山本博之 Yamamoto Hiroyuki

研究者番号	30354822
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所属 (現在)	2025年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子技術基盤研究所先進ビーム利用施設部, 部長 2025年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所, 副所長
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2015年度: 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門・量子ビーム応用研究センター, 研究主席 2014年度: 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門・量子ビーム応用研究センター, 研究主席 2013年度: 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門量子ビーム応用研究センター, 研究主席 2010年度 – 2011年度: 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 2010年度: (独)日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 … もっと見る 2009年度: 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 2008年度: (独)日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 2006年度 – 2008年度: 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 2003年度 – 2004年度: 特殊法人日本原子力研究所, 中性子利用研究センター, 主任研究員隠す
審査区分/研究分野	研究代表者ナノ材料・ナノバイオサイエンス研究代表者以外原子力学 / 分析化学 / 材料加工・処理 / 電子・電気材料工学 / 応用物理学一般
キーワード	研究代表者核変換 / ドーピング / 同位体 / 量子ビーム / ナノ材料研究代表者以外シリサイド / 表面 / ion beam sputter deposition / optical properties / radiation effect … もっと見る / X-ray diffraction / semiconductor / radiation resistance / beta iron disilicide / silicide / 電気特性 / X線回析法 / イオンビームスパッタ蒸着法 / 光学的特性 / 照射効果 / X線回折法 / 半導体 / 耐放射線性 / ベータ鉄シリサイド / 吸収分光 / 光電子分光 / X線光電子分光法 / X線吸収分光法 / X線吸収分光 / X線光電子分光 / 光電子 / 深さ方向分析 / X線分析 / 電子分光 / X線 / 化学状態 / 構造解析 / ショットキー接合 / β-FeSi_2 / pn.接合 / Mg_2Si / 赤外受光素子 / 半導体シリサイド / 受光素子 / バルク結晶 / 不純物添加 / シリサイド半導体 / 同位体濃縮 / 窒化ホウ素 / ダブルパルス / プラズマ / レーザーアブレーション隠す

表面ナノ領域の化学結合状態の深さ方向分析
- 研究代表者
  
  江坂文孝
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  分析化学
- 研究機関
  国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
励起エネルギー可変光電子分光による鉄シリサイド極表面構造の解明
- 研究代表者
  
  江坂文孝
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  独立行政法人日本原子力研究開発機構
シリサイド半導体を用いた資源・環境リスク対応フォトダイオードの開発
- 研究代表者
  
  鵜殿治彦
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  茨城大学
ダブルパルスレーザー堆積による窒化ホウ素同位体濃縮膜の合成
- 研究代表者
  
  大場弘則
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物理学一般
- 研究機関
  独立行政法人日本原子力研究開発機構
同位体ナノ薄膜作製による高精度なドーピング手法の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山本博之
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2008
- 研究種目
  
  萌芽研究
- 研究分野
  
  ナノ材料・ナノバイオサイエンス
- 研究機関
  独立行政法人日本原子力研究開発機構
シリコン系化合物の耐放射線機構の解明とその応用
- 研究代表者
  
  山口憲司
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2004
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  特殊法人日本原子力研究所

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すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] Non-destructive depth analysis of the surface oxide layer on Mg2Si with XPS and XAS2016
- 著者名/発表者名
  江坂文孝、野島健大、鵜殿治彦、間柄正明、山本博之
- 雑誌名
  
  Surface and Interface Analysis
  
  巻: 印刷中号: 7 ページ: 432-435
- DOI
  10.1002/sia.5939
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25410160
[雑誌論文] Spectroscopic characterization of β-FeSi_2 single crystals and homoepitaxial β-FeSi_2 films by XPS and XAS2011
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, et al.
- 雑誌名
  
  Applied Surface Science
  
  巻: 257 ページ: 2950-2954
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[雑誌論文] Surface characterization of homoepitaxial β-FeSi_2 film on β-FeSi_2(111) structure by X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopy2011
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, et al.
- 雑誌名
  
  Physics Procedia
  
  巻: 11 ページ: 150-153
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[雑誌論文] Surface structures of β-FeSi2 formed by heat-treatment in ultra-high vacuum and their influence on homoepitaxial growth2011
- 著者名/発表者名
  S. Matsumura, K. Ochiai, H. Udono, F. Esaka, K. Yamaguchi, H. Yamamoto, K. Houjo
- 雑誌名
  
  Phys. Proc.
  
