羽深等 Habuka Hitoshi

研究者番号	40323927
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2017年度 – 2019年度: 横浜国立大学, 大学院工学研究院, 教授 2014年度 – 2015年度: 横浜国立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 2010年度 – 2013年度: 横浜国立大学, 工学研究院, 教授 2012年度: 横浜国立大学, 大学院・工学研究院, 教授 2006年度 – 2007年度: 横浜国立大学, 工学研究院, 教授
審査区分/研究分野	研究代表者反応工学・プロセスシステム / 反応工学・プロセスシステム / 材料加工・組織制御工学 / 材料加工・処理
キーワード	研究代表者化学気相堆積 / 反応機構 / 副生成物 / 並列ラングミュア過程 / モノメチルシラン / 三塩化ホウ素 / ジクロロシラン / トリクロロシラン / シリコンエピタキシャル成長 / Molecular interaction … もっと見る / Rate constant / Desorption / Physisorption / Organic molecule / Quartz crystal microbalance / 分子間相互作用 / 速度定数 / 脱離 / 吸着 / 有機物分子 / 水晶振動子 / その場評価技術 / 圧電性結晶振動子 / 低温薄膜形成 / 表面活性化 / 炭化珪素 / 材料合成プロセス隠す

研究課題
(4件)
研究成果
(79件)

化学気相堆積速度の理論上限を超える主・副反応設計研究代表者
- 研究代表者
  
  羽深等
- 研究期間 (年度)
  2017 – 2019
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  反応工学・プロセスシステム
- 研究機関
  横浜国立大学
化学気相堆積法による薄膜形成関連現象全体像の描出研究代表者
- 研究代表者
  
  羽深等
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  材料加工・組織制御工学
- 研究機関
  横浜国立大学
固体表面化学結合制御による低温薄膜形成手法探索研究代表者
- 研究代表者
  
  羽深等
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  横浜国立大学
水晶振動子法と多成分系有機物吸着汚染モデルによる表面吸着分子間相互作用測定法研究研究代表者
- 研究代表者
  
  羽深等
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2007
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  反応工学・プロセスシステム
- 研究機関
  横浜国立大学

すべて 2020 2019 2018 2017 2016 2015 2014 2013 2012 2011 2010 2007 2006 その他

すべて雑誌論文学会発表図書

[図書] InTech,(Vienna, Austria)2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 出版者
  Properties andApplications of Silicon Carbide
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[図書] Silicon Carbide : New Materials, Production Methods and Applications2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 出版者
  Nova Science Publishers (Hauppauge NY USA)(印刷中につき不明)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[図書] Nova Science Publishers(Hauppauge NY USA)2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 出版者
  Silicon Carbide: New Materials, Production Methods and Applications
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[図書] Properties and Applications of Silicon Carbide2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 出版者
  In Tech, (Vienna, Austria)(印刷中につき不明)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Deposition and Etching Behaviour of Boron Trichloride Gas at Silicon Surface2020
- 著者名/発表者名
  Mitsuko Muroi, Ayami Yamada, Ayumi Saito, and Hitoshi Habuka
- 雑誌名
  
  , Journal of Crystal Growth
  
  巻: 529 ページ: 125301-125301
- DOI
  10.1016/j.jcrysgro.2019.125301
- NAID
  120006796059
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[雑誌論文] Silicon epitaxial growth accelerated by parallel Langmuir processes using SiH2Cl2 and SiH3CH3 gases2018
- 著者名/発表者名
  Yamada Ayami、Muroi Mitsuko、Watanabe Toru、Saito Ayumi、Sakurai Ayumi、Habuka Hitoshi
- 雑誌名
  
  Semiconductor Science and Technology
  
  巻: 33 号: 9 ページ: 094002-094002
- DOI
  10.1088/1361-6641/aad294
- NAID
  120006630613
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[雑誌論文] Parallel langmuir processes for silicon epitaxial growth in a SiHCl 3 -SiH x -H 2 system2017
- 著者名/発表者名
  Watanabe Toru、Yamada Ayami、Saito Ayumi、Sakurai Ayumi、Habuka Hitoshi
- 雑誌名
  
