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赤澤 正道  Akazawa Masamichi

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

赤沢 正道  アカザワ マサミチ

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研究者番号 30212400
その他のID
外部サイト
所属 (現在) 2025年度: 北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2023年度 – 2024年度: 北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 准教授
2010年度 – 2020年度: 北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 准教授
2007年度 – 2008年度: 北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 准教授
2001年度 – 2006年度: 北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 助教授
2002年度: 北海道大学, 量子エレクトロニクス研究センター, 助教授 … もっと見る
2002年度: 北海道大学, 量子集積エレクトニクス研究センター, 助教授
2001年度 – 2002年度: 北海道大学, 大学院・工学研究科, 助教授
1998年度 – 1999年度: 北海道大学, 工学研究科, 助教授
1997年度 – 1999年度: 北海道大学, 大学院・工学研究科, 助教授
1998年度: 北海道大学, 大学院工学研究科, 助教授
1997年度: Hokkaido Univ., Grad.School of Eng.Assoc.Prof.
1995年度 – 1996年度: 北海道大学, 工学部, 助教授
1993年度 – 1994年度: 北海道大学, 工学部・電気工学科, 助手
1989年度 – 1994年度: 北海道大学, 工学部, 助手 隠す
審査区分/研究分野
研究代表者
電子デバイス・機器工学 / 小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連 / 薄膜・表面界面物性 / 電子デバイス・電子機器 / 電子材料工学 / 薄膜・表面界面物性 / 電子・電気材料工学
研究代表者以外
電子・電気材料工学 / 電子材料工学 / 電子デバイス・機器工学 … もっと見る / 薄膜・表面界面物性 / 小区分21050:電気電子材料工学関連 / 理工系 / 応用物性・結晶工学 / 電子デバイス・電子機器 / 電力工学・電気機器工学 / 極微細構造工学 / 表面界面物性 / 電子・電気材料工学 / 通信・ネットワーク工学 隠す
キーワード
研究代表者
GaAs / 界面準位 / 単電子 / InGaAs / MOS構造 / TDS / 界面制御 / MIS構造 / 窒化インジウムアルミニウム / InAlN … もっと見る / デバイス / MIS / 光電気化学エッチング / 欠陥準位 / MOSFET / アルミナ / SiO2 / 二酸化シリコン / MOS / emitter / surface plasmon-plariton / InAs / metal hole array / metal mesh / THz / LT-GaAs / エミッター / 表面プラズモン / インジウム砒素 / ガリウム砒素 / 金属開口配列 / 金属メッシュ / テラヘルツ / Neuron / Hopfield Network / Boltzmann Machine / Neural Network / Single-Electron Tunneling / ホップフィールドネットワーク / ボルツマンマシン / ニューロン / ニューラルネットワーク / MIS structure / Interface State / Inp / solid state TWA / 磁性薄膜 / ヘテロ界面 / InP / 固体進行波素子 / 表面不活性化 / フェルミ準位ピンニング / 窒化物混晶 / Al2O3 / ピンニング / 界面 / 表面 / LSI / 断熱論理回路 / 可逆計算デバイス / 量子極限 / 準静的 / 断熱的 / 集積回路 / 消費電力 / 可逆的 / アーキテクチャ / 回路設計 / 加算器 / BDD / 二分決定グラフ / ボルテックス / メモリー / MIM / SET / 回路 / MBE / MISFET … もっと見る
研究代表者以外
界面制御 / 化合物半導体 / 界面準位 / InGaAs / interface control / ショットキー障壁 / フォトルミネセンス / GaAs / Schottky barrier / 量子ドット / Photoluminescence / 半導体 / MBE / HEMT / C-V / MIS / 表面不活性化 / MMIC / 集積回路 / 窒化物半導体 / Fermi level pinning / HFET / Al_2O_3 / フェルミ準位ピンニング / 単電子回路 / InP / BDD / 論理回路 / シングルエレクトロン / 単電子 / ショットキーゲート / electrochemical process / indium phosphide / 電気化学プロセス / インジウムリン / InAlAs / Quantum Dots / 量子細線 / 量子井戸 / 表面・界面準位 / 量子構造 / Semiconductor / 結晶成長 / MISFET / CCD / インジウムガリウム砒素 / Compound Semiconductor / 表面準位 / InMnAs / InAs / AlGaN / GaN / トランジスタ / 電子準位 / 窒化ガリウム / ピンニング / 電子捕獲準位 / 周期的ナノチャネル / CV解析 / 電気化学エッチング / MOS / 異種接合 / Integrated Circuit / Slow-wave / Microwave / MIS Structure / Schottky Junction / Coplanar Waveguide / クロスタイコプレーナ線路 / 固体進行波相互作用 / 漏波 / 遅延 / 電磁波伝搬 / 半導体キャリア / 遅波 / マイクロ波 / MIS接合 / ショットキ接合 / コプレ-ナ線路 / nanowire / integrated sensor / sensor network / Schottky diode / nitride semiconductors / liquid sensor / hydrogen sensor / 2分決定論理 / ナノ細線 / 集積化センサ / センサネットワーク / ショットキダイオード / 溶液センサ / 水素センサ / electromagnetic bandgap / surface plasmon / metamaterial / terahertz / compound semiconductor / High-frequency circuits / wireless communication / ubiquitous communication / 人工磁気導体 / 光導電サンプリング / アンテナ / 電磁バンドギャップ / 表面プラズモン / メタマテリアル / テラヘルツ / 高周波回路 / ワイヤレス通信 / ユビキタス / heterointerface / Schottky contact / surface control / Gallium Nitride / 表面処理 / 窒化カリウム / ヘテロ構造 / ショットキー接合 / 表面制御 / enhancement of dielectric strength / Paschen curve / per-fluorocarbon / amorphous CF film / electric insulation / 薄膜堆積 / 薄膜推積 / フルオロカーボン / 非平衡プラズマ / 絶縁体力向上 / 絶縁耐力向上 / パッシェン曲線 / パーフルオロカーボン / アモルファスCF薄膜 / 電気絶縁 / Quantum Transport / Power-Delay Product / Quantum Wire Network / Schottky Gate / Hexagonal BDD Quantum Circuit / Binary Decision Diagram (BDD) / Single Electron Circuit / ヘキサゴナルBDD量子回路 / 量子輸送 / 電力・遅延積 / 量子細線ネットワーク / ナノショットキーゲート / ヘキサゴナルBDD回路 / 二分決定グラフ(BDD) / gate circuit / digital circuit / tunnel / single electron / majority logic / 集積 / 多数決 / ゲート回路 / ディジタル回路 / トンネル / 多数決論理 / Switching / High Speed / Diode / Schottky / スイッチング / 高速 / ダイオード / ショットキ / ultrathin Si control layer / シリコン超薄膜制御層 / intrinsic semiconductor island / SET circuit / single-electron-tunneling / logic device / cellular automaton / 学位セル / セリオートマトン / 量子 / 単位セル / 電気化学 / トンネル接合 / セルオートマトン / binary decision diagram / logic circuit / SET / Single electron / 二部決定グラフ / ロジック / 二分決定グラフ / Schottky gate / single electron transistor / quantum wire transistor / split gate / in-plane gate / 2DEG / quantum structure / ショットキーゲット / 単電子トランジスタ / 量子細線トランジスタ / スプリットゲート / インプレーンゲート / 2次元電子ガス / optical communication system / micro-wave devices / optoelectronic ICs / FET / 光通信システム / マイクロ波デバイス / 光電子集積回路 / 電界効果トランジスタ / photoluminescence / silicon interface control layr / surface passivation / surface and interface states / compound semiconductors / quantum wire / quantum well / シリコン界面制御層 / InAs dot / Solar cell / Interface state density / Surface recombination velocity / 再成長 / インジウムアルミニウム砒素 / Stranski-Krastanow成長 / 電極界面再結合 / 高濃度ドープ層 / InAsドット / 太陽電池 / 界面準位密度 / 表面再結合速度 / MOCVD / Crystal Growth / 有機金属気相成長法 / Surface passivation / Quantum well / Interface control / interface stete / Surface / Compound semiconductor / Quantum structure / 表面電気伝導 / 界面制御層 / Quantum dot / Cryxtal growth / interface states / interface / MIS構造 / 電荷撮像素子 / 超薄膜 / シリコン / 分子線エピタキシー / MIS形電界効果トランジスタ / 界面 / 電荷転送撮像素子 / Schottky Barrier / In-Situ Measurement / Hetero-Junction / Free Surface / Surface State Density / Surface Recombination / 計算機シミュレ-ション / 表面準位分布 / 表面再結合 / ヘテロ界面 / 半導体自由表面 / 表面準位密度分布 / in-situ評価 / Anomalous Hall Effect / Compound Semiconductors / III-V Compounds / Diluted Magnetic Semiconductors / 磁気抵抗効果 / 半磁性半導体 / 分子線エピタキシ / 異常ホ-ル効果 / IIIーV族 / 希薄磁性半導体 / 電気化学酸化 / 電流コラプス / 多重台形チャネル / AlInN / 窒素空孔 / ドライエッチング / ICP / ALD / へテロ接合 / MMC / 絶縁膜 / 表面・界面 / PL / 消費電力 / トンネル障壁 / 高誘電率膜 / 単電子デバイス / III-V族化合物半導体 / 量子デバイス / 波長分散 / 結合写像格子 / カオス同期 / カオス / 多重伝送 / 半導体レーザ 隠す
  • 研究課題