  巻: 11 ページ: 174-176
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[雑誌論文] Spectroscopic characterization ofυ-FeSi_2 single crystals and homoepitaxialυ-FeSi_2 films by XPS and XAS2011
- 著者名/発表者名
  F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
- 雑誌名
  
  Appl. Surf. Sci
  
  巻: 257 号: 7 ページ: 2950-2954
- DOI
  10.1016/j.apsusc.2010.10.097
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[雑誌論文] Surface analysis of single-crystalline β-FeSi_22011
- 著者名/発表者名
  Y.Yamada, W.Mao, H.Asaoka, H.Yamamoto, F.Esaka, H.Udono, T.Tsuru
- 雑誌名
  
  Phys.Proc
  
  巻: 11 ページ: 67-70
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[雑誌論文] Surface characterization of homoepitaxialυ-FeSi_2 film onυ-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and absorption spectroscopy2011
- 著者名/発表者名
  F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
- 雑誌名
  
  Phys. Proc
  
  巻: 11 ページ: 150-153
- DOI
  10.1016/j.phpro.2011.01.043
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[雑誌論文] Surface characterization of homoepitaxial β-FeSi_2 film on β-FeSi_2 (111) substrate by X-ray photoelectron and absorption spectroscopy2011
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, H.Udono, N.Matsubayashi, K.Yamaguchi, S.Shamoto, M.Magara, T.Kimura
- 雑誌名
  
  Phys.Proc
  
  巻: 11 ページ: 150-153
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[雑誌論文] Surface structures of β-FeSi_2 formed by heat-treatment in ultra-high vacuum and their influence on homoepitaxial growth2011
- 著者名/発表者名
  S.Matsumura, K.Ochiai, H.Udono, F.Esaka, K.Yamaguchi, H.Yamamoto, K.Houjo
- 雑誌名
  
  Phys.Proc.
  
  巻: 11 ページ: 174-176
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[雑誌論文] Spectroscopic characterization of β-FeSi_2 single crystals and homoepitaxial β-FeSi_2 films by XPS and XAS2011
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, H.Udono, N.Matsubayashi, K.Yamaguchi, S.Shamoto, M.Magara, T.Kimura
- 雑誌名
  
  Appl.Surf.Sci.
  
  巻: 257 ページ: 2950-2954
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[雑誌論文] X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopic study on β-FeSi_2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition2010
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, et al.
- 雑誌名
  
  Applied Surface Science 256
  
  ページ: 3155-3159
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[雑誌論文] X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopic study onυ-FeSi_2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition2010
- 著者名/発表者名
  F. Esaka, H. Yamamoto, 他7名
- 雑誌名
  
  Appl. Surf. Sci
  
  巻: 256 ページ: 3155-3159
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[雑誌論文] β-FeSi2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition2010
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, N, Nakabayashi, Y.Yamada, M.Sasase, K.Yamaguchi, 他3名
- 雑誌名
  
  Appl.Surf.Sci 256
  
  ページ: 3155-3159
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[雑誌論文] Surface characterization of β-FeSi_2 single crystals by XPS and XAS2010
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, F.Esaka
- 雑誌名
  
  Photon Factory Activity Report
  
  巻: 27 ページ: 133-133
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[雑誌論文] Thin film formation and characterization of plasma produced by pulsed laser ablation of h-BN target2009
- 著者名/発表者名
  Hironori Ohba, Morihisa Saeki, Fumitaka Esaka, Hiroyuki Yamamoto, Atsushi Yokoyama
- 雑誌名
  
