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渡邉 純二  WATANABE Junji

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

渡邊 純二  ワタナベ ジュンジ

渡辺 純二  ワタナベ ジュンジ

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研究者番号 40281076
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2006年度 – 2008年度: 熊本大学, 大学院・自然科学研究科, 教授
2006年度: 熊本大学, 自然科学研究科, 教授
2002年度 – 2005年度: 熊本大学, 工学部, 教授
1999年度 – 2000年度: 熊本大学, 大学院・自然科学研究科, 教授
1998年度: 熊本大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
機械工作・生産工学 / 材料加工・処理
研究代表者以外
生産工学・加工学 / 薄膜・表面界面物性 / 機械工作・生産工学
キーワード
研究代表者
Surface roughness / X-ray photo spectroscopy / Diamond single crystal / Silicon carbide single crystal / GaAs semiconductor / Quartz plate / TiO_2 photocatalyst / Polishing machine with UV rays / FT-IR分析 / 分子動力学シミュレーション … もっと見る / 研磨加工 / 酸化膜 / SiC単結晶 / 紫外光線 / TiO_2固体光触媒 / 表面粗さ / XPS分析 / ダイヤモンド単結晶 / SiC単結晶基板 / GaAs基板 / 石英基板 / TiO2光触媒 / 紫外光照射研磨装置 / LARGE DIAMETER WAFER / THIN-SURFACE-GRINDING / COPPER METAL LINE / FINITE ELEMENT METHOD / CHEMICAL MECHANICAL POLISHING / PLANARIZATION POLISHING / VERY LARGE SCALE INTEGRATED SURFACE / SEMICONDUCTOR SUBSTRATE / 研削 / 研磨パッド / シート砥石 / 加工ひずみエネルギー / SG砥石 / 大口径ウエハ / 極表層研削 / Cu配線膜 / 有限要素法解析 / CMP / 平坦化研磨 / 超LSI / 半導体基板 … もっと見る
研究代表者以外
Zn_<1-x>Mg_xO / ZnO / GaN / light emitting diodes / attenua ted total reflection / oblique-incidence infrared reflection / surface polariton / hetero-reststrahlen band / 光学フォノン / サファイア基板 / Gan / シート電子密度 / 結晶品位 / 薄膜 / ZnMgO / 光ダイオード / 全反射減衰 / 斜入射赤外反射 / 表面ポラリトン / ヘテロ残留線 / Lithium niobate / Barium titanate substrate / Polishing / Lapping / Abrasive processing / Ultra thinning technology / Quartz substrate / Multifunctional device substrate / シリコンウェハ / 水晶振動子 / ニオブ酸リチウム / チタン酸バリウム / ポリシング / ラッピング / 砥粒加工 / 超薄型化加工 / 水晶基板 / 多機能デバイス基板 / ベーパーチャンバー / 薄刃砥石 / 微細溝加工 / 親水性(ぬれ性) / ヒートパイプ / CPU冷却 / 超硬メタルソー / ダイシングマシン / 新型熱拡散デバイス / ダイサー / 親水性 / 毛細管力 / メタルソー / 反り / 精密加工 / 薄型ヒートシンク / 放熱板 / マイクロ溝 / 導電性 / 超音波 / ディップ法 / 傷付け処理 / 基板前処理 / ダイヤモンド核生成密度 / ラマン分光 / 精密研磨技術 / 核生成密度 / シリコン基板 / 前処理技術 / プラズマCVD / 細線化 / CVDダイヤモンド膜 隠す
  • 研究課題

    (6件)
  • 研究成果

    (53件)
  • 共同研究者

    (10人)
  •  高性能超微細放熱フィンの精密加工技術の開発とフィンの応用展開

    • 研究代表者
      峠 睦
    • 研究期間 (年度)
      2007 – 2008
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      熊本大学
  •  導電性CVDダイヤモンド薄膜の微細線化技術の開発

    • 研究代表者
      峠 睦
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2006
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      熊本大学
  •  ヘテロ残留線反射と全反射減衰による,ワイドギャップ半導体堆積薄膜の結晶品位評価

    • 研究代表者
      黒田 規敬
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2006
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      熊本大学
  •  ナノグレード素子基板の理想表面形成技術の研究研究代表者