  Materials Science in Semiconductor Processing
  
  巻: 72 ページ: 134-138
- DOI
  10.1016/j.mssp.2017.09.034
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[雑誌論文] Increase in silicon film deposition rate in a SiHCl 3 -SiH x -H 2 system2017
- 著者名/発表者名
  Saito Ayumi、Sakurai Ayumi、Habuka Hitoshi
- 雑誌名
  
  Journal of Crystal Growth
  
  巻: 468 ページ: 204-207
- DOI
  10.1016/j.jcrysgro.2016.10.035
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[雑誌論文] In Situ Measurement for Evaluating Temperature Change Related to Silicon film Formation in a SiHCl3-H2 System2016
- 著者名/発表者名
  Kento Miyazaki, Ayumi Saito and Hitoshi Habuka
- 雑誌名
  
  ECS Journal of Solid State Science and Technology
  
  巻: 5 号: 2 ページ: P16-P20
- DOI
  10.1149/2.0101602jss
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[雑誌論文] In-situ Observation of Chemical Vapor Deposition Using SiHCl3 and BCl3 Gases2015
- 著者名/発表者名
  Ayumi Saito, Kento Miyazaki, Misako Matsui and Hitoshi Habuka
- 雑誌名
  
  Physica Status Solidi C
  
  巻: 12 号: 7 ページ: 953-957
- DOI
  10.1002/pssc.201510002
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[雑誌論文] In-Situ Monitoring of Chemical Vapor Deposition from Trichlorosilane Gas and Monomethylsilane Gas Using Langasite Crystal Microbalance2013
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka and Yurie Tanaka
- 雑誌名
  
  Journal of Surface Engineered Materials and Advanced Technology
  
  巻: 3 号: 01 ページ: 61-66
- DOI
  10.4236/jsemat.2013.31a009
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[雑誌論文] Langasite Crystal Microbalance Frequency Behavior over Wide Gas Phase Conditions for Chemical Vapor Deposition2013
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka and Misako Matsui
- 雑誌名
  
  Surface and Coatings Technology
  
  巻: 230 ページ: 312-315
- DOI
  10.1016/j.surfcoat.2013.06.052
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[雑誌論文] Amorphous Silicon Carbide Chemical Vapor Deposition on Metal Surface Using Monomethylsilane Gas at Low Temperatures2013
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka and Masaki Tsuji
- 雑誌名
  
  Surface and Coating Technology
  
  巻: 217 ページ: 88-93
- DOI
  10.1016/j.surfcoat.2012.11.078
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Amorphous Silicon Carbide Film Formation at Room Temperature by Monomethylsilane Gas2012
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka and Masaki Tsuji
- 雑誌名
  
  Materials Science Forum
  
  巻: 740-742巻ページ: 235-238
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/msf.740-742.235
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Yusuke Ando and Masaki Tsuji, Room Temperature Process for Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide Thin Film Using Monomethylsilane Gas2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 雑誌名
  
  Surface & Coatings Technology
  
  巻: 206巻号: 6 ページ: 1503-1506
- DOI
  10.1016/j.surfcoat.2011.09.037
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Mechanism of Silicon Carbide Film Deposition at Room Temperature Using Monomethylsilane Gas2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka and Yusuke Ando
- 雑誌名
  
  Journal of Electrochemical Society
  
  巻: 158巻
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Mechanism of Silicon Carbide Film Deposition at Room Temperature Using Monomethylsilane Gas2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Yusuke Ando
- 雑誌名
  
  J.Electrochem.Soc
  
  巻: 158
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Development of Reactive Surface Preparation for Room Temperature Silicon Carbide Film Deposition from Monomethylsilane Gas2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Ken-Ichi Kote
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 50
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Mechanism of Silicon Carbide Film Deposition at Room Temperature Using Monomethylsilane Gas2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Yusuke Ando
- 雑誌名
  
  Journal of Electrochemical Society
  
  巻: 158
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Low Temperature SiC Film Deposition Using Trichlorosilane Gas and Monomethylsilane Gas2011
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Yusuke Ando
- 雑誌名
  