  Proceedings of the Plasma Science Symposium 2009/The 26^<th> Symposium on plasma Processing
  
  ページ: 308-309
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19560053
[雑誌論文] エキシマレーザー照射によるh-BNからのアブレーションプラズマの特性2009
- 著者名/発表者名
  大場弘則, 佐伯盛久, 江坂文孝, 山田洋一, 山本博之, 横山淳
- 雑誌名
  
  Journal of the VacuumSociety of Japan 52(印刷中)
- NAID
  10025184894
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19560053
[雑誌論文] Thin film formation and characterization of plasma produced by pulsed laser ablation of h-BN target2009
- 著者名/発表者名
  Hironori Ohba, Morihisa Saeki, Fumitaka Esaka, Hiroyuki Yamamoto, Atsushi Yokoyama
- 雑誌名
  
  Proceedings of the Plasma Science Symposium 2009/ The 26th Symposium on plasma Processing
  
  ページ: 308-309
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19560053
[雑誌論文] Controlling the surface chirality of Si(110)2008
- 著者名/発表者名
  Y. Yamada, A. Girard. H. Asaoka, H. Yamamoto, S. Shamoto
- 雑誌名
  
  Phys. Rev. B 77
  
  ページ: 153305-153305
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Surface preparation and characterization of single crystalline β-FeSi_22008
- 著者名/発表者名
  Y. Yamada, I. Wakaya, S. Ohuchi, H. Yamamoto, H. Asaoka, S. Shamoto, H. Udono
- 雑誌名
  
  Surface Science
  
  巻: 602 ページ: 3006-3009
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[雑誌論文] Surface preparation and characterization of single crystalline β-FeSi_22008
- 著者名/発表者名
  Y. Yamada, I. Wakaya, S. Ohuchi, H. Yamamoto, H. Asaoka, S. Shamoto, H. Udono
- 雑誌名
  
  Surf. Sci. 602
  
  ページ: 3006-3009
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] The synthesis and structure of suspended ultra-thin Si_3N_4 nanosheets2008
- 著者名/発表者名
  T. Taguchi, H. Yamamoto, S. Shamoto
- 雑誌名
  
  Nanotechnology 19
  
  ページ: 485601-485601
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Si(110)-16x2単一ドメイン表面の作製2008
- 著者名/発表者名
  山田洋一, A. Girard, 朝岡秀人, 山本博之, 社本真一
- 雑誌名
  
  表面科学 29
  
  ページ: 401-406
- NAID
  130004673852
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Aligned defects behaviour of β-FeSi_2 thin film on Si(100)substrate prepared by ion beamsputter deposition2008
- 著者名/発表者名
  M. Sasase, K. Yamaguchi, H. Yamamoto, S. Shamoto, K. Hojou
- 雑誌名
  
  J. Phys . Conf. Ser. 100
  
  ページ: 42016-42016
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Non-destructive depth profile analysis for surface and buried interface of Ge thin film onSi substrate by high-energy synchrotron radiation X-ray photoelectron spectroscopy2008
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, Y. Yamada, M. Sasase, F. Esaka
- 雑誌名
  
  J. Phys. Conf. Ser. 100
  
  ページ: 12044-12044
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Single-domain Si(110)-16x2 surface fabricated by electromigration2007
- 著者名/発表者名
  Yoichi Yamada, Antoine Girard, Hidehito Asaoka, Hiroyuki Yamamoto, Shin-ichi Shamoto
- 雑誌名
  
  Phys. Rev. B 76
  
  ページ: 153309-153309
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Local neutron transmutation doping using isotopically enriched silicon film2007
- 著者名/発表者名
  Y. Yamada, H. Yamamoto, H. Ohba, M. Sasase, F. Esaka, K. Yamaguchi, H. Udono, S. Shamoto, A. Yokoyama, K.. Hoiou
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. Solids. 68
  