    (37件)
  • 研究成果

    (239件)
  • 共同研究者

    (32人)
  •  界面制御による反転型nチャネル窒化ガリウムMOSFETの電子実効移動度向上研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      2024 – 2026
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 審査区分
      小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
    • 研究機関
      北海道大学
  •  窒化物半導体異種界面パラレル伝導制御とマルチチャネル高周波トランジスタの開発

    • 研究代表者
      佐藤 威友
    • 研究期間 (年度)
      2023 – 2025
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 審査区分
      小区分21050:電気電子材料工学関連
    • 研究機関
      北海道大学
  •  特異構造を含む異種接合の界面制御と電子デバイス展開

    • 研究代表者
      橋詰 保
    • 研究期間 (年度)
      2016 – 2020
    • 研究種目
      新学術領域研究(研究領域提案型)
    • 審査区分
      理工系
    • 研究機関
      北海道大学
  •  高温熱処理アルミナ超薄膜による絶縁体/窒化インジウムアルミニウム界面の制御と応用研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      2015 – 2017
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      北海道大学
  •  窒化インジウムアルミニウム混晶表面・界面におけるフェルミ準位ピンニングの制御研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      2012 – 2014
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      北海道大学
  •  電子準位制御と新ゲート構造による窒化ガリウム系トランジスタの高信頼化

    • 研究代表者
      橋詰 保
    • 研究期間 (年度)
      2009 – 2012
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      北海道大学
  •  化合物半導体MIS界面準位に関するピンニング・スポット面内分布モデル

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      2008
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      北海道大学
  •  電界移動型量子ドットを用いた室温動作高速・超低消費電力単電子スイッチ素子の研究

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      2006
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  窒化ガリウムナノ細線を用いた化学センサとその集積化センサチップへの展開

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      2006 – 2007
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  カオス多重による超大容量光通信の研究

    • 研究代表者
      佐野 栄一
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2005
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      通信・ネットワーク工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  テラヘルツ電磁波をキャリアとするユビキスチップ間通信回路の研究

    • 研究代表者
      佐野 栄一
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2006
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      北海道大学
  •  金属薄膜メッシュを用いた高効率半導体テラヘルツ波放射源の研究研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      北海道大学
  •  窒化ガリウム系超高速・ハイパワートランジスタ構造の表面・界面制御

    • 研究代表者
      橋詰 保
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2004
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  可逆計算デバイスの実現に関する基礎的研究研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2002
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  ナノショットキーゲート制御量子ドットによるBDDアーキテクチャ単電子集積回路

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積C_xF_y膜を用いたSF_6代替絶縁方式の開発

    • 研究代表者
      酒井 洋輔
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電力工学・電気機器工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  ボルテックスを利用した機能回路の開拓研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      1999
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 研究機関
      北海道大学
  •  多数決論理にもとづく単電子集積デバイスの研究

    • 研究代表者
      雨宮 好仁
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  新しい界面制御技術を用いたInP系超高速・超低消費電力HEMTの試作

    • 研究代表者
      橋詰 保
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  高速スイッチング電源用のInPパワーショットキ整流ダイオードの試作

    • 研究代表者
      呉 南健
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      電気通信大学
      北海道大学
  •  極微細ボルツマンマシンニューロン素子の試作研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  超高密度多値メモリ集積回路の実現に関する基礎的研究研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      1996
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  二分決定グラフ論理にもとづく単電子集積デバイスの研究

    • 研究代表者
      雨宮 好仁
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  微小トンネル接合を利用した量子セルオートマトンデバイスの研究

    • 研究代表者
      呉 南健
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  III-V族半導体量子構造の表面準位の制御とその光デバイスへの応用

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      北海道大学
  •  高ショットキー障壁MESFETを用いたInP系超高速集積回路の試作

    • 研究代表者
      橋詰 保
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  2次元電子ガスへの直接ショットキーを接合を利用した量子構造の研究

    • 研究代表者
      橋詰 保
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      極微細構造工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  InGaAs2次元電子ガスMISFETの試作研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      1994
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  自己組織化機構を利用した半導体立体量子構造の形成と評価

    • 研究代表者
      福井 孝志
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(A)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  表面制御された超高効率InGaAs/InP太陽電池の研究

    • 研究代表者
      斉藤 俊也 (斎藤 俊也)
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  化合物半導体量子構造の量子準位と表面・界面準位の相互作用とその制御の研究

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  選択成長を利用した半導体量子ドットの作製と物性の研究

    • 研究代表者
      福井 孝志
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  固体進行波モードおよび静磁波モードを用いた高い機能集積度を有するMMICの製作研究代表者

    • 研究代表者
      赤澤 正道
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  半導体自由表面の表面準位分布の非接触測定とそれにもとづく表面の工学的制御

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  界面制御されたInGaAsを用いた高空間分解能撮像デバイスの試作

    • 研究代表者
      長谷川 英機
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  IIIーV族希薄磁性半導体の成長と評価

    • 研究代表者
      大野 英男
    • 研究期間 (年度)
      1990 – 1991
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      北海道大学
  •  半導体キャリアの分布定数効果を利用した新しいマイクロ波モノリシック集積回路の製作

    • 研究代表者
      長谷川 英機 (長谷川 秀機)
    • 研究期間 (年度)
      1988 – 1989
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      北海道大学

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すべて 雑誌論文 学会発表

  • [雑誌論文] Investigation of dominance in near-surface region on electrical properties of AlGaN/GaN heterostructures using TLM, XPS, and PEC etching techniques2023

    • 著者名/発表者名
      Ochi Ryota、Togashi Takuya、Osawa Yoshito、Horikiri Fumimasa、Fujikura Hajime、Fujikawa Kazunari、Furuya Takashi、Isono Ryota、Akazawa Masamichi、Sato Taketomo
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 16 号: 9 ページ: 091002-091002

    • DOI

      10.35848/1882-0786/acf644

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23KJ0042, KAKENHI-PROJECT-23K26131
  • [雑誌論文] Effects of dosage increase on electrical properties of MOS diodes with Mg-ion-implanted GaN before activation annealin2020

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, R. Kamoshida, S. Murai, T. Narita, M. Omori, J. Suda, and T. Kachi
    • 雑誌名

      Phys. Status Solidi B

      巻: 257 号: 2

    • DOI

      10.1002/pssb.201900367

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [雑誌論文] Analysis of simultaneous occurrence of shallow surface Fermi level pinning and deep depletion in MOS diode with Mg-ion-implanted GaN before activation annealing2020

    • 著者名/発表者名
      Akazawa Masamichi、Kamoshida Ryo
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: 9 ページ: 096502-096502

    • DOI

      10.35848/1347-4065/abac41

    • NAID

      120007145358

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [雑誌論文] Effects of surface treatment on Fermi level pinning at metal/GaN interfaces formed on homoepitaxial GaN layers2020

    • 著者名/発表者名
      Isobe Kazuki、Akazawa Masamichi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: 4 ページ: 046506-046506

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ab8024

    • NAID

      120007000858

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [雑誌論文] Impact of Low-Temperature Annealing on Defect Levels Generated by Mg-Ion-Implanted GaN2019

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and K. Uetake
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 58 号: SC ページ: SCCB10-SCCB10

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab09d5

    • NAID

      120006841057

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [雑誌論文] Control of plasma-CVD SiO2/InAlN interface by N2O plasma oxidation2019

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, S. Kitajima, and Y. Kitawaki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 58 号: 10 ページ: 106504-106504

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab3c49

    • NAID

      120006887714

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [雑誌論文] Effects of post-deposition annealing in O2 on threshold voltage of Al2O3/AlGaN/GaN MOS heterojunction field-effect transistors2019

    • 著者名/発表者名
      S. Nakazawa, H.-A. Shih, N. Tsurumi, Y. Anda, T. Hatsuda, T. Ueda, T. Kimoto, and T. Hashizume
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 58 号: 3 ページ: 030902-030902

    • DOI

      10.7567/1347-4065/aafd17

    • NAID

      210000135371

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [雑誌論文] Reduction of interface state density at SiO2/InAlN interface by inserting ultrathin Al2O3 and plasma oxide interlayers2017

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and A. Seino
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi B

      巻: 254 号: 8

    • DOI

      10.1002/pssb.201600691

    • NAID

      120006491497

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [雑誌論文] On the origin of interface states at oxide/III-nitride heterojunction interfaces2016

    • 著者名/発表者名
      M. Matys, B. Adamowicz, A. Domanowska, A. Michalewicz, R. Stoklas, M. Akazawa, Z. Yatabe, and T. Hashizume
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: 120 号: 22

    • DOI

      10.1063/1.4971409

    • 査読あり / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672, KAKENHI-PROJECT-15K18034
  • [雑誌論文] Control of Al2O3/InAlN interface by two-step atomic layer deposition combined with high-temperature annealing2014

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, M. Chiba, and M. Akazawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 53 号: 4S ページ: 04EF06-04EF06

    • DOI

      10.7567/jjap.53.04ef06

    • NAID

      210000143623

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Interface Investigation of High-Temperature-Annealed Ultrathin-ALD-Al2O3/InAlN Structures2014

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and T. Nakano
    • 雑誌名

      e-Journal of Surface Science and Nanotechnology

      巻: 12 ページ: 83-88

    • NAID

      130004933800

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Appropriate fabrication procedure for InAlN metal-oxide-semiconductor structures with atomic-layer-deposited Al2O32014

    • 著者名/発表者名
      M. Chiba, T. Nakano, and M. Akazawa
    • 雑誌名

      Phys. Status Solidi C

      巻: 11 号: 3-4 ページ: 902-905

    • DOI

      10.1002/pssc.201300423

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Measurement of interface-state-density distribution near conduction band at interface between atomic-layer-deposited Al2O3 and silicon-doped InAlN2013

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, M. Chiba, and T. Nakano
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 102

    • NAID

      120005315201

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Native Oxide Removal from InAlN Surfaces by Hydrofluoric Acid Based Treatment2013

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano and M. Akazawa
    • 雑誌名

      IEICE Transactions on Electronics

      巻: E96.C 号: 5 ページ: 686-689

    • DOI

      10.1587/transele.E96.C.686

    • NAID

      10031193914

    • ISSN
      0916-8524, 1745-1353
    • 言語
      英語
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Effects of Chemical Treatments and Ultrathin Al2O3 Deposition on InAlN Surface Investigated by X-ray Photoelectron Spectroscopy2013

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and T. Nakano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. phys.