    • 研究代表者
      渡邉 純二 (渡辺 純二)
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2004
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      熊本大学
  •  多機能デバイス基板の超薄型化加工技術の研究開発

    • 研究代表者
      峠 睦
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      熊本大学
  •  大口径半導体基板の超精密平坦化加工(CMP)技術研究代表者

    • 研究代表者
      渡邉 純二
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 2000
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      材料加工・処理
    • 研究機関
      熊本大学

すべて 2007 2006 2005 2004 2003 2002

すべて 雑誌論文 学会発表 図書 産業財産権

  • [図書] CMPの実践的基礎技術(石井久男)2004

    • 著者名/発表者名
      渡邊 純二
    • 総ページ数
      86
    • 出版者
      EDリサーチ社
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [図書] CMPの実践的基礎技術2004

    • 著者名/発表者名
      渡邉 純二
    • 総ページ数
      86
    • 出版者
      EDリサーチ社 石井久男
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Infrared Study on Graded Lattice Quality in Thin GaN Crystals Grown on Sapphire2006

    • 著者名/発表者名
      N.Kuroda, T.Kitayama, Y.Nishi, K.Saiki, H.Yokoi, J.Watanabe, M.Cho, T.Egawa, H.Ishikawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. Vol.45 No.2A

      ページ: 646-650

    • NAID

      40007140203

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2006

    • 著者名/発表者名
      大久保誠史, 財部 剛, 竹下 温, 峠 睦, 渡邉純二
    • 雑誌名

      平成18年度精密工学会九州支部福岡地方講演会

      ページ: 403-404

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17656054
  • [雑誌論文] Takashi Egawa and Hiroyasu Ishikawa Infrared study on graded lattice quality in thin GaN crystals grown on sapphire2006

    • 著者名/発表者名
      Noritaka Kuroda, Takuya Kitayama, Yohei Nishi, Kazuya Saiki, Hiroyuki Yokoi, Junji Watanabe, Meoungwham Cho
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics vol.45-No.2A

      ページ: 646-650

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560024
  • [雑誌論文] 高品質パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2006

    • 著者名/発表者名
      竹下 温, 渡邉純二, 峠 睦, 財部 剛, 大久保誠史, 清田英夫
    • 雑誌名

      日本機械学会2006年度年次大会講演論文集 06-1

      ページ: 175-176

    • NAID

      130004657167

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17656054
  • [雑誌論文] Infrared Study on Graded Lattice Quality in Thin GaN Crystals Grown on Sapphire2006

    • 著者名/発表者名
      N.Kuroda, T.Kitayama, Y.Nishi, K.Saiki, H.Yokoi, J.Watanabe, M.Cho, T.Egawa, H.Ishikawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.45 No.2A

      ページ: 646-650

    • NAID

      40007140203

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 高品質ダイヤモンドCVD膜の精密加工と膜物性の評価2005

    • 著者名/発表者名
      竹下 温, 峠 睦, 渡邉純二, 大久保誠史, 清田英夫
    • 雑誌名

      第20回熊本県産学官技術交流会講演論文集

      ページ: 142-143

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17656054
  • [雑誌論文] Infrared characterization of GaN films grown on sapphire by MOCVD2005

    • 著者名/発表者名
      N.Kuroda, K.Saiki, Hasanudin, J.Watanabe, M.W.Cho
    • 雑誌名

      Proc. 27th International Conference on the Physics of Semiconductors, Part A

      ページ: 281-282

    • NAID

      120002468436

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560024
  • [雑誌論文] The atomic scale removal mechanism during chemomechanical polishing of Silicon : An atomic force microscopy study2005

    • 著者名/発表者名
      F.Katsuki, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Mater.Res.Soc.Symp.Proc. Vol.841

      ページ: 253-258

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Investigation of Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer by the Effect of a Photocatalyst2005

    • 著者名/発表者名
      S.H.Hong, H.Ishii, M.Touge, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Proceedings of the Eighth International Symposium on Advances in Abrasive Technology (発表予定)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] High precision chemical mechanical polishing of highly-boron-doped Si wafer used for epitaxial substrate2005

    • 著者名/発表者名
      J.Watanabe, G.Yu, O.Eryu, I.Koshiyama, K.Izumi, M.Umeno, K.Nakashima
    • 雑誌名