  Journal of Nanoscience and Nanotechnology
  
  巻: 11 ページ: 8374-8377
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Silicon Carbide Film Deposition at Low Temperatures Using Monomethylsilane Gas2010
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka Hiroshi Ohmori and Yusuke Ando
- 雑誌名
  
  Surface and Coating Technology
  
  巻: 204巻
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] Silicon Carbide Film Deposition at Low Temperatures Using Monomethylsilane Gas2010
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka Hiroshi Ohmori, Yusuke Ando
- 雑誌名
  
  Surf.Coat.Tech
  
  巻: 204 ページ: 1432-1437
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[雑誌論文] In-Situ Measurement Method and Rate Theory for Clarifying Multi-Component Organic Compounds Adsorption and Desorption on Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka
- 雑誌名
  
  Electrochemical Society Transaction 11・3
  
  ページ: 363-374
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Physisorption and Desorption of Diethylphthalate and Isopropanol on a Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka
- 雑誌名
  
  Journal of the Electrochemical Society 154
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] 複数種類有機物のシリコン表面吸着脱離挙動2007
- 著者名/発表者名
  羽深等, 山屋大輔
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー 1月号
  
  ページ: 36-39
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] 複数種類有機物のシリコン表面吸着脱離挙動2007
- 著者名/発表者名
  羽深等
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー 17
  
  ページ: 36-39
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] In-Situ Measurement Method and Rate Theory for Clarifying Multi-Component Organic Compounds Adsorption and Desorption on Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka
- 雑誌名
  
  Electrochemical Society Transaction 11
  
  ページ: 363-374
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] シリコン表面における複数種有機物分子の吸着脱離挙動2007
- 著者名/発表者名
  羽深等
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー 17・10
  
  ページ: 1-5
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Physisorption and Desorption of Diethylphthalate and Isopropanol on a Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka, D. Yamaya
- 雑誌名
  
  Journal of the Electrochemical Society 154
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Physisorption and Desorption of Diethylphthalate and Isopropanol on a Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka
- 雑誌名
  
  Journal of the Electrochemical Society 154・12
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Tn-_Sit Measurement Metho Rate Theory for Clarifying Multi-Component Organic Compounds Adsorption and Desorption on Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka, D. Iramaya
- 雑誌名
  
  Electrrochemical SocietyTransaction 11
  
  ページ: 363-374
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Adsorption and Desorption of Multi-component Organic Compounds on Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka, D. Yamaya
- 雑誌名
  
  Clean Technology 17
  
  ページ: 36-39
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] シリコン表面における複数種有機物分子の吸着脱離挙動2007
- 著者名/発表者名
  羽深等
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー 17
  
  ページ: 1-5
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Influence of Gas Velocity and Humidity on Diethyl Phthalate Adsorption and Desorption on Silicon Surface2006
- 著者名/発表者名
  H. Habuka
- 雑誌名
  
  Electrochemical Society Transaction 2
  
  ページ: 523-536
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Influence of Gas Velocity and Humidity on Diethy1 Phthalate Adsorption and Desorption on Silicon Surface2006
- 著者名/発表者名
  H.Habuka, M.Tawada, K.Suzuki, T.Takeuchi, M.Aihara
- 雑誌名
  
  Electrochemical Society Transaction 2・2
  
  ページ: 523-536
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] シリコン表面有機物汚染における流速の影響2006
- 著者名/発表者名
  羽深等
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー 16
  
  ページ: 66-69
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Influence of Gas Velocity and Humidity on Diethyl Phthalate Adsorption and Desorption on Silicon Surface2006
- 著者名/発表者名
  H. Habuka, M. Tawada, K. Suzuki, T. Takeuchi, M. Aihara
- 雑誌名
  
  Electrochemical Society Transaction 2
  
  ページ: 523-536
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[雑誌論文] Influence of Gas Velocity on Organic Contamination on Silicon Surface2006
- 著者名/発表者名
  H. Habuka, M. Tawada, T. Takeuchi, M. Aihara
- 雑誌名
  
