小寺正敏 KOTERA Masatoshi

研究者番号	40170279
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2010年度 – 2021年度: 大阪工業大学, 工学部, 教授 1995年度 – 1997年度: 大阪工業大学, 工学部, 教授 1991年度 – 1993年度: 大阪工業大学, 工学部, 助教授 1987年度: 大阪工業大学, 工学部, 助教授 1986年度: 大阪工業大学, 工学部, 講師
審査区分/研究分野	研究代表者小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連 / 電子デバイス・電子機器 / 計測・制御工学 / 計測・制御工学 / 薄膜・表面界面物性研究代表者以外電子デバイス・電子機器 / 電子機器工学 / 応用物理学一般
キーワード	研究代表者フォギング電子 / フォギング電子軌道追跡 / フォギング電子空間分布測定 / 帯電現象の解析 / 静電気力顕微鏡 / 電子ビームリソグラフィ / Design of the System / Simulation of Electron Beam Trajectory / 電子散乱のシミュレーション / 静電気力顕微鏡法 … もっと見る / 無帯電露光条件 / マルチスケール分析 / フォギング電子解析 / 無帯電条件 / 電子ビーム誘起導電現象 / レジスト帯電現象の解析 / マルチスケール / マルチスケール解析 / レジスト無帯電露光条件 / Low Temperature SEM / Type-I Magnetic contrast / Scanning Electron Microscopy / Type I磁気コントラスト / 磁束量子観察 / マイクロチャンネルプレート / 高温超伝導薄膜 / Type-I磁気コントラスト / 走査電子顕微鏡法 / 磁束観察 / Optimization of the Electron Optics / Reflection Electron Image / Electrostatic Scanning Electron Microscope / 反射電子検出 / ディジタル電子ビ-ム走査 / 電子軌道シミュレ-ション / システム設計 / 電子軌道シミュレーション / 電子光学系の最適化 / 反射電子像 / 静電型走査電子顕微鏡 / プローブ顕微鏡法 / 帯電電位測定 / 静電気力顕微鏡システム / 電子ビーム照射に伴う帯電 / 走査電子顕微鏡 / 加速電圧依存性 / 電位分布 / 試料帯電 / 電子ビーム機器 / EBIC / 帯電電荷計測 / 電子顕微鏡 … もっと見る研究代表者以外 ESEM / 分子動力学法 / モンテカルロ法 / 半導体リソグラフィ / マルチスケール解析 / 確率論的シミュレーション / レジスト分子 / スケール境界領域 / マルチスケールシミュレーション / ナノインプリント / 極端紫外線リソグラフィ / 電子線リソグラフィ / パターン形成 / 3D Microscopy / Acoustic microscopy / 超音波ホログラム顕微鏡 / ホログラム顕微鏡 / 赤外線顕微鏡 / 立体顕微鏡 / 超音波顕微鏡 / single scattering model / Monte Carlo simulation / Oligo-scattering phenomenon / Oligo-scattering electron beam / electron beam analyzer / 検体 / 試料分析 / 電子ビーム分析 / AIRSEM / ASEM / Oligo Scattering / Origo Scatlering / 細胞観察 / 生体試料 / オリゴ散乱 / 生体観察 / 環境顕微鏡 / 計算物理 / 分子動力学 / マルチフィジックス / ナノプロセス / 電子ビーム隠す

電子ビームリソグラフィにおける無帯電露光条件の体系化研究代表者
- 研究代表者
  
  小寺正敏
- 研究期間 (年度)
  2019 – 2021
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
- 研究機関
  大阪工業大学
電子ビームリソグラフィにおける帯電の影響低減のための帯電現象のマルチスケール解析研究代表者
- 研究代表者
  
  小寺正敏
- 研究期間 (年度)
  2016 – 2018
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  大阪工業大学
スケール境界領域におけるパターン形成技術に関する理論的研究
- 研究代表者
  
  安田雅昭
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  大阪府立大学
電子線ナノプロセスのマルチフィジックスシミュレーション
- 研究代表者
  
  安田雅昭
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  大阪府立大学
電子ビーム照射による試料帯電の広範囲ナノメートル分解能・リアルタイム計測技術開発研究代表者
- 研究代表者
  
  小寺正敏
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  薄膜・表面界面物性
- 研究機関
  大阪工業大学
超伝尊薄膜貫通磁束観察法の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  小寺正敏
- 研究期間 (年度)
  1995 – 1997
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  計測・制御工学
- 研究機関
  大阪工業大学
空気中試料観測用電子顕微鏡の開発
- 研究代表者
  
  菅博
- 研究期間 (年度)
  1995 – 1996
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物理学一般
- 研究機関
  大阪工業大学
静電型走査電子顕微鏡の製作研究代表者
- 研究代表者
  
  小寺正敏
- 研究期間 (年度)
  1991 – 1993
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  計測・制御工学
- 研究機関
  大阪工業大学
電子ビーム超音波立体顕微鏡に関する研究
- 研究代表者
  
  菅博
- 研究期間 (年度)
  1986 – 1987
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  電子機器工学
- 研究機関
  大阪工業大学

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すべて雑誌論文学会発表図書

[図書] 電子・イオンビームハンドブック第4版2021
- 著者名/発表者名
  松井真二、高岡義寛、臼井博明、谷口淳、八坂行人、高橋由夫、桑原真、糟谷圭吾、豊田紀章、千葉敦也、百田佐多生、岡山重夫、近藤行人、森下茂幸、村田英一、安田雅昭、小寺正敏、古澤孝弘、園山百代、揚村寿英他
- 総ページ数
  593
- 出版者
  日刊工業新聞社
- ISBN
  9784600006242
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[雑誌論文] Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography2021
- 著者名/発表者名
  Kubo Kento、Kojima Kentaro、Kono Yoshinobu、Kotera Masatoshi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: SC ページ: SCCB02-SCCB02
- DOI
  10.35848/1347-4065/abf46a
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[雑誌論文] Non-charging Conditions of Insulating Film under Electron Beam Irradiation2020
- 著者名/発表者名
  Hideya Mizuno, Kento Kubo, Kentaro Kojima, Masatoshi Kotera
- 雑誌名
  
