発表者名
      Rahul Kumar, 大橋 史隆, 山田 航平, Himanshu S. Jha, 久米 徹二
    • 学会等名
      第 17 回 「次世代の太陽光発電システム」- 天下統一スタートの地から新たな一歩 -
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] Synthesis of type II clathrate film using AlGe alloy2020

    • 著者名/発表者名
      4.Tun Naign Aye, Rahul Kumar, Himanshu, S. Jha, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第 17 回 「次世代の太陽光発電システム」- 天下統一スタートの地から新たな一歩 -
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K03820
  • [学会発表] Synthesis of type II clathrate film using AlGe alloy2020

    • 著者名/発表者名
      Tun Naign Aye, Rahul Kumar, Himanshu S. Jha, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume
    • 学会等名
      第17回 「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム(岐阜)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] 新規三元系化合物 LiSi1-x Gex の合成2020

    • 著者名/発表者名
      池本 彰吾, 杉浦 優太郎, ヒマンシュ S ジャ, 大橋 史隆, 久米 徹二
    • 学会等名
      第17回 「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム(岐阜)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Growth of Si Clathrate Films with Various Annealing Conditions,2019

    • 著者名/発表者名
      K. Tanaka, R. Kumar, T. Maeda, F. Ohashi, H. S. Jha, and T. Kume
    • 学会等名
      APAC Silicide 2019
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Electronic properties of Na doped type II Ge clathrate film grown on sapphire substrate,2019

    • 著者名/発表者名
      R. Tanahashi, Y. Hazama, F. Ohashi, H. Shekher Jha, and T. Kume
    • 学会等名
      APAC Silicide 2019
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] 放射光粉末XRD測定によるリチウムシリサイド化合物の高圧物性2019

    • 著者名/発表者名
      岩砂皓之、野村京平、Jha Himanshu Shekhar、大橋史隆、久米徹二
    • 学会等名
      第60回高圧討論j会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Optical and Electrical Characterizations of Ge Type II Clathrate Films Grown on Sapphire Substrate2019

    • 著者名/発表者名
      R. Kumar, T. Maeda, R. Tanahashi, Y. Hazama, F. Ohashi, H. S. Jha, T. Kume
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] XRD investigation of lithium silicide under high pressure2019

    • 著者名/発表者名
      H. Iwasa, S. Ikemoto, F. Ohashi, H. S. Jha, and T. Kume
    • 学会等名
      APAC Silicide 2019
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Growth of Ge Clathrate on Sapphire and Optical Properties2019

    • 著者名/発表者名
      R. Kumar, T. Maeda, Y. Hazama, F. Ohashi, H. S. Jha, T. Kume
    • 学会等名
      APAC Silicide 2019
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Structural analysis of guest free type II Si-Ge clathrate,2019

    • 著者名/発表者名
      H. Hisamatsu, K. Yamada, F. Ohashi, H. S. Jha, and T. Kume
    • 学会等名
      APAC Silicide 2019
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] II型SiGeクラスレートの合成と構造評価2019

    • 著者名/発表者名
      久松 大峰,山田 邦彦,Himanshu S. Jha,大橋 史隆,久米 徹二
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] II型SiGeクラスレートの合成と構造評価2019

    • 著者名/発表者名
      久松 大峰、山田 邦彦、Jha Himanshu S.、大橋 史隆、久米 徹二
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] 紫外から赤外領域におけるII型Geクラスレート膜の光吸収スペクトル2018

    • 著者名/発表者名
      前田 拓磨、ジャ ヒマンシュ、大橋 史隆、久米 徹二、野々村 修一
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] 電界印加によるII型Geクラスレート膜の合成およびNa除2018

    • 著者名/発表者名
      富士岡 友也, 浅野 友紀, 大橋 史隆, 久米 徹二, ヒマンシュ シャカール ジャ, 野々村 修一
    • 学会等名
      第8回次世代太陽電池用新材料研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] クラスレート作製のための小型真空蒸着装置の構築2018