  Clean Technology 16
  
  ページ: 66-69
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] シリコン表面における三塩化ホウ素ガスの化学反応2019
- 著者名/発表者名
  室井光子, 山田彩未, 齋藤あゆ美, 羽深等
- 学会等名
  化学工学会横浜大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[学会発表] Boron trichloride gas behaviour for chemical vapour deposition and etching at silicon surface2019
- 著者名/発表者名
  Mitsuko Muroi, Ayumi Saito and Hitoshi Habuka
- 学会等名
  19th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-19)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[学会発表] シリコン表面における三塩化ホウ素ガスの化学反応2019
- 著者名/発表者名
  室井光子，山田彩未，齋藤あゆ美，羽深等
- 学会等名
  第80回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[学会発表] Silicon epitaxial growth rate accelerated by parallel langmuir processes2018
- 著者名/発表者名
  Ayami Yamada, Toru Watanabe, Ayumi Saito, Ayumi Sakurai and Hitoshi Habuka
- 学会等名
  The first joint conference of international SiGe technology and device meeting (ISTDM) and international conference on silicon epitaxy and heterostructures (ICSI)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[学会発表] SiH2Cl2-SiHx-H2系によるシリコン薄膜成長速度増大方法2018
- 著者名/発表者名
  室井光子,山田彩未,羽深等
- 学会等名
  第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[学会発表] SiHCl3-SiHx-H2系シリコンエピタキシャル成長の反応速度解析2017
- 著者名/発表者名
  入倉健太, 渡部亨、羽深等
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[学会発表] Silicon epitaxial growth rate increased by adding SiHx to a SiHCl3-H2 system2017
- 著者名/発表者名
  Toru Watanabe, Ayami Yamada, Ayumi Saito, Ayumi Sakurai, Hitoshi Habuka
- 学会等名
  Joint EuroCVD-BalticALD 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06904
[学会発表] CVD装置内熱挙動のランガサイト結晶振動子によるその場測定2015
- 著者名/発表者名
  宮崎賢都, 齋藤あゆ美,　松井美沙子,　羽深等
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋（名古屋国際会議場）
- 年月日
  2015-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] In-situ observation of chemical vapor deposition using SiHCl3 and BCl3 Gases2015
- 著者名/発表者名
  Ayumi Saito, Kento Miyazaki, Misako Matsui, and Hitoshi Habuka
- 学会等名
  EuroCVD20
- 発表場所
  Sempach, Switzerland
- 年月日
  2015-07-14
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] Hitoshi HabukaAtmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Observed by Langasite Crystal Microbalance2015
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 学会等名
  BIT’s 4th Annual World Congress of Advanced Materials-2015
- 発表場所
  Chongqing, China
- 年月日
  2015-05-28
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] ランガサイト結晶振動子を用いたその場測定によるSiHCl3-BCl3混合系化学気相堆積の観察2014
- 著者名/発表者名
  齋藤あゆ美, 宮崎賢都, 松井美沙子, 羽深等
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学、札幌
- 年月日
  2014-09-19
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] In-Situ Observation of Chemical vapor deposition Using Langasite Crystal Microbalance2014
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 学会等名
  Collaborative Conference on Crystal Growth 3CG 2014
- 発表場所
  Holyday Inn. Phuket, Thailand
- 年月日
  2014-11-03
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] Langasite Crystal Microbalance for In-Situ Monitor of Chemical Vapor Deposition2014
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka
- 学会等名
  IUMRS-ICA2014
- 発表場所
  福岡大学,福岡市
- 年月日
  2014-08-26
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] 炭化珪素薄膜の低温形成法(2)2012
- 著者名/発表者名
  津地雅希,羽深等
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学・松山大学
- 年月日
  2012-09-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] 炭化珪素薄膜の低温形成法2012
- 著者名/発表者名
  津地雅希,羽深等
- 学会等名
  2012年化学工学会横浜大会
- 発表場所
  横浜国立大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] Amorphous Silicon Carbide Film Formation at Room Temperature by Monomethylsilane Gas2012
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Masaki Tsuji and Yusuke Ando
- 学会等名
  The 9th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials
- 発表場所
  Saint Petersburg, Russia
- 年月日
  2012-09-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] シリコン中間層を用いた炭化珪素薄膜低温形成法2012
- 著者名/発表者名
  津地雅希,羽深等
- 学会等名
  第21回SiC研究会講演会
- 発表場所
  大阪市中央公会堂
- 年月日
  2012-11-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] Amorphous Silicon Carbide Thin Film Formation at Room Temperature Using Monomethylsilane Gas2012
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Masaki Tsuji and Yusuke Ando
- 学会等名
  Materials Research Society
- 発表場所
  San Francisco
- 年月日
  2012-04-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] 炭化珪素薄膜の室温形成法2011
- 著者名/発表者名
  津地雅希、安藤祐介、羽深等
- 学会等名
  第20回シリコンカーバイド(SiC)及び関連ワイドギャップ半導体研究会
- 発表場所
  名古屋
- 年月日
  2011-12-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] 炭化珪素薄膜の室温形成法2011
- 著者名/発表者名
  安藤裕介、津地雅希、羽深等
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学
- 年月日
  2011-08-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] 炭化珪素薄膜の室温形成法2011
- 著者名/発表者名
  津地雅希、安藤祐介、羽深, 等
- 学会等名
  第20回シリコンカーバイド(SiC)及び関連ワイドギャップ半導体研究会
- 発表場所
  名古屋
- 年月日
  2011-12-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] モノメチルシランガスを用いたSiC薄膜の低温堆積2010
