尾崎義治 OZAKI Yoshiharu

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研究者番号	30054365
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2005年度 – 2006年度: 成蹊大学, 理工学部, 教授 2004年度: 成蹊大学, 工学部, 教授 2000年度 – 2002年度: 成蹊大学, 工学部, 教授 1994年度 – 1996年度: 成蹊大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野	研究代表者材料加工・処理 / 金属生産工学
キーワード	研究代表者 compound semiconductor / テルル化鉛 / 化合物半導体 / sol-gel / lead bis(trimethylsilyl)amide / bismuth bis(trimethylsilyl)amide / tellurium bis(trimethylsilyl)amide / metal bis(trimethylsilyl)amide / 鉛テルルビスアミド / 鉛テルルミスアミド … もっと見る / 亜鉛ビスアミド / スズビスアミド / 鉛ビスアミド / ビスマスビスアミド / テルルビスアミド / 金属ビスアミド / metal alkoxide / lead telluride / Cadmium telluride / カドミウムアルコキシド / テルル酸カドミウム / ナノ粒子 / 鉛アルコキシド / テルルアルコキシド / リチウムトリメチルシリルアミド / 酸化物還元法 / ゾルゲル / 金属アルコキシド / 鉛カドミウム / テルル化カドミウム / alumina / microcupsulation / ceramic balloon / ゾル / マイクロカプセル / 多孔質 / セラミックス / ゾル・ゲル / カプセル化 / アルミナ / バルーン隠す

研究課題
(3件)
研究成果
(3件)

金属ビスアミドを利用するテルル含有化合物半導体の新合成法に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  尾崎義治
- 研究期間 (年度)
  2004 – 2006
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  金属生産工学
- 研究機関
  成蹊大学
テルル含有化合物半導体の新合成法に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  尾崎義治
- 研究期間 (年度)
  2000 – 2002
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  成蹊大学
マイクロカプセル化技術による中空・多孔質球形アルミナセラミックスの合成研究代表者
- 研究代表者
  
  尾崎義治
- 研究期間 (年度)
  1994 – 1996
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  成蹊大学

すべて雑誌論文

[雑誌論文] 金属ビスアミドを原料ケミカルとする酸化物還元法によるPbTeの合成2005
- 著者名/発表者名
  佐藤功治, 渡邉智和, 川崎兼司, 尾崎義治
- 雑誌名
  
  Journal of Ceramic Society of Japan 113
  
  ページ: 286-290
- NAID
  110002292296
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16560651
[雑誌論文] 金属ビスアミドを原料ケミカルとする酸化物還元法によるPbTeの合成2005
- 著者名/発表者名
  佐藤功治, 渡邉智和, 川崎兼司, 尾崎義治
- 雑誌名
  
  Journal of Ceramic Society of Japan 113・4
  
  ページ: 259-263
- NAID
  110002292296
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16560651
[雑誌論文] Synthesis of PbTe by Reduction of Corresponding Oxide with Mata1 Bis(trimethylsilyl) amide as Starting Chemicals2005
- 著者名/発表者名
  Coji Satoh, Tomokazu Watanabe, Kenji Kawasaki, Yoshiharu Ozaki
- 雑誌名
  
  Journal of Ceramic Society of Japan 113
  
  ページ: 286-290
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16560651