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遠藤 明  Endo Akira

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 30356604
所属 (現在) 2025年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 研究部門付
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2021年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 研究部門長
2019年度 – 2020年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 副研究部門長
2017年度 – 2018年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 研究部門付
審査区分/研究分野
研究代表者以外
理工系
キーワード
研究代表者以外
多連続 / 数学連携 / 多孔質構造 / 多連続構造 / ナノ粒子含有薄膜 / 界面活性剤 / イオン液体 / 微細加工 / 石けん膜 / 金属原子含有界面活性イオン液体 … もっと見る / セラミックスコンポジット薄膜 / 3Dリソグラフィー / ナノコンポジット / 幾何学 / 酸化ジルコニウムナノ粒子 / チタニア / ジルコニア / セラミックス薄膜 / セラミックスナノ粒子 / ナノコンポジット薄膜 / 極小曲面 隠す
  • 研究課題

    (1件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  界面活性剤を用いた多連続多孔質構造の形成

    • 研究代表者
      高見 誠一
    • 研究期間 (年度)
      2017 – 2021
    • 研究種目
      新学術領域研究(研究領域提案型)
    • 審査区分
      理工系
    • 研究機関
      名古屋大学
  • 1.  高見 誠一 (40311550)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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