      巻: 52

    • NAID

      210000142769

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Valence band offset at Al2O3/In0.17Al0.83N interface formed by atomic layer deposition2012

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and T. Nakano
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 101 号: 12

    • DOI

      10.1063/1.4754141

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Investigation of native oxide layers on untreated and chemically treated InAlN surfaces by X-ray photoelectron spectroscopy2012

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and T. Nakano
    • 雑誌名

      ECS Solid State Letters,

      巻: 1 号: 1 ページ: P4-P6

    • DOI

      10.1149/2.004201ssl

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [雑誌論文] Al_0.44Ga_0.56N spacer layer to prevent electron accumulation inside barriers in lattice-matched InAlN/AlGaN/AlN/GaN heterostructures2011

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, B. Gao, T. Hashizume, M. Hiroki, S. Yamahata, and N. Shigekawa
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lerr.

      巻: 98 号: 14 ページ: 142117-142117

    • DOI

      10.1063/1.3578449

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246007
  • [雑誌論文] Measurement of valence-band offsets of InAlN/ GaN heterostructures grown by metal-organic vapor phase epitaxy2011

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, B. Gao, T. Hashizume, M. Hiroki, S. Yamahata, and N. Shigekawa
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: 109 号: 1 ページ: 13703-13703

    • DOI

      10.1063/1.3527058

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246007
  • [雑誌論文] Small valence-band offset of In0.17Al0.83N/GaN heterostructure grown by metal-organic vapor phase epitaxy2010

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, T. Matsuyama, T. Hashizume, M. Hiroki, S. Yamahata, and N. Shigekawa
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 96 号: 13 ページ: 132104-132104

    • DOI

      10.1063/1.3368689

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246007
  • [雑誌論文] Small valence-band offset of In0.17A10.83N/GaN heterostructure grown by metal-organic vapor phase epitaxy2010

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, T.Matsuyama, T.Hashizume, M.Hiroki, S.Yamahata, N.Shigekawa
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett.

      巻: 96

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246007
  • [雑誌論文] Distributed Pinning Spot Model for Highk Insulator - III-V Semiconductor Interfaces2009

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      e-Journal of Surface Science and Nanotechnology Vol. 7

      ページ: 122-128

    • NAID

      130004439129

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Current Transport, Fermi Level Pinning and Transient Behavior of Group-III Nitride Schottky Barriers2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Korean Physical Society 54(印刷中)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Distributed Pinning Spot Model for High-k Insulator-III-V Semiconductor Interfaces2009

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 雑誌名

      e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 7

      ページ: 122-128

    • NAID

      130004439129

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] Distributed Pinning Spot Model for High-k Insulator-III-V Semiconductor Interfaces2009

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 7

      ページ: 122-128

    • NAID

      130004439129

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Current Transport, Fermi Level Pinning and Transient Behavior of Group-III Nitride Schottky Barriers2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Korean Physical Society 54(印刷中)

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] Current Transport, Fermi Level Pinning and Transient Behavior of Group-Ill Nitride Schottky Barriers (invited)2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Korean Physical Society vol. 54 (in press)

      ページ: 10-10

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Steady State and Transient Behavior of Currents in Low-Leakage Planar Schottky Diodes Formed on A1GaN /GaN Heterostructures2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 26

      ページ: 1542-1550

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] Surface passivation technology for III V semiconductor nanoelectronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 255

      ページ: 628-632

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] High Temperature Sensing Characteristics of a High Performance Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Hydrogen Sensor Obtained by Oxygen Gettering2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. c 5

      ページ: 1959-1961

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] PERFORMANCE COMPARISON OF InP AND AlGaN/GaN SCHOTTKY DIODE HYDROGEN SENSORS2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Proceeding of International Conference on Indium Phosphide and related Materials 20

      ページ: 1-4

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] PERFORMANCE COMPAEISON OF InP AND AlGaN/GaN SCHOTTKY DIODE HYDROGEN SENSORS2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Proceedings of International Conference on Indium Phosphide and Related Materials 20

      ページ: 1-4

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Surface passivation technology for III V semiconductor nanoelectronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science Vol. 255, No. 3

      ページ: 628-632

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] GaAs High-k Dielectric Metal-Insulator-Semiconductor Structure Having Silicon Interface Control Laver2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 5

      ページ: 2729-2732

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] Interface Models and Processing Technologies for Surface Passivation and Interface Control in III-V Semiconductor Nanoelectronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 254

      ページ: 8005-8015

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Interface Models and Processing Technologies for Surface Passivation andInterface Control in III-V Semiconductor Nanoelectronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 254(invited)

      ページ: 8005-8015

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] High Temperature Sensing Characteristics of a High Performance Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Hydrogen Sensor Obtained by Oxygen Gettering2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) Vol. 5, No. 6

      ページ: 1959-1961

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Mechanism and Control of Current Transport in GaN and AlGaN Schottky Barriers for Chemical Sensor Applications2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 254

      ページ: 3653-3666

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Surface passivation technology for III V semiconductor nanoelectronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 255(invited)

      ページ: 628-632

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] Steady State and Transient Behavior of Currents in Low-Leakage Planar Schottky Diodes Formed on AlGaN /GaN Heterostructures2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B Vol. 26, No. 4

      ページ: 1542-1550

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] PERFORMANCE COMPARISON OF InP AND AlGaN/GaN SCHOTTKY DIODE HYDROGEN SENSORS2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      accepted for publication in Proceeding of 20th International Conference on Indium Phosphide and related Materials

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Frequency Dispersion of GaAs High-k MIS Capacitors with Si Interface Control Laver2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 26

      ページ: 1569-1578

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] Frequency Dispersion of GaAs High-k MIS Capacitors with Si Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B Vol. 26, No. 4

      ページ: 1569-1578

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] GaAs High-k Dielectric Metal-Insulator-Semiconductor Structure Having Silicon Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      accepted for publication in phys. stat. sol. c 5

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] High Temperature Sensing Characteristics of a High Performance Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Hydrogen Sensor Obtained by Oxygen Gettering2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 5

      ページ: 1959-1961

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Mechanism and Control of Current Transport in GaN and AlGaN Schottky Barriers for Chemical Sensor Applications (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Siuface Science 254

      ページ: 3653-3666

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Interface Models and Processing Technologies for Surface Passivation and Interface Control in III-V Semiconductor Nanoelectronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science Vol. 254, No. 24

      ページ: 8005-8015

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] GaAs High-k Dielectric Metal-Insulator- Semiconductor Structixre Having Silicon Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 5

      ページ: 2729-2732

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Mechanism and Control of Current Transport in GaN and AlGaN Schottky Barriers for Chemical Sensor Applications (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science Vol. 254

      ページ: 3653-3666

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Interface Models and Processing Technologies for Surface Passivation and Interface Control in III-V Semiconductor Nanoelectronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science (in press ; available online) 254

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] High Temperature Sensing Characteristics of a High Performance Pd/A1GaN/GaN Schottky Diode Hydrogen Sensor Obtained by Oxygen Getterinn2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 5

      ページ: 1959-1961

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [雑誌論文] Surface passivation technology for III-V semiconductor nanoelectronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      accepted for publication in Applied Surface Science 254

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Frequency Dispersion of GaAs High-k MIS Capacitors with Si Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 26

      ページ: 1569-1578

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] GaAs High-k Dielectric Metal-Insulator-Semiconductor Structure Having Silicon Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) Vol. 5, No. 9

      ページ: 2729-2732

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] steady State and Transient Behavior of Currents in Low-Leakage Planar Schottky Diodes Formed on AlGaN/GaN Heterostructures2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 26

      ページ: 1542-1550

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] In-situ X-ray photoelectron spectroscopy characterization of Si interlayer based surface passivation process for AlGaAs/GaAs quantum wire transistors2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa, R. Jia
    • 雑誌名

      physica status solidi (a) 204

      ページ: 1034-1040

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Mechanism and Control of Current Transport in GaN and AlGaN Schottky Barriers for Chemical Sensor Applications (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H.Hasegawa, M.Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science (in press)(accepted for publication)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Formation of Ultrathin SiNx/ Si Interface Control Double Layer on (001) and (Hi) GaAs Surfaces for Ex-situ Deposition of High-k Dielectrics2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B Vol. 25, No. 4

