| 研究者番号 |
30320120
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| その他のID |
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| 所属 (現在) |
2025年度: 高知工科大学, 総合研究所, 教授
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| 所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 |
2012年度 – 2014年度: 高知工科大学, 公私立大学の部局等, 教授
2013年度: 高知工科大学, 総合研究所, 教授
2001年度 – 2005年度: 高知工科大学, 工学部, 教授
2001年度 – 2002年度: 高知工科大学, 電子・光システム工学科, 教授
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| 審査区分/研究分野 |
- 研究代表者
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環境技術・環境材料
- 研究代表者以外
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電子・電気材料工学 /
電子・電気材料工学 /
表面界面物性 /
薄膜・表面界面物性
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| キーワード |
- 研究代表者
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電子・電気材料 / プラズマ加工 / 水素 / 表面・界面物性 / 環境材料 / 化学吸着 / 活性酸素 / スーパーオキシドアニオン / 起動時間 / 応答時間
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/ 酸化物半導体式 / superoxide / peroxide / 吸着酸素 / t90 / 半導体式センサー / 導電性薄膜 / 酸化亜鉛 / 酸化物半導体 / 半導体センサー / 水素センサー / グリーンケミストリ
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- 研究代表者以外
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vapor phase epitaxy / co-doping / zinc sulfide / エピタキシャル成長 / 同時ドーピング / 硫化亜鉛 / PIXE / RBS / ドーピング / epitaxial growth / doping / Hall effect measurement / 気相成長法 / Hall測定 / ZnS / 気層成長法 / nitrogen doping / photoluminescence / 伝導性制御 / codoping / 不純物ドーピング / 窒素ドーピング / フォトルミネッセンス / Ion beam process / High energy ion beam / Glass capillary / 収集イオンビーム / MEMS / リソグラフィー / ナノテクノロジー / 収束イオンビーム / ガラスキャピラリー / イオンビーム加工 / 高エネルギーイオンビーム / ガラスキャピラリ / 電気伝導特性 / ミクロ構造制御 / 多結晶薄膜 / アクセプタ / 配向制御 / 酸化亜鉛 / 酸化物半導体
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