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伊藤 友幸  ITOH Tomoyuki

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 40203153
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1995年度: セイコーエプソン(株), アクティブデバイス研究室, 主任
1990年度 – 1994年度: 東京工業大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
電子・電気材料工学
研究代表者以外
電子・電気材料工学 / 電子材料工学
キーワード
研究代表者
フェライト / 鉄ケイ化物 / メッキ / 熱電材料
研究代表者以外
フェライト / めっき / Dielectric loss / NiZn ferrite / MnZn ferrite / Ferrite plating … もっと見る / Ferrite film / Millimeter wave / Microwave / 透磁率 / 誘電率 / メッキ / 誘電損失 / NiZnフェライト / MnZnフェライト / フェライトメッキ / フェライト薄膜 / ミリ波 / マイクロ波 / Maskless Patterning / Magnetism / Thin Film / Plating / Ferrite / レ-ザ-照射めっき / マスクレス・パタ-ンニング / マスクレス・パターニング / 磁性体 / 薄膜 / FeSi_2 / 熱電材料 / けい酸 / 微粒子分散膜 / 熱電能 隠す
  • 研究課題

    (5件)
  • 共同研究者

    (5人)
  •  湿式法による高温熱電発電用ケイ素化合物の微細構造制御と高効率化研究代表者

    • 研究代表者
      伊藤 友幸
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  新技術・レーザ励起フェライトメッキによるマイクロ波・ミリ波集積素子の試作

    • 研究代表者
      阿部 正紀
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1995
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  湿式法による高熱電能FeSi系酸化物膜の高速形成

    • 研究代表者
      阿部 正紀
    • 研究期間 (年度)
      1992
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  湿式法による高熱電能材料アモルファスFe(SiO)_2厚膜の高速形成

    • 研究代表者
      阿部 正紀
    • 研究期間 (年度)
      1991
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  光照射フェライトメッキによる新素子の作製

    • 研究代表者
      阿部 正紀
    • 研究期間 (年度)
      1990 – 1992
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  • 1.  阿部 正紀 (70016624)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  五味 学 (80126276)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  玉浦 裕 (00108185)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  川又 肇
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  乾 哲司
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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