      ページ: 1481-1490

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Sensing Dynamics and Mechanism of a Pd/AlGaN /GaN Schottky Diode Type Hydrogen Sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 4

      ページ: 2629-2633

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Formation of Ultrathin SiN_x/ Si Interface Control Double Layer on (001) and (111) GaAs Surfaces for Ex-situ Deposition of High-k Dielectrics2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 25

      ページ: 1481-1490

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] MBE growth and in situ XPS characterization of silicon interlayers on (111)B surfaces for passivation of GaAs quantum wire devices2007

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth Vol.301-302

      ページ: 951-954

    • NAID

      120000965574

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18656089
  • [雑誌論文] Sensing Dynamics and Mechanism of a Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Type Hydrogen Sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 4

      ページ: 2629-2633

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Formation of Ultrathin SiN_x/Si Interface Control Double Layer on (001) and (111) GaAs Surfaces for Ex-situ Deposition of High-k Dielectrics2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 25

      ページ: 1481-1490

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Sensing Dynamics and Mechanism of a Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Type Hydrogen Sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) Vol. 4, No. 7

      ページ: 2629-2633

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] MBE growth and in situ XPS characterization of silicon interlayers on (111) B sxirfaces for passivation of GaAs quantum wire devices2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth 301-302

      ページ: 951-954

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] In-situ X-ray photoelectron spectros copy characterization of Si interlayer based surface passivation process for AlGaAs/GaAs quantum wire transistors2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa, R. Jia
    • 雑誌名

      physica status solidi (a) Vol. 204, No. 4

      ページ: 1034-1040

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] In-situ X-ray photoelectron spectroscopy characterization of Si interlayer based surface passivation process for AlGaAs/GaAs quantum wire transistors2007

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      physica status solidi (a) Vol.204, No.4

      ページ: 1034-1040

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18656089
  • [雑誌論文] Hydrogen Sensing Characteristics and Mechanism of Pd/AlGaN/GaN Schottky Diodes Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H.Hasegawa, M.Akazawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol B Vol.25, No.4(in press)(accepted for publication)

    • NAID

      120000955872

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Formation of Ultrathin SiN_x/Si Interface Control Double Layer on (001) and (111) GaAs Surfaces for Ex-situ Deposition of High-k Dielectrics2007

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol B Vol.25, No.4(in press)(accepted for publication)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18656089
  • [雑誌論文] Sensing Dynamics and Mechanism of a Pd/AlGaN /GaN Schottky Diode Type Hydrogen Sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      physica status solidi (c) (in press)(accepted for publication)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Hydrogen Sensing Characteristics and Mechanism of Pd/AlGaN/GaN Schottky Diodes Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 25

      ページ: 1495-1503

    • NAID

      120000955872

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] MBE growth and in situ XPS characterization of silicon interlayers on (lll)B surfaces for passivation of GaAs quantum wire devices2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth Vol. 301-302

      ページ: 951-954

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Hydrogen Sensing Characteristics and Mechanism of Pd/AlGaN /GaN Schottky Diodes Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B Vol. 25, No. 4

      ページ: 1495-1503

    • NAID

      120000955872

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Precisely Controlled Anodic Etching for Processing of GaAs-based Quantum Nanostructures and Devipps2006

    • 著者名/発表者名
      N. Shiozaki, T. Sato, M. Akazawam, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal de Physique IV Vol. 132

      ページ: 249-253

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] Transmission Characteristics through Two-Dimensional Periodic Hole Arrays Perforated in Perfect Conductors2006

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano, M.Tanaka, F.Miyamaru, M.Hangyo
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 45・5A

      ページ: 4058-4063

    • NAID

      40007248579

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Transmission Characteristics through Two-Dimensional Periodic Hole Arrays Perforated in Perfect Conductors2006

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano, M.Tanaka, F.Miyamaru, M.Hangyo
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 45・5A(accepted for publication)(印刷中)

    • NAID

      40007248579

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Silicon Interlayer Based Surface Passivation for AlGaAs/GaAs Quantum Structures on (111)B Surfaces.2006

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, N.Shiozaki H.Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal de Physique IV Vol.132

      ページ: 95-99

    • NAID

      120000958460

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] THz Transmission Propertiess of Metal Hole-Array Filters.2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2006 RCIQE International Seminar (Sapporo, February 9-10,2006)

      ページ: 129-130

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Silicon Interlayer Based Surface Passivation for AlGaAs/GaAs Quantum Structures on (111) B Surfaces2006

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, N.Shiozaki, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal de Physique IV 1(accepted for publication)(印刷中)

    • NAID

      120000958460

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Precisely Controlled Anodic Etching for Processing of GaAs-based Quantum Nanostructures and Devices2006

    • 著者名/発表者名
      N. Shiozaki, T. Sato, M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal de Physique IV 132

      ページ: 249-253

    • NAID

      120000953027

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Silicon Interlayer Based Surface Passivation for AlGaAs/GaAs Quantum Structures on (111) B Surfaces2006

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, N.Shiozaki, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal of Physique IV 132

      ページ: 95-99

    • NAID

      120000958460

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] THz transmission properties of metal hole-array filters.2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Abstract of 2006 RCIQE International Seminar for 21^<st> Century COE Program", Sapporo, Japan

      ページ: 129-129

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Silicon Interlayer Based Surface Passivation for AlGaAs/GaAs Quantum Structures on (111)B Surfaces2006

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, N. Shiozaki, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal de Physique IV 132

      ページ: 95-99

    • NAID

      120000958460

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] THz Transmission Properties of Metal Hole-Array Filters2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2006 RCIQE International Seminar (Sapporo, February 9-10) 1

      ページ: 129-130

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Transmission Characteristics through Two-Dimensional Periodic Hole Arrays Perforated in Perfect Conductors.2006

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano, M.Tanaka, F.Miyamaru, M.Hangyo
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.45, No.5A

      ページ: 4058-4063

    • NAID

      40007248579

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Silicon Interlayer Based Surface Passivation for AlGaAs/GaAs Quantum Structures on (ill) B Surfaces2006

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, N. Shiozaki, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal de Physique IV Vol. 132

      ページ: 95-99

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [雑誌論文] THz Transmission Properties of Metal Hole-Array Filters2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2006 RCIQE International Seminar (Sapporo, February 9-10, 2006) 1

      ページ: 129-130

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Evaluation of sub-terahertz periodic structure in a coplanar stripline.2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, K.Inafune, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Tech. Report of IEICE vol.104, no.693

      ページ: 41-46

    • NAID

      110003205119

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] Photoconductive Sampling of Electromagnetic Periodic Structures in Subterahertz Coplanar Striplines2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, K.Inafune, M.Akazawa, J.Motohisa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2005 RCIQE International Seminar (February 8th-10th,2005,Sapporo)

      ページ: 144-144

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Effect of a thin dielectric layer on terahertz transmission characteristics for metal hole arrays.2005

    • 著者名/発表者名
      M.Tanaka, F.Miyamaru, M.Hangyo, T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Optics Lett. vol.30, no.10

      ページ: 1210-1212

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] Terahertz Transmission Property of a Thin Metal Hole-Array Filter.2005

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, Y.Yamazaki, E.Sano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.44, No.49

    • NAID

      10016873536

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Transmission Characteristics of THz Perfect-Conductor Perforated Plate Filters with Two-Dimensional Periodic Holes2005

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2005 RCIQE International Seminar (February 8th-10th,2005,Sapporo)

      ページ: 145-145

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] GaAs(111)B基板上に形成されたAlGaAs/GaAs量子構造のSi界面制御層による表面不活性化2005

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道, 塩崎奈々子, 佐藤威友, 長谷川英機
    • 雑誌名

      電子情報通信学会技術報告 ED2005-62

      ページ: 25-30

    • NAID

      110003205129

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Photoconductive sampling of electromagnetic periodic structures in subterahertz coplanar striplines.2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, K.Inafune, M.Akazawa, J.Motohisa, E.Sano
    • 雑誌名

      Abstract of 2005 RCIQE International Seminar for 21^<st> Century COE Program, Sapporo, Japan

      ページ: 144-144

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] Terahertz transmission property of a thin metal hole-array filter2005

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa
    • 雑誌名

      Japan J. Appl. Phys. vol. 44, no. 49

    • NAID

      10016873536

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] コプレーナ伝送線路を用いたサブテラヘルツ1次元周期構造の評価2005

    • 著者名/発表者名
      山崎雄介, 稲船浩司, 赤澤正道, 佐野栄一
    • 雑誌名

      電子情報通信学会技術報告 MW2005-133

      ページ: 41-46

    • NAID

      110003205119

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Transmission characteristics of THz perfect-conductor perforated plate filters with two-dimensional periodic holes.2005

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Abstract of 2005 RCIQE International Seminar for 21^<st> Century COE Program, Sapporo, Japan

      ページ: 145-145

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Silicon Interlayer Based Surface Passivation for AlGaAs/GaAs Quantum Structures on (111) B Surfaces2005

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, N.Shiozaki, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      Abstracts of 10th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces (Aix-en-Provence, July, 2005) 1

    • NAID

      120000958460

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Transmission Characteristics of THz Perfect-Conductor PerforatedPlate Filters with Two-Dimensional Periodic Holes2005

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2005 RCIQE International Seminar (Sapporo, February 8-10, 2005) 1