  ページ: 2204-2208
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Growth of β-FeSi_2 thin film on β-FeSi_2(110)substrate by MBE2007
- 著者名/発表者名
  Masataka Muroga, Hirokazu Suzuki, HaruhikoUdono, Isao Kikuma, A. V. Zhuravlev, Kenji Yamaguchi, Hiroyuki Yamamoto, Takayuki Terai
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films 515
  
  ページ: 8197-8200
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Photoluminescence characterization of β-FeSi_2 prepared by ion beam sputter deposition(IBSD)method2007
- 著者名/発表者名
  A. V. Zhuravlev, Hiroyuki Yamamoto, Kenichiro Shimura, Kenji Yamaguchi, Shin-ichi Shamoto, Kiichi Hojou, Takavuki Terai
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films 515
  
  ページ: 8149-8153
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Sputter etching effect of the substrate on the microstructure of β-FeSi_2 thin film prepared by ion beam sputter deposition method2007
- 著者名/発表者名
  Masato Sasase, Kenichiro Shimura, Kenji Yamaguchi, Hiroyuki Yamamoto, Shin-ichi Shamoto
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 257
  
  ページ: 186-189
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Effect of thermal annealing on the photoluminescence from β-FeSi_2 film on Si substrates2006
- 著者名/発表者名
  K.Yamaguchi, K.Shimura, H.Udono, H.Yamamoto, M.Sasase, S.Shamoto, K.Hojou
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films 508
  
  ページ: 367-370
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Characterization of photoluminescence of β-FeSi_2 thin film fabricated on Si and SIMOX substrate by IBSD method2006
- 著者名/発表者名
  K.Shimura, K.Yamaguchi, M.Sasase, H.Yamamoto, S.Shamoto, K.Hojou
- 雑誌名
  
  Vacuum 80
  
  ページ: 719-722
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Photoluminescence of β-FeSi_2 thin film prepared by ion beam sputter deposition method2006
- 著者名/発表者名
  K.Shimura, K.Yamaguchi, H.Yamamoto, M.Sasase, S.Shamoto, K.Hojou
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 242
  
  ページ: 673-675
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Modification of thin SIMOX film into β-FeSi_2 via dry processes2006
- 著者名/発表者名
  K.Shimura, K.Yamaguchi, H.Yamamoto, S.Shamoto, K.Hojou
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 242
  
  ページ: 676-678
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Cross sectional transmission a electron microscope (XTEM) observation of interface structure of β-FeSi_2/Si(100) prepared by ion beam sputter deposition (IBSD) method2006
- 著者名/発表者名
  M.Sasase, K.Shimura, H.Yamamoto, K.Yamaguchi, S.Shamoto, K.Hojou
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. Pt.1 45
  
  ページ: 4929-4933
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[雑誌論文] Nanoscopic observation of structural and compositional changes for β-FeSi_2 thin film formation processes2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto et al.
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films 461
  