- 著者名/発表者名
  安藤裕介、羽深, 等
- 学会等名
  2010年(平成22年)秋第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- 年月日
  2010-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] モノメチルシランガスを用いたSiC薄膜の低温堆積2010
- 著者名/発表者名
  安藤裕介、羽深等
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- 年月日
  2010-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] モノメチルシランガスによるSiC薄膜の低温堆積2010
- 著者名/発表者名
  安藤裕介、大森弘士、羽深等
- 学会等名
  第19回シリコンカーバイド(SiC)及び関連ワイドギャップ半導体研究会
- 発表場所
  つくば
- 年月日
  2010-10-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] Amount of Adsorbed Diethylphthalate and Isopropyl alcohol on Silicon Surface(2)2007
- 著者名/発表者名
  D, Yamaya, H, Habuka
- 学会等名
  The 54th Spring Meeting, 2006 of the Japan Society of Applied Physics
- 発表場所
  Tokyo, Japan
- 年月日
  2007-03-28
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] シリコン表面における有機物分子吸着脱離挙動のその場観察2007
- 著者名/発表者名
  羽深等
- 学会等名
  化学工学会秋季大会(2007)
- 発表場所
  札幌
- 年月日
  2007-09-15
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] Amount of Adsorbed Diethylphthalate and Isopropyl alcohol on Silicon Surface(3)2007
- 著者名/発表者名
  D, Yamaya, N, Kawahara, H, Habuka
- 学会等名
  The 68th Fall Meeting, 2007 of the Japan Society of Applied Physics
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- 年月日
  2007-09-08
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] シリコン表面における有機物分子吸着脱離挙動のその場観察2007
- 著者名/発表者名
  羽深等
- 学会等名
  化学工学会
- 発表場所
  北海道
- 年月日
  2007-09-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] In-Situ Observation of organic molecules adsorbed on Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  D, Yamaya, H, Habuka
- 学会等名
  Autumn Annual Meeting of the Society for Chemical Engineers Japan
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- 年月日
  2007-09-15
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] In-Situ Measurement Method and Rate Theory for Clarifying Multi-Component Organic Compounds Adsorption and Desorption on Silicon Surface2007
- 著者名/発表者名
  H. Habuka
- 学会等名
  Analytical and Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials, Devices, and Processes
- 発表場所
  Washington, USA
- 年月日
  2007-10-10
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] Adsorption and Desorption of Multi-component Organic Compounds on Silicon Surface2006
- 著者名/発表者名
  D, Yamaya, H, Habuka, T, Takeuchi, M, Aihara
- 学会等名
  The 67th Fall Meeting, 2006 of the Japan Society of Applied Physics
- 発表場所
  Shiga, Japan
- 年月日
  2006-08-29
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] Influence of Gas Velocity on Organic Contamination on Silicon Surface2006
- 著者名/発表者名
  H, Habuka, M, Tawada, T, Takeuchi, M, Aihara
- 学会等名
  Proceedings of 24th Annual Tech. Meeting on Air Cleaning and Contamination Control
- 発表場所
  Tokyo, Japan
- 年月日
  2006-04-14
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] Influence of Gas Velocity and Humidity on Diethyl Phthalate Adsorption and Desorption on Silicon Surface2006
- 著者名/発表者名
  H. Habuka
- 学会等名
  Silicon Materials Science and Technology X
- 発表場所
  Denver, USA
- 年月日
  2006-05-11
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] シリコン表面有機物汚染における気流流速の影響解析,2006
- 著者名/発表者名
  羽深等
- 学会等名
  第24回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会
- 発表場所
  東京
- 年月日
  2006-04-11
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560730
[学会発表] Langasite crystal microbalance frequency behavior over wide　gas phase conditions for chemical vapor deposition
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka* and Misako Matsui
- 学会等名
  EuroCVD19
- 発表場所
  Varna (Bulgaria)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] 炭化珪素薄膜の低温形成法(2)
- 著者名/発表者名
  津地雅希，羽深等
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学・松山大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] シリコン中間層を用いた炭化珪素薄膜低温形成法
- 著者名/発表者名
  津地雅希，羽深等
- 学会等名
  第21回SiC研究会講演会
- 発表場所
  大阪市中央公会堂
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] ランガサイト結晶振動子による化学気相堆積プロセス測定法(2)
- 著者名/発表者名
  松井美沙子, 羽深等
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学(京都府)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] Amorphous Silicon Carbide Thin Film Formation at Room Temperature Using Monomethylsilane Gas
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Masaki Tsuji, and Yusuke Ando
- 学会等名
  Materials Research Society
- 発表場所
  San Francisco, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560713
[学会発表] Method for Determining Chemical Vapor Deposition Occurrence Using Langasite Crystal Microbalance
- 著者名/発表者名
  Hitoshi Habuka, Misako Matsui and Ayumi Saito
- 学会等名
  17th International Conference of Crystal Growth and Epitaxy
- 発表場所
  Univ. Warsaw (Warsaw, Poland)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772
[学会発表] ランガサイト結晶振動子による化学気相堆積プロセス測定法(1)
- 著者名/発表者名
  松井美沙子, 齋藤あゆ美、羽深等
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学(京都府)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420772