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology
  
  巻: 18 号: 0 ページ: 106-109
- DOI
  10.1380/ejssnt.2020.106
- NAID
  130007813455
- ISSN
  1348-0391
- 年月日
  2020-03-21
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[雑誌論文] 電子ビーム照射を受けた導体上レジスト薄膜の帯電現象の解析2020
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 雑誌名
  
  荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第第242回研究会資料
  
  巻: 2A-1478 ページ: 15-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[雑誌論文] Simulation of fogging electron trajectories in a scanning electron microscope2018
- 著者名/発表者名
  Yuka Ito, Takatoshi Donga, Kentaro Morimoto and Masatoshi Kotera
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE 10810, Photomask Technology
  
  巻: 10810 ページ: 10-10
- DOI
  10.1117/12.2504822
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[雑誌論文] Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography2016
- 著者名/発表者名
  M. Yasuda, K. Tada and M. Kotera
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 29 号: 5 ページ: 725-730
- DOI
  10.2494/photopolymer.29.725
- NAID
  130005261816
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K13978
[雑誌論文] Measurement of surface potential of insulating film on a conductive substrate in a scanning electron microscope specimen chamber2011
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Akira Osada, Masaru Otani , Yasuhiro Ohara
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science and Technology
  
  巻: B 29(6) 号: 6 ページ: 06F316-06F316
- DOI
  10.1116/1.3662079
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Effect of Time Variation on Charging Phenomenon and Exposure Dose Dependency of Surface potential2021
- 著者名/発表者名
  Yoshinobu Kono, Kentaro Kojima, Kento Kubo and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2021
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビームリソグラフィにおける無帯電条件について2021
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  2020 年度日本顕微鏡学会SEM の物理学分科会討論会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Investigation of Non-Charging Exposure Conditions for Insulating ResistFilms in Electron Beam Lithography2021
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kojima, Kento Kubo, Yoshinobu Kono and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  The 64th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビームリソグラフィにおけるレジスト帯電の分析2021
- 著者名/発表者名
  河野由伸，小島健太郎，小寺正敏
- 学会等名
  第82回応用物理学会周期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索2021
- 著者名/発表者名
  小島健太郎、久保建統、河野由伸、小寺正敏
- 学会等名
  2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Analysis of resist charging in electron beam lithography2021
- 著者名/発表者名
  Yoshinobu Kono, Kentaro Kojima and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Micro and Nano Engineering Conference 2021
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビーム照射を受けた導体上レジスト薄膜の帯電現象の解析2021
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビーム照射を受けた導体上レジスト薄膜の帯電現象の解析2020
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第第242回研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビームリソグラフィにおけるレジストの無帯電露光条件2020
- 著者名/発表者名
  小寺正敏、水野秀哉、久保建統、小島健太郎
- 学会等名
  2020年度実用表面分析講演会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography2020
- 著者名/発表者名
  Kento Kubo, Kentaro Kojima Yoshinobu Kono and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Potential distribution on the resist surface after electron beam irradiation with respect to resist thickness and elapsed time2020
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kojima, Kento Kubo, Yoshinobu Kono and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Investigation of Non-Charging Exposure Condition in Electron Beam Lithography2019
- 著者名/発表者名
  Kento Kubo, Hideya Mizuno and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Simulation of multiply scattered electron trajectories in scanning electron microscope specimen chamber2019
- 著者名/発表者名
  Yuka Ito, Kentaro Morimoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscopy Congress 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Observation of charging image of insulating film under electron beam irradiation2019
- 著者名/発表者名
  Kento Kubo, Hideya Mizuno, Kentaro Kojima and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  12th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '19
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Non-charging conditions of insulating film under electron beam irradiation2019
- 著者名/発表者名
  Hideya Mizuno, Kento Kubo, Kentaro Kojima and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  12th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '19
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Measurement of absorbed current for quantitative evaluation of scattered electrons in a scanning electron microscope2019
- 著者名/発表者名
  Kentaro Morimoto, Yuka Ito, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscopy Congress 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 走査電子顕微鏡試料室における多重散乱電子軌道のシミュレーション2019
- 著者名/発表者名
  伊藤優花, 森本健太郎, 小寺正敏
- 学会等名
  第80回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Non-Charging Exposure Condition of Insulating Resist in Electron Beam Lithography2019
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Kento Kubo and Hideya Mizuno
- 学会等名
  International Materials Research Congress 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 走査電子顕微鏡における散乱電子の定量的評価のための吸収電流の測定2019
- 著者名/発表者名
  森本健太郎, 伊藤優花, 小寺正敏
- 学会等名
  第80回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Investigation of Non-Charging Exposure Condition in Electron Beam Lithography2019
- 著者名/発表者名
  Hideya Mizuno, Kento Kubo, Kentaro Kojima, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Simulation Of Electron Trajectories In Scanning Electron Microscope Specimen Chamber2019
- 著者名/発表者名
  Yuka Ito, Kentaro Morimoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscience Microscopy Congress 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索2019
- 著者名/発表者名
  久保建統，水野秀哉，小寺正敏
- 学会等名
  NGL(次世代リソグラフィ)研究会ワークショップ
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索2019
- 著者名/発表者名
  水野秀哉，久保建統，小島健太郎,　小寺正敏
- 学会等名
  第80回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] 低エネルギー電子の試料室内部での散乱2019
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会　SEMの物理学分科会討論会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Non-Charging Exposure Conditions of Insulating Resist in Electron Beam Lithography2019
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Kento Kubo, Kentaro Kojima, Hideya Mizuno
- 学会等名
  32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2019
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Measurement of absorbed current for quantitative evaluation of scattered electrons in a scanning electron microscope2019
- 著者名/発表者名
  Kentaro Morimoto, Yuka Ito, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Measurement Of Scattered Electron Current Distribution In Scanning Electron Microscope2019
- 著者名/発表者名
  Kentaro Morimoto, Yuka Ito, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscience Microscopy Congress 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Investigation Of Non-Charging Exposure Condition In Electron Beam Lithography2019
- 著者名/発表者名
  Kento Kubo, Hideya Mizuno and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscience Microscopy Congress 2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K04519
[学会発表] Time evolution simulation of scattered electrons in scanning electron microscope specimen chamber2018
- 著者名/発表者名