      ページ: 145-145

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Photoconductive Sampling of Electromagnetic Periodic Structures in Subterahertz Coplanar Striplines2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, K.Inafune, M.Akazawa, J.Motohisa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2005 RCIQE International Seminar (Sapporo, February 8-10, 2005) 1

      ページ: 144-144

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Terahertz Transmission Property of a Thin Metal Hole-Array Filter2005

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, Y.Yamazaki, E.Sano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 44・49

    • NAID

      10016873536

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Silicon Interlayer Based Surface Passivation for AlGaAs/GaAs Quantum Structures on (111)B Surfaces.2005

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, N.Shiozaki, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      Abstracts of 10th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces (Aix-en-Provence, France, ICFSI-10,July 3-8,2005)

    • NAID

      120000958460

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Transmission Characteristics of THz Perfect-Conductor Perforated Plate Filters with Two-Dimensional Periodic Holes.2005

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2005 RCIQE International Seminar (Sapporo, February 8-10,2005)

      ページ: 145-145

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Photoconductive Sampling of Electromagnetic Periodic Structures in Subterahertz Coplanar Striplines.2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, K.Inafune, M.Akazawa, J.Motohisa, E.Sano
    • 雑誌名

      Collected Abstracts of 2005 RCIQE International Seminar (Sapporo, February 8-10,2005)

      ページ: 144-144

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] コプレーナ伝送線路を用いたサブテラヘルツ1次元周期構造の評価2005

    • 著者名/発表者名
      山崎雄介, 稲船浩司, 赤澤正道, 佐野栄一
    • 雑誌名

      電子情報通信学会技術報告 MW2005

      ページ: 61-66

    • NAID

      110003205119

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Using FDTD method to design millimeter-wave active integrated antenna.2005

    • 著者名/発表者名
      K.Inafune, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Abstract of 2005 RCIQE International Seminar for 21^<st> Century COE Program, Sapporo, Japan

      ページ: 143-143

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] THz-wave filters using surface periodic structures composed of the metal films.2004

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Tech. Report of IEICE vol.109, no.296

      ページ: 51-56

    • NAID

      110003179773

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] RF CMOS inductor shielded by a high-impedance surface,2004

    • 著者名/発表者名
      E.Sano, K.Inafune, M.Akazawa
    • 雑誌名

      IEICE Electronics Express vol.1, no.8

      ページ: 232-236

    • NAID

      130000088075

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] 金属薄膜による表面周期構造を利用したTHz波フィルタ2004

    • 著者名/発表者名
      田中毅, 赤澤正道, 佐野栄一
    • 雑誌名

      電子情報通信学会技術報告 MW2004-133

      ページ: 51-56

    • NAID

      110003179773

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] A low-loss coplanar waveguide for the THz region and its application to electromagnetic-bandgap filters.2004

    • 著者名/発表者名
      K.Inafune, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Tech. Report of IEICE vol.109, no.296

      ページ: 45-49

    • NAID

      110003179772

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [雑誌論文] Evaluation of Sub-Terahertz Periodic Structure in a Coplanar Stripline.

    • 著者名/発表者名
      Y.Yamazaki, K.Inafune, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Technical Report of IEICE ED2004-248

      ページ: 41-46

    • NAID

      110003205119

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] THz-Wave Filters Using Surface Periodic Structures Composed of the Metal Films.

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano
    • 雑誌名

      Technical Report of IEICE MW2004-133

      ページ: 51-56

    • NAID

      110003179773

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Surface Passivation Using a Si Interface Control Layer for AlGaAs/GaAs Quantum Structures Fabricated on GaAs(111)B Substrates.

    • 著者名/発表者名
      M.Akazawa, N.Shiozaki, T.Sato, H.Hasegawa
    • 雑誌名

      Technical Report of IEICE ED2005-62

      ページ: 25-30

    • NAID

      110003205129

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560288
  • [雑誌論文] Transmission Characteristics through Two-Dimensional Periodic Hole Arrays Perforated in Perfect Conductors.

    • 著者名/発表者名
      T.Tanaka, M.Akazawa, E.Sano, M.Tanaka, F.Miyamaru, M.Hangyo
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. vol.45, no.5A

      ページ: 4058-4063

    • NAID

      40007248579

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360161
  • [学会発表] Effects of SiO2-Cap Annealing Prior to Interface Formation on Properties of Al2O3/p-type GaN Interfaces2024

    • 著者名/発表者名
      Y. Jiao, T. Nukariya, U. Takatsu, T. Sato, and M. Akazawa
    • 学会等名
      16th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26131
  • [学会発表] 光電気化学エッチングを施したp-GaNを用いたMOS構造のサブバンドギャップ光支援C-V測定2023

    • 著者名/発表者名
      忽滑谷崇秀, 焦一寧,高津海, 佐藤威友, 赤澤正道
    • 学会等名
      第84 回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26131
  • [学会発表] AlGaN/GaNヘテロ構造の光電気化学エッチングと反応速度の制御2023

    • 著者名/発表者名
      富樫拓也、沖勇吾、大澤由斗、越智亮太、赤澤正道、佐藤威友
    • 学会等名
      第84 回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26131
  • [学会発表] Interface Properties of p-type GaN MOS Structures Examined by Sub-Bandgap-Light-Assisted Capacitance-Voltage Measurement2023

    • 著者名/発表者名
      T. Nukariya, J. Yining, U. Takatsu, T. Sato, and M. Akazawa
    • 学会等名
      14th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26131
  • [学会発表] GaNのコンタクトレス光電気化学(CL-PEC)エッチングにおける溶液pHの影響2023

    • 著者名/発表者名
      大澤 由斗、赤澤正道、佐藤 威友
    • 学会等名
      第84 回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26131
  • [学会発表] 光電気化学エッチングを施したp-GaN MOS界面の特性に対する界面形成プロセスの影響2023

    • 著者名/発表者名
      焦一寧, 忽滑谷崇秀, 高津海, 佐藤威友, 赤澤正道
    • 学会等名
      第71 回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26131
  • [学会発表] A Defect Level Generated in GaN by High-Temperature Annealing with AlN Encapsulation2021

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, Y. Tamamura and S. Murai
    • 学会等名
      13th International Symposium on Advanced Science and its Appliaction for Nitrides and Nanomaterials/14th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasam2021/IC-PLANTS2021)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [学会発表] Mgイオン注入GaNに対する低温熱処理の効果における表面保護膜材料依存性2020

    • 著者名/発表者名
      村井駿太、呉 恩誠,赤澤 正道, 加地 徹
    • 学会等名
      第81回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [学会発表] Impact of Cap-Layer Materials Used in Long-Term Low-Temperature Annealing on Electrical Properties of Mg-Ion Implanted GaN2020

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, S. Murai, R. Kamoshida, E. Wu, and T. Kachi
    • 学会等名
      62nd Electronic Materials Conference (EMC2020)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [学会発表] Control of SiO2/InAlN Interface by Plasma Surface Oxidation2019

    • 著者名/発表者名
      S. Kitajima and M. Akazawa
    • 学会等名
      11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma-2019)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [学会発表] プラズマ酸化膜介在層を有するSiO2/InAlN界面の特性2018

    • 著者名/発表者名
      北嶋翔平,赤澤正道
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] Al2O3およびプラズマ酸化物超薄膜介在層を有するSiO2/InAlN界面の特性2018

    • 著者名/発表者名
      北嶋翔平,赤澤正道
    • 学会等名
      第53回応用物理学会北海道支部/第14回日本光学会北海道支部合同学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] Investigation of Effect of Low-Temperature Annealing and Dosage on Mg-Ion- Implanted GaN Using MOS Structure2018

    • 著者名/発表者名
      K. Uetake, R. Kamoshida, and M. Akazawa
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN-2018)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [学会発表] Fast Switching Performance by 20 A/730 V AlGaN/GaN MIS-HFET Using AlON Gate Insulator2017

    • 著者名/発表者名
      S. Nakazawa, H.-A. Shih, N. Tsurumi, Y. Anda, T. Hatsuda, T. Ueda, M. Nozaki, T. Yamada, T. Hosoi, T. Shimura, H. Watanabe, and T. Hashizume
    • 学会等名
      63rd. International Electron devices Meeting (IEDM-2017)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PLANNED-16H06421
  • [学会発表] Al2O3超薄膜介在層を有するSiO2/InAlN界面の特性2017

    • 著者名/発表者名
      北嶋翔平,赤澤正道
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] Al2O3超薄膜層を挿入したSiO2/InAlN界面の特性―Al2O3膜厚依存性―2017

    • 著者名/発表者名
      清野 惇、赤澤 正道
    • 学会等名
      2017年<第64回>応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      横浜市,パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] プラズマCVD SiO2/InAlN界面へのAl2O3超薄膜層挿入の効果2016

    • 著者名/発表者名
      清野 惇,長谷崎泰斗,横田直茂,赤澤 正道
    • 学会等名
      2016年<第63回>応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学(東京)
    • 年月日
      2016-03-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] Characterization of Surfaces and Interfaces of InAlN (invited)2016

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa
    • 学会等名
      2016 RCIQE International Seminar
    • 発表場所
      Sapporo (Japan)
    • 年月日
      2016-03-08
    • 招待講演 / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] Reduction of Interface State Density at SiO2/InAlN Interface by Inserting Ultrathin Interlayers2016