  ページ: 99-105
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560731
[産業財産権] Si(110)表面の一次元ナノ構造及びその製造方法2008
- 発明者名
  山田洋一, 朝岡秀人, 山本博之, 社本真一
- 権利者名
  山田洋一, 朝岡秀人, 山本博之, 社本真一
- 産業財産権番号
  2008-182426
- 出願年月日
  2008-08-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[産業財産権] シリコン薄膜または同位体濃縮シリコン薄膜の製造方法2007
- 発明者名
  山田洋一、山本博之、大場弘則、江坂文孝、山口憲司、社本真一、横山淳、北條喜一、笹瀬雅人、鵜殿治彦
- 権利者名
  山田洋一、山本博之、大場弘則、江坂文孝、山口憲司、社本真一、横山淳、北條喜一、笹瀬雅人、鵜殿治彦
- 出願年月日
  2007-06-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] Non-destructive depth analysis of the surface oxide layer on Mg2Si crystals with XPS and XAS2015
- 著者名/発表者名
  江坂文孝、野島健大、鵜殿治彦、間柄正明、山本博之
- 学会等名
  16th European Conference on Application of Surface and Interface Analysis
- 発表場所
  グラナダ会議展示場（スペイングラナダ）
- 年月日
  2015-09-28
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25410160
[学会発表] Non-destructive chemical depth profiling with X-ray absorption spectroscopy2015
- 著者名/発表者名
  山本博之、野島健大、江坂文孝
- 学会等名
  15th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  京都国際会議場（京都府京都市）
- 年月日
  2015-05-25
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25410160
[学会発表] Surface characterization of homoepitaxial β-FeSi_2 film on β-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopy2010
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, et al.
- 学会等名
  APAC-Silicide 2010
- 発表場所
  茨城(日本)
- 年月日
  2010-07-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[学会発表] Surface analysis of single-crystalline β-FeSi_22010
- 著者名/発表者名
  Y.Yamada, W.Mao, H.Asaoka, H.Yamamoto, F.Esaka, H.Udono, T.Tsuru
- 学会等名
  APAC-Silicide2010
- 発表場所
  EPOCAL Tsukuba
- 年月日
  2010-07-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[学会発表] Surface structures of β-FeSi_2 formed by heat-treatment in ultra-high vacuum and their influence on homoepitaxial growth2010
- 著者名/発表者名
  S.Matsumura, K.Ochiai, H.Udono, F.Esaka, K.Yamaguchi, H.Yamamoto, K.Houjo
- 学会等名
  APAC-Silicide2010
- 発表場所
  EPOCAL Tsukuba
- 年月日
  2010-07-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[学会発表] Surface characterization of homoepitaxialυ-FeSi_2 film onυ-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopy2010
- 著者名/発表者名
  F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
- 学会等名
  APAC-Silicide2010
- 発表場所
  Ibaraki
- 年月日
  2010-07-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[学会発表] 超高真空中熱処理によるβ-FeSi_2基板表面構造と成膜への影響2010
- 著者名/発表者名
  松村精大, 落合城仁, 鵜殿治彦, 江坂文孝, 山口憲司, 山本博之, 北條喜一
- 学会等名
  第57回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  東海大学
- 年月日
  2010-03-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[学会発表] Non-destructive depth profiling of FeSi_2 single crystals by synchrotron radiation excited XPS and XAS2010
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, et al.
- 学会等名
  International Vacuum Congress 18
- 発表場所
  北京(中国)
- 年月日
  2010-08-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[学会発表] Nondestructive depth profiling of FeSi2 single crystals by synchrotron radiation excited XPS and XAS2010
- 著者名/発表者名
  F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
- 学会等名
  International Vacuum Congress 18
- 発表場所
  Beijing, China
- 年月日
  2010-08-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[学会発表] Surface characterization of homoepitaxial β-FeSi_2 film on β-FeSi_2 (111) substrate by X-ray photoelectron and absorption spectroscopy2010
- 著者名/発表者名
  F.Esaka, H.Yamamoto, H.Udono, N.Matsubayashi, K.Yamaguchi, S.Shamoto, M.Magara, T.Kimura
- 学会等名
  APAC-Silicide2010
- 発表場所
  EPOCAL Tsukuba
- 年月日
  2010-07-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360134
[学会発表] β-FeSi_2単結晶表面状態のXPS及びXASによる分析2009
- 著者名/発表者名
  江坂、山本, 他6名
- 学会等名
  第29回表面科学学術講演会
- 発表場所
  東京
- 年月日
  2009-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[学会発表] β-FeSi_2単結晶最表面状鯨のXPS及びXASによる分析2009
- 著者名/発表者名
  江坂文孝、山本博之, 他
- 学会等名
  第29回表面科学学術講演会
- 発表場所
  東京(日本)
- 年月日
  2009-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560765
[学会発表] h-BNターゲットターゲットからのアブレーションプラズマの特性と薄膜の作製2009
- 著者名/発表者名
  大場弘則, 佐伯盛久, 江坂文孝, 山田洋一, 山本博之, 横山淳
- 学会等名
  プラズマシンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会
- 発表場所
  名古屋大学(名古屋市)
- 年月日
