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青木 孝憲  アオキ タカノリ

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 40268280
その他のID
外部サイト
所属 (現在) 2025年度: 大阪産業大学, システム工学部, 講師
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2000年度 – 2001年度: 大阪産業大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
応用光学・量子光工学
キーワード
研究代表者
スパッタリング法 / ZnO / In2O3 / スプリットターゲット / パルスレーザー堆積法 / DVD-R / 酸化物積層構造 / 光記録膜
  • 研究課題

    (1件)
  •  次世代超高密度光記録膜用新規酸化物材料に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      青木 孝憲
    • 研究期間 (年度)
      2000 – 2001
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      応用光学・量子光工学
    • 研究機関
      大阪産業大学

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