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塚本 兼二  ツカモト ケンジ

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 40207345
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1989年度: 熊本大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者以外
高分子合成
キーワード
研究代表者以外
Electron-beam exposure characteristics / Electron-beam sensitivity / Dry etching resistance / Contrast / 2, 3-Epithiopropyl methacrylate / Electron-beam resist / 感度 / postーbake / preーbake / ガラス転移温度 … もっと見る / エピチオプロピルメタクリラ-ト) / ポリ(2、3 / 後硬化現像 / 2,3ーエピチオプロピルメタクリテ-ト / 2,3-エピチオプロピルメタクリラ-ト / 後硬化現象 / 感度曲線 / エッチング / 耐プラズマ性 / コントラスト / 2,3ーエピチオプロピルメタクリラ-ト / 電子線レジスト 隠す
  • 研究課題

    (1件)
  • 共同研究者

    (7人)
  •  新しい放射線レジストの開発

    • 研究代表者
      江川 博明
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1991
    • 研究種目
      試験研究
    • 研究分野
      高分子合成
    • 研究機関
      熊本大学
  • 1.  江川 博明 (50040358)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  野中 敬正 (50040423)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  小野 浩
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  東 広巳
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  江川 大海
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  EGAWA Hiromi
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  東 廣巳
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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