  2009-02-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19560053
[学会発表] 同位体選択的赤外多光子解離されたフロロシランからの同位体濃縮Si薄膜の作製2008
- 著者名/発表者名
  大場弘則, 鈴木裕, 江板文孝, 田口富嗣, 山田洋一, 山本博之, 横山淳
- 学会等名
  第49回真空に関する連合講演会
- 発表場所
  松江
- 年月日
  2008-10-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] Nanostructural observation of interface between β-FeSi_2 thin films and Si or silicon-on-insulator substrates2008
- 著者名/発表者名
  M. Sasase, A. Zhuravlev, K. Shimura, K. Yamaguchi, H. Yamamoto, S. Shamoto, T. Terai, K. Hojou
- 学会等名
  16th International Conference on Ion Beam Modification of Materials (IBMM 2008)
- 発表場所
  Dresden
- 年月日
  2008-09-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] β-FeSi_2とSiの共析混合物の作製と近赤外PL発光2008
- 著者名/発表者名
  阿久津恵一, 原嘉昭, 中岡鑑一郎, 山本博之
- 学会等名
  2008年秋季、第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  春日井
- 年月日
  2008-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] 放射光を用いた高エネルギ-X線光電子分光法による非破壊深さ方向分析2008
- 著者名/発表者名
  山本博之
- 学会等名
  (独)日本学術振興会製鋼第19委員会製鋼計測化学研究会第42回会議
- 発表場所
  東京
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] イオン照射基板から得られる急峻なシリサイド薄膜界面の創製2008
- 著者名/発表者名
  笹瀬雅人、山本博之、山口憲司、社本真一
- 学会等名
  2008年春季第55回応用物理学関連連合講演会
- 発表場所
  船橋
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] エキシマレーザー照射によるh-BN からのアブレーションプラズマの特性2008
- 著者名/発表者名
  大場弘則, 佐伯盛久, 江坂文孝, 山田洋一, 山本博之, 横山淳
- 学会等名
  第49回真空に関する連合講演会
- 発表場所
  くにびきメッセ(松江市)
- 年月日
  2008-10-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19560053
[学会発表] h-BNターゲットから生成したアブレーションプラズマの特性2008
- 著者名/発表者名
  大場弘則, 佐伯盛久, 江坂文孝, 山田洋一, 山本博之, 横山淳
- 学会等名
  第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学(春日井市)
- 年月日
  2008-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19560053
[学会発表] h-BNターゲットから生成したアブレーションプラズマの特性2008
- 著者名/発表者名
  大場弘則, 佐伯盛久, 江坂文孝, 山田洋一, 山本博之, 横山淳
- 学会等名
  2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学(春日井市)
- 年月日
  2008-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19560053
[学会発表] 量子ビームによる鉄鋼試料表面の非破壊深さ方向分析2008
- 著者名/発表者名
  山本博之, 山田洋一, 松江秀明, 曽山和彦, 江坂文孝, 笹瀬雅人
- 学会等名
  日本鉄鋼協会第156回秋季講演大会・討論会
- 発表場所
  熊本
- 年月日
  2008-09-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] Depth profiling of oxidized surface of stainless steel by synchrotron radiation excited X-ray photoelectron spectroscopy2008
- 著者名/発表者名
  F. Esaka, H. Yamamoto, M. Sasase, M. Magara, N. Shinohara
- 学会等名
  The 4th Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia (VASSCAA-4)
- 発表場所
  Matsue
- 年月日
  2008-10-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] β-FeSi_2ホモエピタキシャル成長初期における成膜条件の検討2008
- 著者名/発表者名
  若谷一平, 落合城仁, 鵜殿治彦, 山田洋一, 山本博之, 江坂文孝
- 学会等名
  2008年秋季、第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  春日井
- 年月日
  2008-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] Aligned defects behaviour of β-FeSi_2 thin film on Si(100)substrate prepared by ion beamsputter deposition2007
- 著者名/発表者名
  M. Sasase, K. Yamaguchi, H. Yamamoto, S. Shamoto, K. Hojou
- 学会等名
  13th International Conference on Surface Science
- 発表場所
  ストックホルム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] 30Si同位体濃縮薄膜の中性子ドーピング2007
- 著者名/発表者名
  山田洋一、山本博之、大場弘則、笹瀬雅人、江坂文孝、鵜殿治彦、山口憲司、横山淳、北條喜一、社本真一
- 学会等名
  2007年秋季第68回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  札幌
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] β-FeSi_2単結晶清浄表面の準備と評価2007
- 著者名/発表者名
  山田洋一、若谷一平、大内真二、山本博之、鵜殿治彦
- 学会等名
  2007年秋季第68回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  札幌
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] Si(110)-16×2単-ドメイン表面の作製2007
- 著者名/発表者名
  山田洋一、Girard Antoine、朝岡秀人、山本博之、社本真一
- 学会等名
  第27回表面科学講演大会
- 発表場所
  東京
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] Non-destructive depth profile analysis for surface and buried interface of Ge thin film onSi substrate by high-energy synchrotron radiation X-ray photoelectron spectroscopy2007
- 著者名/発表者名
  Hiroyuki Yamamoto, Yoichi Yamada, Masato Sasase, Fumitaka Esaka
- 学会等名
  13th International Conference on Surface Science
- 発表場所
  ストックホルム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18651063
[学会発表] X線吸収分光法における電子エネルギー選択による固体表面の非破壊深さ方向分析
- 著者名/発表者名
  野島健大、江坂文孝、山本博之
- 学会等名
  日本分析化学会第63年会
- 発表場所
  広島大学
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25410160