      Precision Engineering Vol.29 No.2

      ページ: 151-156

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 任意パターン形状のダイヤモンドCVD膜の形成技術2005

    • 著者名/発表者名
      大久保誠史, 渡邉純二, 峠 睦, 竹下 温
    • 雑誌名

      2005年度精密工学会九州支部鹿児島地方講演会講演論文集

      ページ: 107-108

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17656054
  • [雑誌論文] 高品質パターン形状ダイヤモンドCVD膜の形成技術2005

    • 著者名/発表者名
      竹下 温, 財部 剛, 峠 睦, 渡邉純二, 大久保誠史
    • 雑誌名

      2005年度精密工学会秋季大会学術講演会論文集

      ページ: 79-80

    • NAID

      130004657167

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17656054
  • [雑誌論文] Thinning Technology of Patterned Silicon Wafer for Micro Pressure Sensor2005

    • 著者名/発表者名
      T.Nagano, M.Touge, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Proceedings of the Eighth International Symposium on Advances in Abrasive Technology (発表予定)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] High precision chemical mechanical polishing of highly-boron-doped Si wafer used for epitaxial substrate2005

    • 著者名/発表者名
      J.Watanabe, G.Yu, O.Eryu, I.Koshiyama, K.Izumi, M.Umeno, K.Nakashima
    • 雑誌名

      Precision Engineering 29巻2号

      ページ: 151-156

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Investigation of Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer by the Effect of a Photocatalyst2005

    • 著者名/発表者名
      S.H.Hong, H.Ishii, M.Touge, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Proceedings of the Eighth International Symposium on Advances in Abrasive Technology

      ページ: 381-384

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] マウス体内埋め込み型マイクロセンサーの関する研究-第1報:マイクロセンサーの設計・製作と基礎特性評価-2004

    • 著者名/発表者名
      渡邉純二, 峠 睦, 長野智和, 岩田直也
    • 雑誌名

      2004年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集

      ページ: 459-459

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] SiC単結晶の固体触媒応用研磨技術の検討2004

    • 著者名/発表者名
      渡邉純二, 横峯和幸, 川向尚, 峠 睦, 黒田規敬, 江龍 修
    • 雑誌名

      2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集

      ページ: 69-70

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] マイクロ圧力センサー形成ウェハの薄片化技術2004

    • 著者名/発表者名
      長野智和, 伊東 岳, 峠 睦, 渡邉純二
    • 雑誌名

      2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集

      ページ: 469-470

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] 砥粒加工による誘電体基板の薄片化技術2004

    • 著者名/発表者名
      峠 睦, 藤井修治, 在川功一, 渡邉純二
    • 雑誌名

      2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集

      ページ: 63-64

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] エヤー浮上式精密ベルト研削による高精度加工面の形成 第2報:アルミナセラミックスの精密ベルト研削2004

    • 著者名/発表者名
      豊浦 茂, 峠 睦, 渡邉純二
    • 雑誌名

      砥粒加工学会誌 48巻・4号

      ページ: 220-224

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] エアー浮上式精密ベルト研削による高精度加工面の形成 第1報、第2報2004

    • 著者名/発表者名
      豊浦 茂, 峠 睦, 渡邉 純二
    • 雑誌名

      砥粒加工学会誌 47巻、5号 48巻、4号

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 長寿命パッドドレッサーの開発2004

    • 著者名/発表者名
      藤田 隆, 渡邉 純二
    • 雑誌名

      砥粒加工学会誌 48巻3号

      ページ: 147-152

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] ダイヤモンド単結晶の光照射研磨の可能性2004

    • 著者名/発表者名
      渡邉純二, 横峯和幸, 川向尚, 洪 錫享, 峠 睦
    • 雑誌名

      2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集

      ページ: 71-72

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 光化学反応を応用したGaAsの精密加工技術2004

    • 著者名/発表者名
      石井秀明, 渡邉純二, 峠 睦, 洪 錫亨
    • 雑誌名

      2004年度精密工学会秋季学術講演会講演論文集

      ページ: 659-660

    • NAID

      130004655684

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] SiC単結晶の光化学反応とその研磨2004

    • 著者名/発表者名
      横峯和幸, 渡邉純二, 峠 睦
    • 雑誌名

      2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集

      ページ: 67-68

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Formation of High Quality Surface by Air-floating Precision Belt Grinding -2nd report : Precision Belt Grinding for Alumina Ceramics2004