  Takatoshi Donga, Yuka Ito, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  19th International Microscopy Congress
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Flare electrons that cause positive charging by scattering in scanning electron microscope2018
- 著者名/発表者名
  Shota Nishimura, Hideya Mizuno, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  19th International Microscopy Congress
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Contribution of flare electrons to produce potential distribution on an insulator film by electron beam irradiation2018
- 著者名/発表者名
  Hideya Mizuno, Shota Nishimura, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2018
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Investigation of Non-Charging Condition of Resist in Electon Beam Lithography2018
- 著者名/発表者名
  Shota Nishimura, Hideya Mizuno, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  31st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 同一電界によるフォギング電子のエネルギー分析2018
- 著者名/発表者名
  水野秀哉，西村将太，久保建統，小寺正敏
- 学会等名
  第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 電子ビーム照射された絶縁体試料表面電位分布の負バイアス依存性2018
- 著者名/発表者名
  西村将太，水野秀哉，久保建統，小寺正敏
- 学会等名
  第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Three-dimensional trajectory simulation of scattered electrons in scanning electron microscope specimen chamber2018
- 著者名/発表者名
  Yuka Ito, Takatoshi Donga, Kentaro Morimoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  19th International Microscopy Congress
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of scattered electron current distribution in scanning electron microscope2018
- 著者名/発表者名
  Kentaro Morimoto, Yuka Ito, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  19th International Microscopy Congress
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of the Flare Electron Current in Scanning Electron Microscope2018
- 著者名/発表者名
  Kentaro Morimoto, Yoshifumi Hagiwara, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2018
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Three-Dimensional Trajectory Simulation of Fogging Electrons in Scanning Electron Microscope2018
- 著者名/発表者名
  Yuka Ito, Takatoshi Donga, Kentaro Morimoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  31st International Microprocesses and Nanotechnology Conference, (MNC2018)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] SEM試料室内散乱電子の解析2018
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  2018 年度　日本顕微鏡学会 SEM の物理学分科会研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Simulation of fogging electron trajectories in a scanning electron microscope2018
- 著者名/発表者名
  Yuka Ito, Takatoshi Donga, Kentaro Morimoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2018
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Simulation of fogging electron trajectories in a scanning electron microscope2018
- 著者名/発表者名
  Yuka Ito, Takatoshi Donga, Kentaro Morimoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2018
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Positive and negative charge accumulation mechanism generated by electron beam irradiation to insulating specimen2018
- 著者名/発表者名
  Hideya Mizuno, Shota Nishimura, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  19th International Microscopy Congress
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Energy Analysis of Fogging Electrons in Scanning Electron Microscope2018
- 著者名/発表者名
  Kentaro Morimoto, Takatoshi Donga, Yuka Ito, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  31st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Energy Analysis of Fogging Electrons by The Same Electric Field2018
- 著者名/発表者名
  Hideya Mizuno, Shota Nishimura, Kento Kubo, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  31st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 走査電子顕微鏡内におけるフォギング電子軌道シミュレーション2017
- 著者名/発表者名
  西野大輝，小寺正敏
- 学会等名
  平成28年度日本材料学会第5回半導体エレクトロニクス部門委員会第1回講演会・見学会
- 発表場所
  鳥取大学（鳥取県鳥取市）
- 年月日
  2017-01-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Enormous lateral distribution of electrons generated by electron beam in a scanning electron microscope2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nishimura, Takuya Kawamoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Contribution of flare electrons on enormous large areal positive charging2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nishimura,Takuya Kawamoto,Hideaki Mizuno, Masaki Moriyama, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Atomic Level Characterization 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 電子ビーム照射付近から遠方で正帯電を引き起こすフレア電子について2017
- 著者名/発表者名
  西村将太，河本拓也，小寺正敏
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 査電子顕微鏡試料室における散乱電子の三次元軌道のシミュレーション2017
- 著者名/発表者名
  寺田一真，萩原佳史，小寺正敏
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of the flare electron current distribution with various accelerating voltage in scanning electron microscope2017
- 著者名/発表者名
  Yoshifumi Hagiwara, Kentaro Morimoto, Yuka Ito, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Atomic Level Characterization 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 走査電子顕微鏡内におけるフレア電子の電流分布測定2017
- 著者名/発表者名
  萩原佳史, 森本健太郎, 伊藤優花，小寺正敏
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Simulation of fogging electron trajectories in Faraday cup2017
- 著者名/発表者名
  Takatoshi Donga, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Atomic Level Characterization 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] ファラデーカップ設計のための電子散乱シミュレーション2017
- 著者名/発表者名
  頓花貴俊，伊藤優花，小寺正敏
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Simulation of Fogging Electron Trajectories in a Scanning Electron Microscope2017
- 著者名/発表者名
  T. Nishino and M. Kotera
- 学会等名
  Symposium on Surface Science & Nanotechnology -25th Anniversary of SSSJ Kanasi-
- 発表場所
  Kyoto International Community House, Kyoto, Japan
- 年月日
  2017-01-25
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of Fogging Electron Current at the Objective Lens and the Specimen Surface in SEM2017
- 著者名/発表者名
  Y. Hagiwara, T. Noda, M. Kotera and R. Gauvin
- 学会等名
  Symposium on Surface Science & Nanotechnology -25th Anniversary of SSSJ Kanasi-
- 発表場所
  Kyoto International Community House, Kyoto, Japan
- 年月日
  2017-01-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of enormous spatial distribution of scattered electrons in scanning electron microscope2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nishimura, Takuya Kawamoto, Hideya Mizuno, Masaki Moriyama, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscopy Conference 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Three-dimensional trajectory simulation of scattered electrons in scanning electron microscope specimen chamber2017
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Terada, Yoshifumi Hagiwara, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Atomic Level Characterization 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 電子ビーム照射された絶縁体試料表面電位分布のワーキングディスタンスと印加バイアス依存性2016
- 著者名/発表者名
  東海昌司，河本拓也，小寺正敏
- 学会等名
  第63回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東京工業大学（東京都目黒区）
- 年月日
  2016-03-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurement of Fogging Electron Current for Various Beam Energies at Acceleration Bias in Scanning Electron Microscope2016
- 著者名/発表者名
  Yoshifumi Hagiwara, Taku Noda, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, (MNC2016)