1. 江坂文孝 (40354865)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 27件
2. 山口憲司 (50210357)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 22件
3. 大場弘則 (60354817)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 10件
4. 山田洋一 (20435598)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 17件
5. 横山淳 (20354821)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 7件
6. 佐伯盛久 (30370399)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 7件
7. 鵜殿治彦 (10282279)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
8. 木村孝之 (50302328)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 3件
9. 志村憲一郎 (90391292)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
10. 笹瀬雅人 (60359239)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
11. 北條喜一 (40133318)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

山本 博之 Yamamoto Hiroyuki

研究課題

研究成果

共同研究者

表面ナノ領域の化学結合状態の深さ方向分析

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

励起エネルギー可変光電子分光による鉄シリサイド極表面構造の解明

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

シリサイド半導体を用いた資源・環境リスク対応フォトダイオードの開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

ダブルパルスレーザー堆積による窒化ホウ素同位体濃縮膜の合成

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

同位体ナノ薄膜作製による高精度なドーピング手法の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

シリコン系化合物の耐放射線機構の解明とその応用

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Non-destructive depth analysis of the surface oxide layer on Mg2Si with XPS and XAS2016

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Spectroscopic characterization of β-FeSi_2 single crystals and homoepitaxial β-FeSi_2 films by XPS and XAS2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Surface characterization of homoepitaxial β-FeSi_2 film on β-FeSi_2(111) structure by X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopy2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Surface structures of β-FeSi2 formed by heat-treatment in ultra-high vacuum and their influence on homoepitaxial growth2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Spectroscopic characterization ofυ-FeSi_2 single crystals and homoepitaxialυ-FeSi_2 films by XPS and XAS2011

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Surface analysis of single-crystalline β-FeSi_22011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Surface characterization of homoepitaxialυ-FeSi_2 film onυ-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and absorption spectroscopy2011

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Surface characterization of homoepitaxial β-FeSi_2 film on β-FeSi_2 (111) substrate by X-ray photoelectron and absorption spectroscopy2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Surface structures of β-FeSi_2 formed by heat-treatment in ultra-high vacuum and their influence on homoepitaxial growth2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Spectroscopic characterization of β-FeSi_2 single crystals and homoepitaxial β-FeSi_2 films by XPS and XAS2011

山本博之 Yamamoto Hiroyuki