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, A. Seino, N. Yokota and T. Hasezaki
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors 2016
    • 発表場所
      Hilton Orlando Lake Buena Vista, Orlando, Florida, USA
    • 年月日
      2016-10-02
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] プラズマ酸化層を挿入したSiO2/InAlN界面の特性2016

    • 著者名/発表者名
      清野 惇、横田 直茂、赤澤 正道
    • 学会等名
      2016年<第77回>応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      新潟市,朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] Nature and origin of interface states at dielectric/III-N heterojunction interfaces2015

    • 著者名/発表者名
      M. Matys, B. Adamowicz, R. Stoklas, M. Akazawa, Z. Yatabe, and T. Hashizume
    • 学会等名
      2015 MRS Fall Meeting & Exhibit
    • 発表場所
      Boston (USA)
    • 年月日
      2015-11-29
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] プラズマCVDにより形成されたSiO2/InAlN界面の評価2015

    • 著者名/発表者名
      清野 惇,赤澤 正道
    • 学会等名
      2015年<第76回>応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(名古屋)
    • 年月日
      2015-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] Characterization of Surfaces and Interfaces of InAlN/GaN Heterostructures (invited)2015

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and T. Hashizume
    • 学会等名
      11th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS11)
    • 発表場所
      Beijing (China)
    • 年月日
      2015-08-30
    • 招待講演 / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04672
  • [学会発表] ALD Al2O3絶縁体層を有するInAlN MOSダイオードの特性に対するアニールの効果2014

    • 著者名/発表者名
      千葉 勝仁, 中野 拓真, 赤澤 正道
    • 学会等名
      第61回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      青山学院大学(相模原)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] 2段階ALDにより形成されたAl2O3/InAlN界面の特性2014

    • 著者名/発表者名
      中野 拓真,千葉 勝仁,小棚木 陽一郎,赤澤 正道
    • 学会等名
      第61回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      青山学院大学(相模原)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] InAlN/GaNヘテロ構造の表面・界面の評価と制御2013

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道 橋詰保
    • 学会等名
      第60回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(厚木市)
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Effects of High-Temperature Annealing on Properties of Al2O3/InAlN Interface Formed by Atomic Layer Deposition2013

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, M. Chiba, and M. Akazawa
    • 学会等名
      2013 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2013)
    • 発表場所
      Hilton Fukuoka Sea Hawk (Japan)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] 「InAlN/GaNヘテロ構造の表面・界面の評価と制御」、応用物理学関係連合講演会シンポジウム:GaN系材料表面・界面評価の進展2013

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道、橋詰保
    • 学会等名
      第60回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学、神奈川
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246007
  • [学会発表] ALD-Al2O3を有するInAlN MOS 構造の電気的特性に対する作製プロセスの影響2013

    • 著者名/発表者名
      千葉 勝仁,中野 拓真,赤澤 正道
    • 学会等名
      電子情報通信学会電子デバイス研究会
    • 発表場所
      大阪大学(吹田)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Dependence of ALD-Al2O3/InAlN interface properties on fabrication process2013

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, M. Chiba, and M. Akazawa
    • 学会等名
      10th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-10)
    • 発表場所
      Gaylord National Resort & Convention Center, Washington, DC, (USA)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] 高温熱処理を挟む2 段階ALD プロセスによるAl2O3/InAlN 界面特性の向上2013

    • 著者名/発表者名
      中野 拓真,千葉 勝仁,赤澤 正道
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学(京都)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] ALD-Al2O3/InAlN界面に対する熱処理の効果2013

    • 著者名/発表者名
      中野拓真 赤澤正道
    • 学会等名
      第60回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(厚木市)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] InAlN/GaN ヘテロ構造の表面・界面の評価と制御2013

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道、橋詰 保
    • 学会等名
      応用物理学関係連合講演会シンポジウム
    • 発表場所
      神奈川工科大学、神奈川県
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246007
  • [学会発表] ALD-Al2O3 絶縁体層を有するInAlN MOS ダイオードの作製手順の検討2013

    • 著者名/発表者名
      千葉 勝仁, 中野 拓真, 赤澤 正道
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学(京都)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Investigation of High-Temperature Annealed ALD-Al2O3/InAlN Interface2013

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, T. Nakano, and M. Chiba
    • 学会等名
      12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures in conjunction with 21st International Conference on Scanning Probe Microscopy (ACSIN-12 & ICSPM21)
    • 発表場所
      Tsukuba International Congress Center (Japan)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Effect of hydrofluoric acid treatment on InAlN surfaces2012

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano and M. Akazawa
    • 学会等名
      2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2012)
    • 発表場所
      沖縄青年会館(那覇市)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Effects of surface treatment on InAlN investigated by X-ray photoelectron spectroscopy2012

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and T. Nakano
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors 2012 (IWN2012)
    • 発表場所
      札幌コンベンションセンター(札幌市)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] InAlN表面に対する弗化水素酸処理の効果2012

    • 著者名/発表者名
      中野拓真 赤澤正道
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学(松山市)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Capacitance-Voltage and Photoluminescence Study of High-k /III-V Semiconductor Interfaces Controlled by Si Interface Control Layer2009

    • 著者名/発表者名
      Masamichi Akazawa, Marcin Miczek, Boguslawa Adamowicz, Hideki Hasegawa
    • 学会等名
      36th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces (PCSI-36)
    • 発表場所
      Santa Barbara, California, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Current Collapse Transient Behavior and Its Mechanism in Submicron-Gate A anN taaN Heterostructure Transistors2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 学会等名
      36th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      Santa Barbara, California, USA
    • 年月日
      2009-01-12
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Current Collapse Transient Behavior and Its Mechanism in Submicron-Gate AlGaN /GaN Heterostructure Transistors2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      36th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces (PCSI-36)
    • 発表場所
      Santa Barbara, California, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Anomalous Admittance Behavior of III-V Insulator-Semiconductor Interfaces and Its Mechanism2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      The Symposium on Surface and Nano Science 2009 (SSNS'09)
    • 発表場所
      Shizukuishi, Iwate, Japan, January
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Current Collapse Transient Behavior and Its Mechanism in Submicron-Gate AlGaN/GaN Heterostructure Transistors2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      36th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      Santa Barbara, California, USA
    • 年月日
      2009-01-12
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Anomalous Admittance Behavior of III-V Insulator-Semiconductor Interfaces and Its Mechanism2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 学会等名
      The Symposium on Surface and Nano Science 2009
    • 発表場所
      Shizukuishi Prince Hotel, Shizukuishi, Iwate, Japan
    • 年月日
      2009-01-27
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Anomalous Admittance Behavior of III-V Insulator-Semiconductor Interfaces and Its Mechanism2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      The Symposium on Surface and Nano Science 2009
    • 発表場所
      Shizukuishi Prince Hotel, Shizukuishi, Iwate, Japan
    • 年月日
      2009-01-27
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Capacitance-Voltage and Photoluminescence Study of High-k/III-V Semiconductor Interfaces Controlled by Si Interface Control Laver2009

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, M. Miczek, B. Adamowicz and H. Hasegawa
    • 学会等名
      36th Conference on the Physics & Chemistry of Semicoinductor Interfaces
    • 発表場所
      Santa Barbara, California, USA
    • 年月日
      2009-01-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Capacitance-Voltage and Photoluminescence study of High-k/III-V Semiconductor Interfaces Controlled by Si Interface Control Layer2009