羽深 等 Habuka Hitoshi

研究課題

研究成果

化学気相堆積速度の理論上限を超える主・副反応設計研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

化学気相堆積法による薄膜形成関連現象全体像の描出研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

固体表面化学結合制御による低温薄膜形成手法探索研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

水晶振動子法と多成分系有機物吸着汚染モデルによる表面吸着分子間相互作用測定法研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] InTech,(Vienna, Austria)2011

著者名/発表者名

出版者

データソース

[図書] Silicon Carbide : New Materials, Production Methods and Applications2011

著者名/発表者名

出版者

データソース

[図書] Nova Science Publishers(Hauppauge NY USA)2011

著者名/発表者名

出版者

データソース

[図書] Properties and Applications of Silicon Carbide2011

著者名/発表者名

出版者

データソース

[雑誌論文] Deposition and Etching Behaviour of Boron Trichloride Gas at Silicon Surface2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

データソース

[雑誌論文] Silicon epitaxial growth accelerated by parallel Langmuir processes using SiH2Cl2 and SiH3CH3 gases2018

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

データソース

[雑誌論文] Parallel langmuir processes for silicon epitaxial growth in a SiHCl 3 -SiH x -H 2 system2017

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Increase in silicon film deposition rate in a SiHCl 3 -SiH x -H 2 system2017

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] In Situ Measurement for Evaluating Temperature Change Related to Silicon film Formation in a SiHCl3-H2 System2016

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] In-situ Observation of Chemical Vapor Deposition Using SiHCl3 and BCl3 Gases2015

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] In-Situ Monitoring of Chemical Vapor Deposition from Trichlorosilane Gas and Monomethylsilane Gas Using Langasite Crystal Microbalance2013

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

羽深等 Habuka Hitoshi