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六倉 信喜  Mutsukura Nobuyuki

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 30166227
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 東京電機大学, 工学部, 研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2019年度 – 2021年度: 東京電機大学, 工学部, 教授
1994年度 – 1995年度: 東京電機大学, 工学部, 助教授
1988年度: 東京電機大学, 工学部, 助教授
1987年度: 東京電機大学, 工学部, 講師
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分29020:薄膜および表面界面物性関連 / 応用物性・結晶工学
研究代表者以外
応用物性
キーワード
研究代表者
高温成長 / エピタキシャル成長 / スパッタリング法 / GaN系半導体 / Hard Carbon Film / Rf Plasma / Plasma CVD / Diamond Film / 高周波プラズマCVD / ダイヤモンド膜 … もっと見る / 硬質炭素膜 / 高周波プラズマ / プラズマCVD / ダイヤモンド薄膜 … もっと見る
研究代表者以外
Monitoring of Plasma / Radio Frequency Glow Discharge Plasma / ラングミュアープローブ / 平均電子エネルギーTe / 電子密度ne / プラズマ発光強度分布 / イオンシース / プラズマプロセシング / 高周波プラズマのモニタリング / プラズマの分布 / プラズマの分析 / プラズマのモニタリング / 高周波プラズマ 隠す
  • 研究課題

    (3件)
  • 研究成果

    (9件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  GaN系単結晶層の高温スパッタエピタキシーとそのデバイス応用研究代表者

    • 研究代表者
      六倉 信喜
    • 研究期間 (年度)
      2019 – 2021
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
    • 研究機関
      東京電機大学
  •  ダイヤモンド薄膜の低温合成とその応用研究代表者

    • 研究代表者
      六倉 信喜
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      東京電機大学
  •  高周波プラズマのモニタリングに関する研究

    • 研究代表者
      町 好雄
    • 研究期間 (年度)
      1987 – 1988
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性
    • 研究機関
      東京電機大学

すべて 2022 2021 2020 2019

すべて 学会発表

  • [学会発表] UHVスパッタエピタキシー法によるGaN層の成長メカニズム (Ⅱ)2022

    • 著者名/発表者名
      齋藤 元希、吉田 圭佑、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2022年第69回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] UHVスパッタエピタキシー法によるGaN層の成長メカニズム2021

    • 著者名/発表者名
      齋藤 元希、吉田 圭佑、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] GaN層の表面汚染に関する検討(Ⅳ)2020

    • 著者名/発表者名
      水野 愛、福田 直樹、岩元 正紀、長田 拓也、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] UHVスパッタエピタキシー法によるGaN層の成長2020

    • 著者名/発表者名
      福田 直樹、岩元 正紀、長田 拓也、水野 愛、安藤 毅、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] GaN層の表面汚染に関する検討(Ⅲ)2020

    • 著者名/発表者名
      水野 愛、福田 直樹、岩元 正紀、長田 拓也、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] UHVスパッタエピタキシー法によるAlN層の成長(Ⅰ)2019

    • 著者名/発表者名
      長田 拓也、岩元 正紀、福田 直樹、水野 愛、安藤 毅、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] Surface Contamination with Si and O Impurities for GaN Single-Crystalline Layers Grown by Ultra-High-Vacuum Sputter Epitaxy2019

    • 著者名/発表者名
      Ai Mizuno, Hiroyuki Shinoda and Nobuki Mutsukura
    • 学会等名
      16th International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology (SCST 16)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] UHVスパッタエピタキシー法によるAlN層の成長(Ⅲ)2019

    • 著者名/発表者名
      福田 直樹、長田 拓也、岩元 正紀、水野 愛、安藤 毅、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • [学会発表] UHVスパッタエピタキシー法によるAlN層の成長(Ⅱ)2019

    • 著者名/発表者名
      岩元 正紀、長田 拓也、福田 直樹、水野 愛、安藤 毅、篠田 宏之、六倉 信喜
    • 学会等名
      2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K05276
  • 1.  町 好雄 (20057219)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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