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2016-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Dependence of the working distance and the applied bias on the surface potential distribution of insulating specimen irradiated by electron beam2016
- 著者名/発表者名
  Takuya Kawamoto, Masashi Tokai, Shota Nishimura, Tatsuya Toyama, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  42nd International Conference on Micro and Nano Engineering, (MNE2016)
- 発表場所
  Congress Center, Vienna, Austria
- 年月日
  2016-09-20
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 走査電子顕微鏡内におけるフォギング電子の加速電圧変化2016
- 著者名/発表者名
  萩原佳史，野田　拓，小寺正敏，Raynald Gauvin
- 学会等名
  第77回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  朱鷺メッセ（新潟県新潟市）
- 年月日
  2016-09-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Dependence of the working distance and the applied bias on the surface potential distribution of insulating specimen irradiated by electron beam2016
- 著者名/発表者名
  Masashi Toukai, Takuya Kawamoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2016
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2016-04-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography2016
- 著者名/発表者名
  M. Yasuda, K. Tada and M. Kotera
- 学会等名
  33nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Makuhari Messe, Chiba, Japan
- 年月日
  2016-06-24
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K13978
[学会発表] Simulation of Three-dimensional Electron Charge distribution of PMMA film on Si substrate by electron beam irradiation2016
- 著者名/発表者名
  A. Fukuzawa and M. Kotera
- 学会等名
  The 23rd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2016-04-07
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Development of a Simulation of Fogging Electron Trajectories in a Scanning Electron Microscope2016
- 著者名/発表者名
  Taiki Nishino, Kazumasa Terada, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, (MNC2016)
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2016-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Simulation of Three-dimensional Electron Charge distribution of PMMA film on Si substrate by electron beam irradiation2016
- 著者名/発表者名
  Akihiro Fukuzawa, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Photomask Japan 2016
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2016-04-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 走査電子顕微鏡内のフォギング電流測定2016
- 著者名/発表者名
  野田　拓，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会　「SEMの物理学」分科会討論会
- 発表場所
  鞆シーサイドホテル（広島県福山市）
- 年月日
  2016-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] EB照射後の絶縁体試料表面電位のワーキングディスタンスと印加バイアス依存性2016
- 著者名/発表者名
  東海昌司，河本拓也，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第72回学術講演会
- 発表場所
  仙台国際センター（宮城県仙台市）
- 年月日
  2016-06-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 走査電子顕微鏡内のフォギング電子軌道のシミュレーション2016
- 著者名/発表者名
  西野大輝，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会　「SEMの物理学」分科会討論会
- 発表場所
  鞆シーサイドホテル（広島県福山市）
- 年月日
  2016-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of fogging electron current in scanning electron microscope2016
- 著者名/発表者名
  Yoshifumi Hagiwara, Taku Noda, Masatoshi Kotera, Raynald Gauvin
- 学会等名
  11th Asia-Pacific Microscopy Conference, (APMC11)
- 発表場所
  Graceland, Phuket, Thailand
- 年月日
  2016-05-25
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of Fogging Electron Current at a Specimen Surface in Scanning Electron Microscope2016
- 著者名/発表者名
  Taku Noda, Yoshifumi Hagiwara, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, (MNC2016)
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2016-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 走査電子顕微鏡内のフォギング電子軌道のシミュレーション2016
- 著者名/発表者名
  西野大輝，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第59回シンポジウム
- 発表場所
  帝京平成大学池袋キャンパス（東京都豊島区）
- 年月日
  2016-11-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Dependence of the working distance and the applied bias on the surface potential distribution of insulating specimen irradiated by electron beam2016
- 著者名/発表者名
  M. Toukai, T. Kawamoto and M. Kotera
- 学会等名
  The 23rd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2016-04-07
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography2016
- 著者名/発表者名
  M. Yasuda, K. Tada and M. Kotera
- 学会等名
  33rd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Makuhari Messe, Chiba, Japan
- 年月日
  2016-06-24
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 電子ビーム照射による試料表面電位と電荷蓄積のシミュレーション2016
- 著者名/発表者名
  福澤諒大，小寺正敏
- 学会等名
  第77回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  朱鷺メッセ（新潟県新潟市）
- 年月日
  2016-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Dependence of the working distance and the applied bias on the surface potential distribution of insulating specimen irradiated by electron beam2016
- 著者名/発表者名
  Takuya Kawamoto, Masashi Tokai, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  11th Asia-Pacific Microscopy Conference, (APMC11)
- 発表場所
  Graceland, Phuket, Thailand
- 年月日
  2016-05-25
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 電子ビーム照射された絶縁体試料表面電位分布のワーキングディスタンスと印加バイアス依存性2016
- 著者名/発表者名
  東海昌司，河本拓也，小寺正敏
- 学会等名
  第77回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  朱鷺メッセ（新潟県新潟市）
- 年月日
  2016-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Dependence of fogging electron current on the collection field2016
- 著者名/発表者名
  Yoshifumi Hagiwara, Taku Noda, Masatoshi Kotera, Raynald Gauvin
- 学会等名
  42nd International Conference on Micro and Nano Engineering, (MNE2016)
- 発表場所
  Congress Center, Vienna, Austria
- 年月日
  2016-09-20
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 電子ビーム照射による試料表面電位と電荷蓄積のシミュレーション2016
- 著者名/発表者名
  福澤諒大，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会　「SEMの物理学」分科会討論会
- 発表場所
  鞆シーサイドホテル（広島県福山市）
- 年月日
  2016-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Simulation of Charging Process of PMMA Film on Si Substrate under Electron Beam Irradiation2016
- 著者名/発表者名
  Akihiro Fukuzawa, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, (MNC2016)
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2016-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Development of trajectory simulation of fogging electrons in a vacuum specimen chamber2016
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Terada1, Taiki Nishino, Taku Noda, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  11th Asia-Pacific Microscopy Conference, (APMC11)
- 発表場所
  Graceland, Phuket, Thailand
- 年月日
  2016-05-25
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Measurement of fogging electrons in scanning electron microscope2016
- 著者名/発表者名
  Y. Hagiwara, T. Noda, M. Kotera and R. Gauvin
- 学会等名
  The 23rd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2016-04-07
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Development of trajectory simulation of fogging electrons in a vacuum specimen chamber2016
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Terada1, Taiki Nishino, Taku Noda, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  42nd International Conference on Micro and Nano Engineering, (MNE2016)
- 発表場所
  Congress Center, Vienna, Austria
- 年月日
  2016-09-20
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 走査電子顕微鏡内のフォギング電子電流の測定2016
- 著者名/発表者名
  野田拓，萩原佳史，小寺正敏，Raynald Gauvin
- 学会等名
  第63回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東京工業大学（東京都目黒区）
- 年月日
  2016-03-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurement of fogging electrons in scanning electron microscope2016
- 著者名/発表者名
  Yoshifumi Hagiwara, Taku Noda, Masatoshi Kotera, Raynald Gauvin
- 学会等名
  Photomask Japan 2016