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, M. Miczek, B. Adamowicz, H. Hasegawa
    • 学会等名
      36th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      Santa Barbara, California, USA
    • 年月日
      2009-01-13
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Distributed Pinning Spot Model for High-k Insulator - III-V Semiconductor Interface2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 5th International Symposium on Surface Science and Nanotechnology QSSS-5)
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Anomalous Behavior of Capacitance and Conductance of III-V Metal- Insulator- Semiconductor Capacitors2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      2008 Electronic Material Conference (EMC2008)
    • 発表場所
      University of California Santa Barbara, California, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] SURFACE STATE EFFECTS AND SURFACE PASSIVATION WITH A SILICON INTERFACE CONTROL LAYER FOR III-V NANOWIRE TRANSISTORS2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 学会等名
      The 32nd Workshop on Compound Semiconductor Device and Integrated Circuits held in Europe
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • 年月日
      2008-05-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Steady State and Transient Behavior of Currents in Low-Leakage Planar Schottky Diodes Formed on AlGaN/GaN Heterostructures2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      35th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      La Fonda Hotel, Santa Fe, New Mexico, USA
    • 年月日
      2008-01-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Anomalous Behavior of Capacitance and Conductance of III-V Metal-Insulator-Semiconductor Capacitors2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      2008 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      Univer Sity of California Santa Barbara, Califomia, USA
    • 年月日
      2008-06-26
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Interface Control of High-k MOS Gate Stack for GaAs nanowire Transistors2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      Symposium on Surface and Nano Science 2008
    • 発表場所
      Hotel Appi Grand, Appi, Iwate, Japan
    • 年月日
      2008-01-23
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] PERFORMANCE COMPARISON OF InP AND A1GaN/GaN SCHOTTKY DIODE HYDROGEN SENSORS2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 学会等名
      20th International Conference on Indium Phosphide and Related
    • 発表場所
      Versailles, France
    • 年月日
      2008-05-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Steady State and Transient Behavior of Currents in Low-Leakage Planar Schottky Diodes Formed on AlGaN/GaN Heterostructures2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      35th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces (PCSI-35)
    • 発表場所
      Santa Fe, New Mexico, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Characterization and Control of Group-III Nitride Surfaces for Power Electronics and Sensor Electronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      The 14th Intemational Symposium on the Physics of Semiconductors and Applications
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • 年月日
      2008-08-28
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Steady State and Transient Behavior of Currents in Low-Leakage Planar Schottky Diodes Formed on AlGaN /GaN Heterostructures2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      35th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      La Fonda Hotel, Santa Fe, New Mexico. USA
    • 年月日
      2008-01-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Slow Response Instability in the Planar Pd Schottky Diode Hydrogen Sensor Formed on AlGaN/GaN Wafer2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      2008 Electronic Material Conference (EMC2008)
    • 発表場所
      University of California Santa Barbara, California, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Control of Surfaces and Interfaces for III-V Semiconductor Nanoelectronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      9th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies (EXMATEC2008)
    • 発表場所
      Lodz, Poland
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Optimization of Si Interface Control Layer Thickness for High-k GaAs Metal-Insulator-Semiconductor Structures2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 学会等名
      9th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies
    • 発表場所
      Lodz, Poland
    • 年月日
      2008-06-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Distributed Pinning Spot Model for High-k Insulator-III-V Semiconductor Interface2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 5th International Symposium on Surface Science and Nanotechnology
    • 発表場所
      Waseda University, Tokyo, Japan
    • 年月日
      2008-11-15
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Characterization and Control of Group-HI Nitride Surfaces for Power Electronics and Sensor Electronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 学会等名
      The 14th International Symposium on the Physics of Semiconductors and Applications
    • 発表場所
      Jeju, Korea(invited)
    • 年月日
      2008-08-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Interface Control of High-k MOS Gate Stack for GaAs nanowire Transistors (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      Symposium on Surface and Nano Science 2008
    • 発表場所
      Hotel Appi Grand, Appi, Iwate, Japan
    • 年月日
      2008-01-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Distributed Pinning Spot Model for High-k Insulator-III-V Semiconductor Interface2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 5th International Symposium on Surface Science and Nanotechnology
    • 発表場所
      Waseda University, Tokyo, Japan
    • 年月日
      2008-11-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] AIGaN/GaNプレーナ・ショットキダイオードの低速分散性過渡応答2008

    • 著者名/発表者名
      長谷川英機, 赤澤正道
    • 学会等名
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      千葉県船橋市
    • 年月日
      2008-03-29
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] SURFACE STATE EFFECTS AND SURFACE PASSIVATION WITH A SILICON INTERFACE CONTROL LAYER FOR III-V NANOWIRE TRANSISTORS2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      The 32nd Workshop on Compound Semiconductor Device and Integrated Circuits held in Europe
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • 年月日
      2008-05-20
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] On the Anomalous Admittance Behavior of Non-Silicon High-k MOS Structures2008

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道, 長谷川英機
    • 学会等名
      社団法人未踏科学技術協会主催平成20年度飯綱・サイエンスサマー道場
    • 発表場所
      長野県長野市
    • 年月日
      2008-08-17
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] SURFACE STATE EFFECTS AND SURFACE PASSIVATION WITH A SILICON INTERFACE CONTROL LAYER FOR III-V NANOWIRE TRANSISTORS2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      The 32nd Workshop on Compound Semiconductor Device and Integrated Circuits held in Europe (WOCSDICE2008)
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] On the Anomalous Admittance Behavior of Non-Silicon High-k MOS Structures2008

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道、長谷川英機
    • 学会等名
      社団法人未踏科学技術協会主催平成20年度飯綱・サイエンスサマー道場
    • 発表場所
      長野県長野市
    • 年月日
      2008-08-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Slow Response Instability in the Planar Pd Schottky Diode Hydrogen Sensor Formed on AlGaN/GaN Wafer2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      2008 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      UniverSity of Californmia Santa Barbara, Califomia, USA
    • 年月日
      2008-06-26
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Control of Surfaces and Interfaces for III-V Semiconductor Nanoelectronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 学会等名
      9th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies
    • 発表場所
      Lodz, Poland(invited)
    • 年月日
      2008-06-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Optimization of Si Interface Control Layer Thickness for High-k GaAs MetaHnsulator-Semiconductor Structures2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      9th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies (EXMATEC2008)
    • 発表場所
      Lodz, Poland
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] PERFORMANCE COMPARISON OF InP AND AlGaN/GaN SCHOTTKY DIODE HYDROGEN SENSORS2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      20th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM08)
    • 発表場所
      Versailles, France
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Control of Surfaces and Interfaces for III-V Semiconductor Nanoelectronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      9th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies
    • 発表場所
      Lodz, Poland
    • 年月日
      2008-06-03
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Anomalous Behavior of Capacitance and Conductance of III-V Metal-Insulator-Semiconductor Capacitors2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa and H. Hasegawa
    • 学会等名
      2008 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      University of California Santa Barbara, California, USA
    • 年月日
      2008-06-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] Characterization and Control of Group-III Nitride Surfaces for Power Electronics and Sensor Electronics (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      The 14th International Symposium on the Physics of Semiconductors and Applications (ISPA2008)
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Frequency Dispersion of GaAs High-k MIS Capacitors with Si Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      35th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      La Fonda Hotel, Santa Fe, New Mexico, USA
    • 年月日
      2008-01-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Optimization of Si Interface Control Layer Thickness for High-k GaAs Metal-Insulator-Semiconductor Structures2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      9th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies
    • 発表場所
      Lodz, Poland
    • 年月日
      2008-06-04
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Slow Response Instability in the Planar Pd Schottky Diode Hydrogen Sensor Formed on A1GaN/GaN Wafer2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa and M. Akazawa
    • 学会等名
      2008 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      University of California Santa Barbara, California, USA
    • 年月日
      2008-06-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20656006
  • [学会発表] PERFORMANCE COMPARISON OF InP AND AlGaN/GaN SCHOTTKY DIODE HYDROGEN SENSORS2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      20th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials
    • 発表場所
      Versailles, France
    • 年月日
      2008-05-26
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] シリコン界面制御層を有するGaAs高誘電体MISキャパシタのアドミッタンス2008

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道, 長谷川英機
    • 学会等名
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      千葉県船橋市
    • 年月日
      2008-03-28
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Frequency Dispersion of GaAs High-k MIS Capacitors with Si Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      35th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces (PCSI-35)
    • 発表場所
      Santa Fe, New Mexico, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Hydrogen Response Characteristics and Mechanism of Pd/ AlGaN/ GaN Schottky Diodes Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      34th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      Salt Lake City, Utah, USA
    • 年月日
      2007-01-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Silicon Interface Control Laver Based Surface Passivation Method and Related High-k MIS Gate stack for GaAs Nanowire MISFETs2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      International Symposium on Advanced nanodevices and Nanotechnology
    • 発表場所
      Waikoloa Beach Marriot, Waikoloa, Hawaii, USA
    • 年月日
      2007-12-03
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Silicon Interface Control Layer Based Surface Passivation Method and Related High-k MIS Gate Stack for GaAs Nanowire MISFETs2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      International Symposium on Advanced nanodevices and Nanotechnology
    • 発表場所
      Waikoloa Beach Marriot, Waikoloa, Hawaii, USA
    • 年月日
      2007-12-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] GaAs High-k Dielectric MOS Structure Having Silicon Interface Control Layer2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 34th International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS-34)
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Interface Control Technology for Surface Passivation of III-V Semiconductor Nanostructures (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      5th International Workshop on Semi- conductor Surface Passivation
    • 発表場所
      Zakopane, Poland
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Dynamic behavior of metal contacts formed on AlGaN/GaN heterostructure2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      7th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-7)
    • 発表場所
      Las Vegas, Nevada, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Sensing and current transport mechanisms of a high performance Pd/AlGaN/GaN Schottky diode hydrogen sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      7th International Conference on Nitride Semiconductor
    • 発表場所
      MG Grand Hotel, Las Vegas, Nevada, USA
    • 年月日
      2007-09-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] GaAs High-k Dielectric MOS Structure Having Silicon Interface Control Layer2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 34th International Symposium on Compound Semiconductor
    • 発表場所
      Kyoto University, Kyoto, Japan
    • 年月日
      2007-10-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Control of Schottky Interfaces of AlGaN/GaN system for hydrogen sensor applications (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      Symposium on Surface and Nano Science 2007
    • 発表場所
      Appi, Iwate, Japan
    • 年月日
      2007-01-23
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Growth Mechanism and Fermi Level Unpinning in Silicon Interface Control Layers for Surface Passivation of (001) and (111) GaAs and AlGaAs Surfaces2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      34th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      Salt Lake City, Utah, USA
    • 年月日
      2007-01-17
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Interface Control Technology for Surface Passivation of III-V Semiconductor Nanostructures (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      5th International Workshop on Semiconductor Surface Passivation
    • 発表場所
      GEOVITA, Zakopane, Poland
    • 年月日
      2007-09-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Dynamic behavior of metal contacts formed on AlGaN/GaN heterostructure2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      7th International Conference on Nitride Semiconductor
    • 発表場所
      MG Grand Hotel, Las Vegas, Nevada, USA
    • 年月日
      2007-09-19
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Complete Removal of Fermi Level Pinning at Highk Dielectric/GaAs (001) and (111)B Interfaces by a Silicon Interface Control Layer2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      2007 Electronic Material Conference (EMC2007)
    • 発表場所
      University of Notre Dame, South Bend, Indiana, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Silicon Interface Control Layer Based Surface Passivation Method and Related High-k MIS Gate Stack for GaAs Nanowire MISFETs2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 2007 International Symposium on Advanced nanodevices and Nanotechnology (ISANN2007)
    • 発表場所
      Waikoloa, Hawaii, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Complete Removal of Fermi Level Pinning at High-k Dielectric/GaAs (001) and (111)B Interfaces by a Silicon Interface Control Layer2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      2007 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      University of Notre Dame, South Bend, Indiana, USA
    • 年月日
      2007-06-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Growth Mechanism and Fermi Level Unpinning in Silicon Interface Control Layers for Surface Passivation of (001) and (111) GaAs and AlGaAs Surfaces2007