    • 著者名/発表者名
      神戸 慎也,久米 徹二,Himanshu S. Jha,大橋 史隆
    • 学会等名
      第8回次世代太陽電池用新材料研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Growth of Type II Germanium Clathrate NaxGe136 Thin Films on Sapphire Substrates2018

    • 著者名/発表者名
      H. S. Jha, N. Sugii, F. Ohashi, T. Kume, T. Mukai, T. Ban, S. Nonomura
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] II型SiGeクラスレートの作製2018

    • 著者名/発表者名
      山田 邦彦,Himanshu S. Jha, 久米 徹二, 大橋 史隆
    • 学会等名
      第18回シリサイド系半導体・夏の学校
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] ゲストフリーSiGe合金クラスレートの合成2018

    • 著者名/発表者名
      山田 邦彦,Himanshu S. Jha, 久米 徹二, 大橋 史隆
    • 学会等名
      第8回次世代太陽電池用新材料研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Geクラスレート薄膜の光吸収スペクトル2018

    • 著者名/発表者名
      前田 拓磨, ヒマンシュ S ジャ, 大橋 史隆, 久米 徹二, 野々村 修一
    • 学会等名
      第18回シリサイド系半導体・夏の学校
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] クラスレート作製のための小型蒸着装置の構築2018

    • 著者名/発表者名
      神戸 慎也, 久米 徹二, Himanshu S. Jha , 大橋 史隆
    • 学会等名
      第18回シリサイド系半導体・夏の学校
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Growth of Type II Germanium Clathrate NaxGe136 Thin Films on Sapphire Substrates2018

    • 著者名/発表者名
      Himanshu Shekhar Jha, N. Sugii, F. Ohashi, T. Kume, T. Mukai, T. Ban, S. Nonomura
    • 学会等名
      The 65th JSAP spring meeting
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] IV族系II型半導体クラスレートの研究開発2018

    • 著者名/発表者名
      久米徹二、大橋史隆、Jha Himanshu Shekhar
    • 学会等名
      第32回シリサイド系半導体研究会
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Li-Si系化合物の高圧XRD測定2018

    • 著者名/発表者名
      岩砂皓之,野村京平, Himanshu S. Jha,大橋史隆,久米徹二
    • 学会等名
      第59回高圧討論会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] II型Siクラスレートの金属との接合特性2018

    • 著者名/発表者名
      "富士岡 友也, ヒマンシュ シャカール ジャ, 大橋 史隆, 久米 徹二, 野々村 修一"
    • 学会等名
      第18回シリサイド系半導体・夏の学校
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] 紫外から赤外領域におけるII型Geクラスレート膜の光吸収スペクトル2018

    • 著者名/発表者名
      前田 拓磨、ジャ ヒマンシュ、大橋 史隆、久米 徹二、野々村 修一
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Na内包II型Geクラスレート膜の光透過スペクトル評価2018

    • 著者名/発表者名
      前田 拓磨, ヒマンシュ S ジャ, 大橋 史隆, 久米 徹二, 野々村 修一
    • 学会等名
      第8回次世代太陽電池用新材料研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] II型Siクラスレート膜の表面自然酸化過程2017

    • 著者名/発表者名
      浅野 友紀, 浦野 和俊, 大橋 史隆, 久米 徹二, 伴 隆幸, 野々村 修一
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] II型Siクラスレート膜の表面自然酸化過程2017

    • 著者名/発表者名
      浅野友紀, 浦野和俊, 大橋 史隆, 久米 徹二, 伴 隆幸, 野々村 修一
    • 学会等名
      第78回 応用物理学会 秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Growth of Type II Germanium Clathrate on Sapphire Substrates2017

    • 著者名/発表者名
      Nanto Sugii, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume, Himanshu S. Jha, Tetsuya Mukai, Hideya Makino, Kansei Suzuki, Shuichi Nonomura
    • 学会等名
      27th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] 透明基板上に合成したNa内包II型Geクラスレート膜の光吸収2017