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2016-04-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] 電子ビーム照射された絶縁体試料表面電位分布のワーキングディスタンスと印加バイアス依存性2016
- 著者名/発表者名
  東海昌司，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会　「SEMの物理学」分科会討論会
- 発表場所
  鞆シーサイドホテル（広島県福山市）
- 年月日
  2016-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Surface Potential Distribution of a Resist Film Irradiated by Electron Beam under Acceleration Bias2016
- 著者名/発表者名
  Masashi Toukai, Takuya Kawamoto, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, (MNC2016)
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2016-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06324
[学会発表] Simulation of Time-Dependent Charging of PMMA Film on Si Substrate under Electron Beam Irradiation2015
- 著者名/発表者名
  A. Fukuzawa, M. Tokai, K. Terada and M. Kotera
- 学会等名
  10th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15
- 発表場所
  Kunibiki Messe, Matsue, Japan
- 年月日
  2015-10-27
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 電子ビーム照射による絶縁体薄膜帯電のバイアス電圧依存性2015
- 著者名/発表者名
  東海昌司，半田勇希，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第71回学術講演会
- 発表場所
  京都国際会館、京都
- 年月日
  2015-05-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Dependence of charging of insulator film by electron beam irradiation on the bias-voltage2015
- 著者名/発表者名
  Y. Handa, M. Toukai and M. Kotera
- 学会等名
  The 22nd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2015-04-21
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Simulation of charging process of PMMA film on Si substrate under electron beam irradiation2015
- 著者名/発表者名
  A. Fukuzawa, K. Terada and M. Kotera
- 学会等名
  28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Toyama International Conference Center, Toyama, Japan
- 年月日
  2015-11-12
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Dependence of charging of insulator film by electron beam irradiation on the bias-voltage2015
- 著者名/発表者名
  M. Tokai, Y. Handa and M. Kotera
- 学会等名
  31st European Conference on Surface Science
- 発表場所
  International Convention Center of Barcelona, Barcelona, Spain
- 年月日
  2015-08-31
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 電子ビーム露光によるフォギング電子のバイアス電圧依存性2015
- 著者名/発表者名
  東海昌司，半田勇希，河本拓也，小寺正敏
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場、名古屋
- 年月日
  2015-09-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurement of fogging electron current at a specimen surface in scanning electron microscope2015
- 著者名/発表者名
  T. Noda, M. Toukai, M. Kotera and R. Gauvin
- 学会等名
  The 22nd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2015-04-21
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子軌跡のシミュレーション2015
- 著者名/発表者名
  西野大輝，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第71回学術講演会
- 発表場所
  京都国際会館、京都
- 年月日
  2015-05-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Simulation of charging process of PMMA film on Si substrate under electron beam irradiation2015
- 著者名/発表者名
  A. Fukuzawa and M. Kotera
- 学会等名
  31st European Conference on Surface Science
- 発表場所
  International Convention Center of Barcelona, Barcelona, Spain
- 年月日
  2015-08-31
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 電子ビーム照射による試料表面電位形成過程のシミュレーション2015
- 著者名/発表者名
  福澤諒大，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第71回学術講演会
- 発表場所
  京都国際会館、京都
- 年月日
  2015-05-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 電子ビーム照射による試料表面電位形成過程のシミュレーション2015
- 著者名/発表者名
  福澤諒大，小寺正敏
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場、名古屋
- 年月日
  2015-09-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子軌跡のシミュレーション2015
- 著者名/発表者名
  西野大輝，小寺正敏
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場、名古屋
- 年月日
  2015-09-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Dependence of charging of insulator film by electron beam irradiation on the bias-voltage2015
- 著者名/発表者名
  Y. Handa, M. Toukai, T. Kawamoto and M. Kotera
- 学会等名
  28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Toyama International Conference Center, Toyama, Japan
- 年月日
  2015-11-12
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Simulation of fogging electron trajectories in Scanning Electron Microscope2015
- 著者名/発表者名
  T. Nishino and M. Kotera
- 学会等名
  31st European Conference on Surface Science
- 発表場所
  International Convention Center of Barcelona, Barcelona, Spain
- 年月日
  2015-08-31
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Surface Potential Distribution of Insulating Film on a Conductive Substrate Irradiated by Electron Beam with an Application of the Bias-Voltage (Student Award受賞)2015
- 著者名/発表者名
  Y. Handa, M. Tokai, T. Kawamoto and M. Kotera
- 学会等名
  10th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15
- 発表場所
  Kunibiki Messe, Matsue, Japan
- 年月日
  2015-10-27
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 試料表面のフォギング電子電流のバイアス電圧依存性2015
- 著者名/発表者名
  野田拓，萩原佳史，小寺正敏，Raynald Gauvin
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場、名古屋
- 年月日
  2015-09-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Dependence of fogging electron current at a specimen surface on the bias-voltage2015
- 著者名/発表者名
  T. Noda, Y. Hagiwara, M. Kotera and R. Gauvin
- 学会等名
  31st European Conference on Surface Science
- 発表場所
  International Convention Center of Barcelona, Barcelona, Spain
- 年月日
  2015-08-31
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Simulation of Fogging Electron Trajectories in Scanning Electron Microscope and Its Comparison with Experiment2015
- 著者名/発表者名
  T. Nishino, T. Noda and M. Kotera
- 学会等名
  10th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15
- 発表場所
  Kunibiki Messe, Matsue, Japan
- 年月日
  2015-10-27
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurement and simulation of electric potential distribution at an insulator surface irradiated by electron beam2015
- 著者名/発表者名
  M. Kotera
- 学会等名
  Electron Beam Scattering Simulation Workshop
- 発表場所
  Aranvert Hotel Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2015-11-09
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 電子ビーム照射による絶縁体薄膜帯電のバイアス電圧依存性2015
- 著者名/発表者名
  半田勇希，東海昌司，小寺正敏
- 学会等名
  第62回応用物理学会関係連合講演会
- 発表場所
  東海大学、神奈川県、平塚
- 年月日
  2015-03-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Electron beam current dependence on a surface potential distribution at a resist film on a conductive substrate2014
- 著者名/発表者名
  K. Kumagai, S. Hosoi, Y. Handa, M. Kotera
- 学会等名
  21st Symposium on Photomask and NGL Mask Technology
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2014-04-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Electron beam irradiation time dependence on a surface potential distribution at a resist film on a conductive substrate2014
- 著者名/発表者名
  K. Kumagai, Y. Handa, S. Hosoi, M. Kotera
- 学会等名
  40th Int. Conf. on Micro- and Nano-Engineering 2014
- 発表場所
  Lausanne, Switzerland
- 年月日
  2014-09-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 対物レンズへの炭素板設置による走査電子顕微鏡内多重反射電子の低減2014
- 著者名/発表者名
  半田勇希，熊谷健太朗，細井創介，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第70回学術講演会
- 発表場所
  幕張メッセ、千葉県、幕張
- 年月日
  2014-05-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡内の絶縁体薄膜表面電位分布のビーム電流依存性2014
- 著者名/発表者名
  熊谷健太朗，半田勇希，細井創介，小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第70回学術講演会
- 発表場所
  幕張メッセ、千葉県、幕張
- 年月日
  2014-05-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子シミュレーション2014
- 著者名/発表者名
  細井創介，熊谷健太朗，半田勇希，小寺正敏
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学、北海道、札幌
- 年月日