    • 著者名/発表者名
      Masamichi Akazawa, Hideki Hasegawa
    • 学会等名
      34th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces (PCSI-34)
    • 発表場所
      Salt Lake City, Utah, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Performance Enhancement and Sensing Mechanism of Pd/AlGaN/GaN Hydrogen Sensors Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      2007 Electronic Material Conference (EMC2007)
    • 発表場所
      University of Notre Dame, South Bend, Indiana, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Passivation of III-V Surface by Si Interface Control Layer and Its Application of high-k MIS Gate Stack (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      International Workshop on High-k Dielectrics on High Speed Channel Materials
    • 発表場所
      Hinsiu, Taiwan
    • 年月日
      2007-05-24
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Control of Schottky Interfaces of AlGaN/GaN system for hydrogen sensor applications (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      Symposium on Surface and Nano Science 2007 (SSNS '07)
    • 発表場所
      Iwate, Japan
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Surface passivation technology for III-V semiconductor nanoelectronics (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      11th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      Tropical Eco Resort, Manaus-Amazonas, Brazil
    • 年月日
      2007-08-20
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] MBE growth and in-situ XPS characterization of silicon interlayers for surfaces passivation of GaAs quantum devices2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      2007 RCIQE International Seminar on"Advanced Semiconductor Materials and Devices, "
    • 発表場所
      Sapporo, Japan
    • 年月日
      2007-02-09
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Passivation of III-V Surface by Si Interface Control Layer and Its Application of high-k MIS Gate Stack (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      Interntional Workshop on High-k Di- electrics on High Speed Channel Materials
    • 発表場所
      Hinsiu, Taiwan
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Complete Removal of Fermi Level Pinning at High-k Dielectric/GaAs (001) and (111) B Interfaces by a Silicon Interface Control Layer2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      2007 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      University of Notre Dame, South Bend, Indiana, USA
    • 年月日
      2007-06-21
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Si界面制御層によるHfO2/GaAs界面の制御2007

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道, 長谷川英機
    • 学会等名
      第68回応用物理学学術講演会
    • 発表場所
      札幌市
    • 年月日
      2007-09-06
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Surface passivation technology for III-V semiconductor nanoelectronics (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      11th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces (ICFSI-11)
    • 発表場所
      Manaus-Amazonas, Brazil
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Pd/AlGaN/GaNショットキーダイオード形水素センサの大気中動作特性2007

    • 著者名/発表者名
      赤澤正道, 長谷川英機
    • 学会等名
      第68回応用物理学学術講演会
    • 発表場所
      札幌市
    • 年月日
      2007-09-06
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Hydrogen Response Characteristics and Mechanism of Pd/ AlGaN/ GaN Schottky Diodes Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      Hideki Hasegawa, Masamichi Akazawa
    • 学会等名
      34th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces (PCSI-34)
    • 発表場所
      Salt Lake City, Utah, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Sensing and current transport mechanisms of a high performance Pd/AlGaN/GaN Schottky diode hvdroeen sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      7th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-7)
    • 発表場所
      Las Vegas, Nevada, USA
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Performance Enhancement and Sensing Mechanism of Pd/AlGaN/GaN Hydrogen Sensors Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      2007 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      University of Notre Dame, South Bend, Indiana, USA
    • 年月日
      2007-06-20
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Understanding and Control of Group-III Nitride Surfaces for Power Electronics and Sensor Electronics (invited)2006

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      5th Solid State Surfaces and Interfaces (SSSI2006)
    • 発表場所
      Smolenice Castle, Slovak Republic
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Understanding and Control of Group-III Nitride Surfaces for Power Electronics and Sensor Electronics (invited)2006

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      5th Solid State Surfaces and Interfaces
    • 発表場所
      Smolenice Castle, Slovak Republic
    • 年月日
      2006-11-20
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Sensing Dynamics and Mechanism of a Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Type Hydrogen Sensor2006

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      Technical Digest of International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN2006)
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] MBE Growth and In-Situ XPS Characterization of Silicon Interlayers on (111) B Surfaces for Passivation of GaAs Quantum Wire Devices2006

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 14th International Conference on Molecular Beam Epitaxy
    • 発表場所
      Waseda University, Tokyo, Japan
    • 年月日
      2006-09-05
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] MBE Growth and In-Situ XPS Characterization of Silicon Interlayers on (111)B Surfaces for Passivation of GaAs Quantum Wire Devices2006

    • 著者名/発表者名
      Masamichi Akazawa, Hideki Hasegawa
    • 学会等名
      The 14th International Conference on Molecular Beam Epitaxy (MBE2006)
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] In-situ X-ray photoelectron spectroscopy characterization of Si interlayer based surface passivation process for AlGaAs/GaAs quantum wire transistors2006

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa, R. Jia
    • 学会等名
      8th Intemational Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies
    • 発表場所
      Cadiz, Spain
    • 年月日
      2006-05-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Characterization and Control of AlGaN Schottky Diodes for Performance Enchancement of Hydrogen Sensors2006

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, KMatsuo, T. Kimura, J. Kotani, M. Akazawa, T. Hashizume
    • 学会等名
      8th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies (EXMATEC'06)
    • 発表場所
      Cadiz, Spain
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] In-situ X-ray photoelectron spectros copy characterization of Si interlayer based surface passivation process for AlGaAs/GaAs quantum wire transistors2006

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa, R. Jia
    • 学会等名
      8th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies (EXMATEC'06)
    • 発表場所
      Cadiz, Spain
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Sensing Dynamics and Mechanism of a Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Type Hydrogen Sensor2006

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      2006-10-25
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] Characterization and Control of AlGaN Schottky Diodes for Performance Enchancement of Hydrogen Sensors2006

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, K. Matsuo, T. Kimura, J. Kotani, M. Akazawa, T. Hashizume
    • 学会等名
      8th International Workshop on Expert Evaluation & Control of Compound Semiconductor Materials & Technologies
    • 発表場所
      Cadiz, Spain
    • 年月日
      2006-05-15
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360002
  • [学会発表] 2段階ALD成膜Al2O3/InAlN界面のMOSHEMTへの応用

    • 著者名/発表者名
      小棚木 陽一郎、赤澤 正道、Joel T.Asubar、谷田部 然治、橋詰 保
    • 学会等名
      2014年応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      札幌
    • 年月日
      2014-09-17 – 2014-09-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Al2O3/InAlN界面特性のプロセス依存性

    • 著者名/発表者名
      千葉 勝仁、赤澤 正道
    • 学会等名
      2015年応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      平塚
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Impact of Annealing on Properties of ALD Al2O3/InAlN Interfaces

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, T. Nakano and M. Chiba
    • 学会等名
      56th Electronic Materials Conference (EMC56)
    • 発表場所
      Santa Barbara, California, USA
    • 年月日
      2014-06-25 – 2014-06-27
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • [学会発表] Process-dependent properties of InAlN surface and ALD-Al2O3/InAlN interface

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, M. Chiba, and T. Nakano
    • 学会等名
      2014 International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology (CSMANTECH 2014)
    • 発表場所
      Denver, Colorado, USA
    • 年月日
      2014-05-19 – 2014-05-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560022
  • 1.  長谷川 英機 (60001781)
    共同の研究課題数: 16件
    共同の研究成果数: 139件
  • 2.  呉 南健 (00250481)
    共同の研究課題数: 8件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  橋詰 保 (80149898)
    共同の研究課題数: 8件
    共同の研究成果数: 8件
  • 4.  雨宮 好仁 (80250489)
    共同の研究課題数: 6件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  本久 順一 (60212263)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  佐藤 威友 (50343009)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 6件
  • 7.  飯塚 浩一 (30193147)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  佐野 栄一 (10333650)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 29件
  • 9.  福井 孝志 (30240641)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  陽 完治 (60220539)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  大野 英男 (00152215)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  斉藤 俊也 (70241396)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 13.  澤田 孝幸 (40113568)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 14.  葛西 誠也 (30312383)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 15.  関 昇平
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 16.  古賀 裕明 (80519413)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 17.  久保 俊晴 (10422338)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 18.  藤倉 序章 (70271640)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 19.  安永 均 (40017330)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 20.  浅井 哲他 (00312380)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 21.  酒井 洋輔 (20002199)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 22.  須田 善行 (70301942)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 23.  菅原 広剛 (90241356)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 24.  BRATESCU A. Maria (70312379)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 25.  山本 眞史 (10322835)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 26.  尾辻 泰一 (40315172)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 27.  池辺 将之 (20374613)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 28.  深井 一郎 (70001740)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 29.  三好 実人 (30635199)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 30.  坪内 夏朗
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 31.  中島 昌俊
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 32.  石井 宏辰
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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