    • 著者名/発表者名
      Shigeru TOYOURA, Mutsumi TOUGE, Junji WATANABE
    • 雑誌名

      Journal of the Japan Society for Abrasive Technology Vol.48

      ページ: 220-224

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] Development of Ultra Thin Quartz by Abrasive Machining2004

    • 著者名/発表者名
      Mutsumi TOUGE, Junji WATANABE, Yoshifumi OHBUCHI, Hidetoshi SAKAMOTO, Noboru UEDA
    • 雑誌名

      Key Engineering Materials Vols.257-258

      ページ: 123-128

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] GaAs基板の光触媒研磨技術の検討2004

    • 著者名/発表者名
      洪 錫亨, 石井秀明, 渡邉純二, 峠 睦
    • 雑誌名

      2004年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集

      ページ: 73-74

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] シリコン基板の前処理技術とCVDダイヤモンド膜の特性の関係2004

    • 著者名/発表者名
      財部 剛, 清水正寛, 峠 睦, 渡邉純二
    • 雑誌名

      2004年度精密工学会秋季学術講演会講演論文集

      ページ: 633-634

    • NAID

      130004655669

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Development of Ultra Thin Quartz by Abrasive Machining2004

    • 著者名/発表者名
      M.Touge, J.Watanabe, Y.Ohbuchi, H.Sakamoto, N.Ueda
    • 雑誌名

      Key Engineering Materials 257-258

      ページ: 123-128

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] Development of Ultra Thin Quartz by Abrasive Machining2003

    • 著者名/発表者名
      M.Touge, J.Watanabe, Y.Ohbuchi, H.Sakamoto, N.Ueda
    • 雑誌名

      Proceedings of the Sixth International Symposium on Advances in Abrasive Technology

      ページ: 123-128

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Surface Treatment of Silicon Carbide Using TiO2(IV) Photocatalyst2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishikawa, Y.Matsumoto, Y.Nishida, S.Taniguchi, J.Watanabe
    • 雑誌名

      J. Am. Chem. Soc. 125巻、21号

      ページ: 6558-6562

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 超LSIプロセスにおける平坦化CMP技術と装置の開発(第2報)パッドドレッシング均一化技術の開発-2003

    • 著者名/発表者名
      藤田 隆, 渡邉 純二, 佐口 明彦
    • 雑誌名

      精密工学会誌 69巻、11号

      ページ: 1610-1614

    • NAID

      110001368363

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Infrared Attenuated Total Reflection by Chemomechanically Polished (0001) Surface of 6H-SiC2003

    • 著者名/発表者名
      N.Kuroda, Y.Iida, T.Shigeta, Hasanudin, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 42巻、10B

    • NAID

      10012450251

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] エアー浮上式精密ベルト研削による高精度加工面の形成 第1報、第2報2003

    • 著者名/発表者名
      豊浦 茂, 峠 睦, 渡邉 純二
    • 雑誌名

      砥粒加工学会誌 47巻、5号, 48巻、4号

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 超LSIプロセスにおける平坦化CMP技術と装置の開発2003

    • 著者名/発表者名
      渡邊純二, 藤田 隆, 稲村豊四郎, 別府敏保
    • 雑誌名

      精密工学会誌 69巻、2号

      ページ: 263-267

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 弾性定盤を用いたガラス磁気ディスク基板のポリシング特性2003

    • 著者名/発表者名
      峠 睦, 渡邉純二
    • 雑誌名

      精密工学会誌 69巻・10号

      ページ: 1469-1473

    • NAID

      110001373507

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] Polishing Characteristics of Glass Magnetic Disk Substrates Using Elastic Plates2003

    • 著者名/発表者名
      Mutsumi TOUGE, Junji WATANABE
    • 雑誌名

      Journal of the Japan Society for Precision Engineering Vol.69

      ページ: 1469-1473

    • NAID

      110001373507

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14350074
  • [雑誌論文] Infrared Attenuated Total Reflection by Chemomechanically Polished (0001) Surface of 6H-SiC2003

    • 著者名/発表者名
      N.Kuroda, Y.Iida, T.Shigeta, Hasanudin, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.42 10B

    • NAID

      10012450251

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Effect of Pre-Thin-Surface Grinding on Copper Chemical Mechanical Polishing2003