  2014-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Reduction of multiple backscattering events of electrons by attaching a graphite plate to the objective lens in a scanning electron microscope2014
- 著者名/発表者名
  Y. Handa, K. Kumagai, S. Hosoi, M. Kotera
- 学会等名
  40th Int. Conf. on Micro- and Nano-Engineering 2014
- 発表場所
  Lausanne, Switzerland
- 年月日
  2014-09-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 絶縁体薄膜表面電位分布の電子ビーム露光時間依存性2014
- 著者名/発表者名
  熊谷健太朗，細井創介，半田勇希，小寺正敏
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学、北海道、札幌
- 年月日
  2014-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Reduction of multiple re-backscattered electrons in scanning electron microscope by attaching a graphite plate to objective lens2014
- 著者名/発表者名
  Y. Handa, K. Kumagai, S. Hosoi, M. Kotera
- 学会等名
  21st Symposium on Photomask and NGL Mask Technology
- 発表場所
  Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan
- 年月日
  2014-04-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Simulation of fogging electrons in a scanning electron microscope2014
- 著者名/発表者名
  S. Hosoi, K. Kumagai, Y. Handa, M. Kotera
- 学会等名
  40th Int. Conf. on Micro- and Nano-Engineering 2014
- 発表場所
  Lausanne, Switzerland
- 年月日
  2014-09-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における電子ビーム照射による絶縁体薄膜表面電位分布の測定2013
- 著者名/発表者名
  大谷優,長田明,小原康寛,熊谷健太朗,小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- 年月日
  2013-03-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 電子ビーム照射を受けた絶縁体薄膜の放電特性2013
- 著者名/発表者名
  熊谷健太朗,大谷優,小原康寛,小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- 年月日
  2013-03-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子電流の測定とシミュレーション(III)2013
- 著者名/発表者名
  小原康寛,大谷優,長田明,小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- 年月日
  2013-03-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 絶縁物試料の表面電位計測と理論解析2012
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会SEMの物理科学研究部会講演会
- 発表場所
  常翔学園大阪センター
- 年月日
  2012-11-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内フォギング電子が形成する絶縁体薄膜表面電位分布の測定2012
- 著者名/発表者名
  大谷優,長田明,小原康寛,小寺正敏
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Electron Beam Current Dependence of Surface Potential Distribution at a Resist Film2012
- 著者名/発表者名
  Akira Osada, Masaru Otani, KentaroKumagai and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  2012 International Microprocesses andNanotechnology Conference
- 発表場所
  神戸メリケンパークオリエンタルホテル
- 年月日
  2012-11-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内フォギング電子が形成する絶縁体薄膜表面電位分布の測定2012
- 著者名/発表者名
  大谷優、小寺正敏
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学(東京)
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of Surface Potential Distribution at an Insulating Film Produced by Fogging Electrons in a Scanning Electron Microscope2012
- 著者名/発表者名
  Masaru Otani, Akira Osada, YasuhiroOhara and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  The 56th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication2012,(EIPBN 2012)
- 発表場所
  Hilton WaikoloaVillage Resort in Waikoloa, Hawaii, USA
- 年月日
  2012-05-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子電流の測定とシミュレーション2012
- 著者名/発表者名
  小原康寛、小寺正敏
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学(東京)
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子電流の測定とシミュレーション2012
- 著者名/発表者名
  小原康寛,大谷優,長田明,小寺正敏
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内フォギング電子が形成する絶縁体薄膜表面電位分布の測定22012
- 著者名/発表者名
  大谷優,長田明,小原康寛,小寺正敏
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学
- 年月日
  2012-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Charging process simulation of a resist film on Si substrate under electron beam irradiation2012
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Akira Osada, MasaruOtani and Yasuhiro Ohara
- 学会等名
  The 56th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication2012,(EIPBN 2012)
- 発表場所
  Hilton WaikoloaVillage Resort in Waikoloa, Hawaii, USA
- 年月日
  2012-05-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of fogging electron current in scanning electron microscope2012
- 著者名/発表者名
  Yasuhiro Ohara, Akira Osada, MasaruOtani and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  The 56th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication 2012,(EIPBN 2012)
- 発表場所
  Hilton Waikoloa Village Resort in Waikoloa, Hawaii, USA
- 年月日
  2012-05-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] モンテカルロ法と帯電解析への応用2012
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会SEMの物理科学研究部会合宿討論会
- 発表場所
  山梨山中湖ジュラク荘
- 年月日
  2012-10-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内の絶縁体薄膜表面電位分布のビーム電流依存性2012
- 著者名/発表者名
  長田明、小寺正敏
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学(東京)
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内の絶縁体薄膜表面電位分布のビーム電流依存性2012
- 著者名/発表者名
  長田明,大谷優,小原康寛,小寺正敏
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子電流の測定とシミュレーション(II)2012
- 著者名/発表者名
  小原康寛,大谷優,長田明,小寺正敏
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学
- 年月日
  2012-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of Surface Potential of Insulating Film on Conductive Substrate in a Scanning Electron Microscope2011
- 著者名/発表者名
  M.Kotera
- 学会等名
  55th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
- 発表場所
  Las Vegas, USA
- 年月日
  2011-06-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of Surface Potential of Insulating Film on Conductive Substrate in a Scanning Electron Microscope2011
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Akira Osada, TakeshiKawamura and Kazuhito Arita
- 学会等名
  55th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN 2011)
- 発表場所
  JW Marriott Resort Las Vegas, USA
- 年月日
  2011-06-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of surface potential distribution of a resist film irradiated by electron beam2011
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Akira Osada, MasaruOtani and Yasuhiro Ohara
- 学会等名
  37th International Conference on Micro & Nano Engineering (MNE 2011)
- 発表場所
  The bcc Berliner Congress Center Berlin, Germany
- 年月日
  2011-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of surface potential distribution of resist irradiated by fogging electrons2011
- 著者名/発表者名
  A.Osada, M.Kotera
- 学会等名
  2011 International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  ANA Hotel Kyoto (Kyoto)
- 年月日
  2011-10-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における絶縁体薄膜の表面電位分布測定2011
- 著者名/発表者名
  長田明、小寺正敏
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学(山形)
- 年月日
  2011-08-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of surface potential of a resist film irradiated by electron beam2011
- 著者名/発表者名
  M.Kotera
- 学会等名
  37th International Conference on Micro & Nano Engineering
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2011-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Charging process simulation of a resist film on Si substrate by electron beam irradiation2011
- 著者名/発表者名
  Akira Osada, Masatoshi Kotera, MasaruOtani and Yasuhiro Ohara
- 学会等名
  37th International Conference on Micro & Nano Engineering (MNE 2011)
- 発表場所
  The bcc Berliner Congress Center Berlin, Germany
- 年月日
  2011-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 静電気力顕微鏡法による走査電子顕微鏡内の試料帯電の計測2011
- 著者名/発表者名
  小寺正敏、長田明、大谷優、小原康寛
- 学会等名
  NGL2011
- 発表場所
  東京工業大学
- 年月日
  2011-07-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における絶縁体薄膜の表面電位測定2011
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  第58回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学(神奈川県)
- 年月日
  2011-03-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Charging process simulation of a resist film on Si substrate by electron beam irradiation2011
