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嶋田 一義  シマダ カズヨシ

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 40308200
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1999年度 – 2000年度: 早稲田大学, 理工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者以外
表面界面物性
キーワード
研究代表者以外
Defect / Senjcondictor surface / Seaming timeling-microscope / Surface modification / Ion irradiation / Silicon / ナノ改質 / アルゴンイオン / 欠陥 / 半導体表面 … もっと見る / 走査トンネル顕微鏡 / 表面改質 / イオン照射 / シリコン 隠す
  • 研究課題

    (1件)
  • 共同研究者

    (2人)
  •  ナノスケール表面改質のためのイオン照射下高温STM観察

    • 研究代表者
      大泊 巌
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      早稲田大学
  • 1.  大泊 巌 (30063720)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  品田 賢宏 (30329099)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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