加藤公彦 Kato Kimihiko

研究者番号	30815486
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2022年度 – 2024年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 2020年度 – 2021年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 研究員
審査区分/研究分野	研究代表者小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
キーワード	研究代表者集積回路 / 急峻スイッチング / 低消費電力 / シリコン / トンネルFET / 共鳴トンネル / 量子井戸 / オン電流 / TFET

量子井戸局在共鳴準位を援用した高オン電流シリコントンネルトランジスタ研究代表者
- 研究代表者
  
  加藤公彦
- 研究期間 (年度)
  2023 – 2025
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所
状態密度を次元制御した超急峻スイッチング新構造トンネルFETの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  加藤公彦
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2022
- 研究種目
  
  若手研究
- 審査区分
  
  小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所

すべて 2023 2022 2021

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Single-electron transistor operation of a physically defined silicon quantum dot device fabricated by electron beam lithography employing a negative-tone resist2023
- 著者名/発表者名
  Shimpei Nishiyama, Kimihiko Kato, Yongxun Liu, Raisei Mizokuchi, Jun Yoneda, Tetsuo Kodera, and Takahiro Mori
- 雑誌名
  
  The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers (IEICE) Transactions
  
  巻: -
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[雑誌論文] Electron beam lithography with negative tone resist for highly integrated silicon quantum bits2021
- 著者名/発表者名
  Kato Kimihiko、Liu Yongxun、Murakami Shigenori、Morita Yukinori、Mori Takahiro
- 雑誌名
  
  Nanotechnology
  
  巻: 32 号: 48 ページ: 485301-485301
- DOI
  10.1088/1361-6528/ac201b
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[雑誌論文] Si bilayer tunnel field-effect transistor structure realized using tilted ion-implantation technique2021
- 著者名/発表者名
  Kato Kimihiko、Asai Hidehiro、Fukuda Koichi、Mori Takahiro、Morita Yukinori
- 雑誌名
  
  Solid-State Electronics
  
  巻: 180 ページ: 107993-107993
- DOI
  10.1016/j.sse.2021.107993
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] Single electron transport and electron spin qubit operation in Si tunnel FETs with an isoelectronic trap impurity of beryllium2022
- 著者名/発表者名
  Yoshisuke Ban, Kimihiko Kato, Shota Iizuka, Koji Ishibashi, Satoshi Moriyama, Takahiro Mori, and Keiji Ono
- 学会等名
  2022 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] Single-Electron Transistor Operation of a Physically Defined Silicon Quantum Dot Device Fabricated by Electron Beam Lithography Employing Negative-tone Resist2022
- 著者名/発表者名
  Shimpei Nishiyama, Kimihiko Kato, Yongxun Liu, Raisei Mizokuchi, Jun Yoneda, Tetsuo Kodera, and Takahiro Mori
- 学会等名
  2022 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] Introduction of deep impurity levels of S and Zn and high temperature single-electron transport in Si tunnel FETs2022
- 著者名/発表者名
  Yoshisuke Ban, Kimihiko Kato, Shota Iizuka, Shigenori Murakami, Koji Ishibashi, Satoshi Moriyama, Takahiro Mori, and Keiji Ono
- 学会等名
  2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] シリコン量子ビット作製と大規模集積化に向けた電子線リソグラフィ技術2022
- 著者名/発表者名
  加藤公彦
- 学会等名
  NPF合同セミナー
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] 集積シリコン量子ビット作製に向けた電子線リソグラフィ技術の開発2022
- 著者名/発表者名
  加藤公彦
- 学会等名
  次世代リソグラフィ技術研究会（応用物理学会次世代リソグラフィ技術分科会）
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] Development of electron beam lithography technique for fabrication of integrated silicon quantum bits2021
- 著者名/発表者名
  加藤公彦、柳永勛、村上重則、森田行則、森貴洋
- 学会等名
  34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2021)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] Electron Beam Lithography for Future Highly-Integrated Si Quantum Bits2021
- 著者名/発表者名
  加藤公彦
- 学会等名
  BEAMeeting E-Beam Workshop (jointed with Micro and Nano Engineering Conference)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797
[学会発表] 集積シリコン量子素子に向けたネガレジスト電子線リソグラフィ技術の構築2021
- 著者名/発表者名
  加藤公彦, 柳永勛, 森田行則, 森貴洋
- 学会等名
  第82回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14797

1. 飯塚将太 (30814545)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

加藤 公彦 Kato Kimihiko

研究課題

研究成果

共同研究者

量子井戸局在共鳴準位を援用した高オン電流シリコントンネルトランジスタ研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

状態密度を次元制御した超急峻スイッチング新構造トンネルFETの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

[雑誌論文] Single-electron transistor operation of a physically defined silicon quantum dot device fabricated by electron beam lithography employing a negative-tone resist2023

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Electron beam lithography with negative tone resist for highly integrated silicon quantum bits2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Si bilayer tunnel field-effect transistor structure realized using tilted ion-implantation technique2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[学会発表] Single electron transport and electron spin qubit operation in Si tunnel FETs with an isoelectronic trap impurity of beryllium2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Single-Electron Transistor Operation of a Physically Defined Silicon Quantum Dot Device Fabricated by Electron Beam Lithography Employing Negative-tone Resist2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Introduction of deep impurity levels of S and Zn and high temperature single-electron transport in Si tunnel FETs2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] シリコン量子ビット作製と大規模集積化に向けた電子線リソグラフィ技術2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 集積シリコン量子ビット作製に向けた電子線リソグラフィ技術の開発2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Development of electron beam lithography technique for fabrication of integrated silicon quantum bits2021

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Electron Beam Lithography for Future Highly-Integrated Si Quantum Bits2021

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 集積シリコン量子素子に向けたネガレジスト電子線リソグラフィ技術の構築2021

著者名/発表者名

学会等名

データソース

加藤公彦 Kato Kimihiko