- 著者名/発表者名
  A.Osada, M.Kotera
- 学会等名
  37th International Conference on Micro & Nano Engineering
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2011-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における絶縁体薄膜の表面電位分布測定2011
- 著者名/発表者名
  長田明、小寺正敏
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学
- 年月日
  2011-08-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 静電気力顕微鏡法による走査電子顕微鏡内の試料帯電の計測2011
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  NGLワークショップ2011
- 発表場所
  東京工業大学(東京)
- 年月日
  2011-07-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における絶縁体薄膜の表面電位分布測定2011
- 著者名/発表者名
  長田明、小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第67回学術講演会
- 発表場所
  福岡国際会議場
- 年月日
  2011-05-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of surface potential distribution of resist irradiated by fogging electrons2011
- 著者名/発表者名
  Akira Osada, Masaru Otani, YasuhiroOhara and Masatoshi Kotera
- 学会等名
  2011 International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  京都全日空ホテル
- 年月日
  2011-10-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における絶縁体薄膜の表面電位分布測定2011
- 著者名/発表者名
  長田明、小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会第67回学術講演会
- 発表場所
  福岡国際会議場(福岡)
- 年月日
  2011-05-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 電子ビーム照射に伴う絶縁体帯電現象解析のためのシミュレーション高速化2010
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学(長崎県)
- 年月日
  2010-09-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 電子ビーム照射に伴う絶縁体帯電現象解析のためのシミュレーション高速化2010
- 著者名/発表者名
  小寺正敏、長田明
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- 年月日
  2010-09-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of a surface potential of insulating materials in a scanning electron microscope2010
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera
- 学会等名
  第23回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議(MNC2010)
- 発表場所
  小倉(福岡県)
- 年月日
  2010-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Surface potential measurement of insulating materials in a scanning electron microscope2010
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera
- 学会等名
  36^<th> International Conference on Micro & Nano Engineering (MNE2010)
- 発表場所
  Genoa (Italy)
- 年月日
  2010-09-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Surface potential measurement of insulating materials in a scanning electron microscope2010
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Akira Osada, Takeshi Kawamura and Kazuhito Arita
- 学会等名
  36th International Conference on Micro & Nano Engineering (MNE 2010)
- 発表場所
  Magazzini del Cotone Genoa, Italy
- 年月日
  2010-09-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Measurement of a surface potential of insulating materials in a scanning electron microscope2010
- 著者名/発表者名
  Akira Osada, Masatoshi Kotera, Takeshi Kawamura and Kazuhito Arita
- 学会等名
  2010 International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  リーガロイヤルホテル小倉
- 年月日
  2010-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 電子ビーム照射を受けた導電性基板上絶縁体薄膜の二次元電位分布測定
- 著者名/発表者名
  熊谷健太朗，細井創介，大谷優，小寺正敏
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  京都府、京田辺
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurements of surface potential distribution at FEP resist film on a conductive substrate irradiated by electron beam
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kumagai, Msasaru Otani, Sosuke Hosoi, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscopy Conference 2013
- 発表場所
  Regensburg, Germany
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Surface potential distribution of a resist film irradiated by electron beam
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kumagai, Msasaru Otani, Sosuke Hosoi, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  2013 Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurement of Surface Potential Distribution at Resist Film on Conductive Substrate Irradiated by Electron Beam
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kumagai, Sosuke Hosoi, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  9th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’13
- 発表場所
  Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 対物レンズへの炭素板設置による走査電子顕微鏡内多重後方散乱電子の低減
- 著者名/発表者名
  半田勇希，熊谷健太朗，細井創介，小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学会関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川県、相模原
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子電流の測定とシミュレーション(III)
- 著者名/発表者名
  小原康寛，大谷　優，長田　明，小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学、神奈川
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における絶縁体薄膜の表面電位分布測定
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  ナノテスティング学会　電子線応用技術研究会
- 発表場所
  大阪府、吹田市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] モンテカルロ法と帯電解析への応用
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会 SEMの物理科学研究部会合宿討論会
- 発表場所
  日本電子山中湖保養所ジュラク荘、山梨
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内の絶縁体薄膜表面電位分布のビーム電流依存性
- 著者名/発表者名
  熊谷健太朗，半田勇希，細井創介，小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学会関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川県、相模原
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurement and simulation of fogging electron distribution in a scanning electron microscope
- 著者名/発表者名
  Sosuke Hosoi, Msasaru Otani, Kentaro Kumagai, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  2013 Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 絶縁物試料の表面電位計測と理論解析
- 著者名/発表者名
  小寺正敏
- 学会等名
  日本顕微鏡学会 SEMの物理科学研究部会講演会
- 発表場所
  常翔学園大阪センター、大阪
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡内フォギング電子が形成する絶縁体薄膜表面電位分布の測定2
- 著者名/発表者名
  大谷　優，長田　明，小原康寛，小寺正敏
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学、愛媛
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子軌跡のシミュレーション
- 著者名/発表者名
  細井創介，熊谷健太朗，小寺正敏
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  京都府、京田辺
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 電子ビーム照射を受けた絶縁体薄膜の放電特性
- 著者名/発表者名
  熊谷健太朗，大谷　優，小原康寛，小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学、神奈川
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Simulation of Charging Process of PMMA Film on Si Substrate under Electron Beam Irradiation
- 著者名/発表者名
  Sosuke Hosoi, Kentaro Kumagai, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  9th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’13
- 発表場所
  Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡内における電子ビーム照射による絶縁体薄膜表面電位分布の測定
- 著者名/発表者名
  大谷　優，長田　明，小原康寛，熊谷健太朗，小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学、神奈川
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026
[学会発表] Charging process simulation of PMMA film on Si substrate irradiated by electron beam
- 著者名/発表者名
  Masatoshi Kotera, Msasaru Otani, Sosuke Hosoi, Kentaro Kumagai
- 学会等名
  Microscopy Conference 2013
- 発表場所
  Regensburg, Germany
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] Measurement and simulation of fogging electrons in a scanning electron microscope
- 著者名/発表者名
  Sosuke Hosoi, Msasaru Otani, Kentaro Kumagai, Masatoshi Kotera
- 学会等名
  Microscopy Conference 2013
- 発表場所
  Regensburg, Germany
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 磁界を考慮した走査電子顕微鏡におけるフォギング電子シミュレーション
- 著者名/発表者名
  細井創介，熊谷健太朗，半田勇希，小寺正敏
- 学会等名
  第60回応用物理学会関係連合講演会
- 発表場所
  神奈川県、相模原
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249052
[学会発表] 走査電子顕微鏡におけるフォギング電子電流の測定とシミュレーション(II)
- 著者名/発表者名
  小原康寛，大谷　優，長田　明，小寺正敏
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学、愛媛
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560026