    • 著者名/発表者名
      J.Watanabe, T.Hisamatsu, M.Hirano
    • 雑誌名

      Proceedings of the Sixth International Symposium on Advances in Abrasive Technology

      ページ: 407-412

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Surface Treatment of Silicon Carbide Using TiO2(IV) Photocatalyst2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishikawa, Y.Matsumoto, Y.Nishida, S.Taniguchi, J.Watanabe
    • 雑誌名

      J.Am.Chem.Soc. Vol.125, No.21

      ページ: 6558-6562

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] The Atomic-Scale Removal Mechanism during Si Tip Scratching on Si and SiO2 Surfaces in Aqueous KOH with an Atomic Force Microscope2002

    • 著者名/発表者名
      F.Katsuki, A.Saguchi, W.Takahashi, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.41, Part1, No.7B

      ページ: 4919-4923

    • NAID

      210000051818

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] 加工表面の分析評価に基づいたSiC半導体の加工メカニズムの研究2002

    • 著者名/発表者名
      渡邉純二, 黒田規敬, 藤本誠, 江龍修
    • 雑誌名

      2002年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集

      ページ: 140-140

    • NAID

      130007001948

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] High Removal Rate Polishing of Glass Substrate Using Epoxy Resin Plate2002

    • 著者名/発表者名
      M.TOUGE, J.WATANABE, H.SAKAMOTO, H.WAN, T.MURAKAMI
    • 雑誌名

      Proceeding of 6th International Conference on Progress of Machining Technology (ICPMT'2002)

      ページ: 357-362

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] Evaluation of Surfaces of Single SiC Crystal Polished with Various Kinds of Particles2002

    • 著者名/発表者名
      J.Watanabe, M.Fujimoto, Y.Matsumoto, N.Kuroda, O.Eryu
    • 雑誌名

      Proceedings of the Fifth International Symposium on Advances in Abrasive Technology

      ページ: 175-180

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [雑誌論文] The Atomic-Scale Removal Mechanism during Si Tip Scratching on Si and SiO2 Surfaces in Aqueous KOH with an Atomic Force Microscope2002

    • 著者名/発表者名
      F.Katsuki, A.Saguchi, W.Takahashi, J.Watanabe
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 41, Part 1, No. 7B

      ページ: 4919-4923

    • NAID

      210000051818

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [産業財産権] 半導体基板の超精密研磨装置2005

    • 発明者名
      渡邉 純二, 横峯 和幸, 石井 秀明
    • 権利者名
      熊本大学
    • 産業財産権番号
      2005-041950
    • 出願年月日
      2005-02-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [産業財産権] 半導体基板の超精密研磨装置2005

    • 発明者名
      渡邉純二, 横峯和幸, 石井秀明
    • 権利者名
      熊本大学
    • 産業財産権番号
      2005-041950
    • 出願年月日
      2005-02-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [産業財産権] 研削装置および研削方法2004

    • 発明者名
      渡邊 純二
    • 権利者名
      財・熊本テクノ産業財団
    • 産業財産権番号
      2004-165577
    • 出願年月日
      2004-06-03
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [産業財産権] 研削装置および研削方法2004

    • 発明者名
      渡邉 純二
    • 権利者名
      財・熊本テクノ産業財団
    • 産業財産権番号
      2004-165577
    • 出願年月日
      2004-06-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-14205026
  • [学会発表] 新型熱輸送デバイス用マイクロ溝の精密加工技術の開発2007

    • 著者名/発表者名
      古賀昭信, 峠睦, 渡邉純二, 小糸康志, 久保田豊
    • 学会等名
      日本機械学会九州支部沖縄講演会
    • 発表場所
      琉球大学工学部
    • 年月日
      2007-10-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560119
  • 1.  峠 睦 (00107731)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 28件
  • 2.  坂本 英俊 (10153917)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 2件
  • 3.  大渕 慶史 (10176993)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 3件
  • 4.  黒田 規敬 (40005963)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 9件
  • 5.  稲村 豊四郎 (60107539)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  松本 泰道 (80114172)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 3件
  • 7.  島田 尚一 (20029317)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  江龍 修 (10223679)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 5件
  • 9.  上田 昇 (10040437)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 2件
  • 10.  横井 裕之 (50358305)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件

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