    • 著者名/発表者名
      2.杉井 南斗, 大橋 史隆, 久米 徹二, ヒマンシュ シャカール ジャ, 向井 哲也, 鈴木 渉太, 牧野 秀哉, 野々村 修一
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川, パシフィコ横浜
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] NaxSi136膜のデバイス化に向けた表面酸化膜形成過程と金属電極との接合特性の評価2017

    • 著者名/発表者名
      9.伊藤榛悟, 浅野友紀, 阪上真史, 浦野和俊, 富士岡友也, 大橋史隆, 久米徹二, 伴隆幸, 野々村修一
    • 学会等名
      第14回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] ゲストフリーⅡ型Geクラスレート膜の合成Ⅱ2017

    • 著者名/発表者名
      鈴木 渉太, 久米 徹二, 境 健太郎, Himanshu S. Jha, 大橋 史隆, 野々村 修一, 福山敦彦
    • 学会等名
      第78回 応用物理学会 秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] イオン液体を用いたII型SiGe合金クラスレートの合成2017

    • 著者名/発表者名
      山田邦彦, H. S. Jha, 大橋史隆, 久米徹二
    • 学会等名
      第17回シリサイド系半導体 夏の学校
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] ゲストフリーⅡ型Geクラスレート膜の合成Ⅱ2017

    • 著者名/発表者名
      鈴木 渉太、久米 徹二、境 健太郎、Himanshu S Jha、大橋 史隆、野々村 修一、福山 敦彦
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] Ge基板上に作製した膜状ゲストフリーGeクラスレート2017

    • 著者名/発表者名
      鈴木渉太, H. S. Jha, 大橋史隆, 久米徹二
    • 学会等名
      第17回シリサイド系半導体 夏の学校
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] GROWTH OF TYPE II GERMANIUM CLATHRATE ON SAPPHIRE SUBSTRATES2017

    • 著者名/発表者名
      Nanto Sugii, Fumitaka Ohashi, Tetsuji Kume, Himanshu Shekhar Jha, Tetsuya Mukai, Hideya Makino, Kansei Suzuki, Shuichi Nonomura
    • 学会等名
      The 27th edition of the International Photovoltaic Science and Engineering Conference
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] NaxSi136膜のデバイス化に向けた表面酸化膜の形成過程と金属電極との接合特性の評価2017

    • 著者名/発表者名
      伊藤 榛悟,浅野 友紀,阪上 真史,浦野 和俊,富士岡 友也,大橋 史隆,久米 徹二,伴 隆幸,野々村 修一
    • 学会等名
      第14回 「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17H03234
  • [学会発表] Na内包II型Geクラスレート膜の膜質向上における作製条件の探索2016

    • 著者名/発表者名
      向井 哲也, 杉井 南斗, 大橋 史隆, 久米 徹二, シャカール ジャ ヒマンシュ, 野々村 修一
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      新潟, 朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] IV族クラスレート膜の表面状態2016

    • 著者名/発表者名
      大橋 史隆, 浦野 和俊, 向井 哲也, 浅野 友紀, 杉井 南斗, 上坂 拓, 久米 徹二, 伴 隆幸, 野々村 修一
    • 学会等名
      第13回 「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム
    • 発表場所
      長岡, アオーレ長岡
    • 年月日
      2016-05-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • [学会発表] Si クラスレート薄膜の新しい合成法:NaSi の溶融による前駆体膜作製2016

    • 著者名/発表者名
      阪上 真史, 伊藤 榛悟, 富士岡 友也, 大橋 史隆, 伴 隆幸, 久米 徹二, 野々村 修一
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      新潟, 朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K21072
  • 1.  久米 徹二 (30293541)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 62件
  • 2.  福山 敦彦 (10264368)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 1件
  • 3.  鵜殿 治彦 (10282279)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  今井 基晴 (90354159)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  遠藤 和彦 (60392594)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  平山 尚美 (70581750)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  KUMAR RAHUL (80961862)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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