1. 安田雅昭 (30264807)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 2件
2. 菅博 (80079574)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
3. 多田和広 (90579731)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
4. 越智完好 (80079582)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 梅田亘赳 (30079579)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 西川治良 (00079568)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
7. 今井健蔵 (50079571)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 平井義彦 (50285300)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

小寺 正敏 KOTERA Masatoshi

研究課題

研究成果

共同研究者

電子ビームリソグラフィにおける無帯電露光条件の体系化研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

電子ビームリソグラフィにおける帯電の影響低減のための帯電現象のマルチスケール解析研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

スケール境界領域におけるパターン形成技術に関する理論的研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

電子線ナノプロセスのマルチフィジックスシミュレーション

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

電子ビーム照射による試料帯電の広範囲ナノメートル分解能・リアルタイム計測技術開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

超伝尊薄膜貫通磁束観察法の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

空気中試料観測用電子顕微鏡の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

静電型走査電子顕微鏡の製作研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

電子ビーム超音波立体顕微鏡に関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] 電子・イオンビーム ハンドブック第4版2021

著者名/発表者名

総ページ数

出版者

ISBN

データソース

[雑誌論文] Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Non-charging Conditions of Insulating Film under Electron Beam Irradiation2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] 電子ビーム照射を受けた導体上レジスト薄膜の帯電現象の解析2020

著者名/発表者名

小寺正敏 KOTERA Masatoshi

[図書] 電子・イオンビームハンドブック第4版2021