研究者番号 |
40448014
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その他のID |
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所属 (現在) |
2024年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 |
2020年度 – 2023年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授
2012年度 – 2018年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授
2008年度 – 2011年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 助教
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審査区分/研究分野 |
- 研究代表者
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応用物性・結晶工学 /
理工系 /
薄膜・表面界面物性 /
中区分26:材料工学およびその関連分野 /
無機材料・物性
- 研究代表者以外
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応用物性
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キーワード |
- 研究代表者
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酸化物エレクトロニクス / 強相関電子系酸化物 / プロトン / 多値メモリ / イオントロニクス / 金属-絶縁体相転移 / ナノテクノロジー / 新機能電子材料 / 酸化物薄膜 / 界面
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/ 酸化物 / 金属ー絶縁体相転移 / 二酸化バナジウム / フレキシブル / ひずみセンサー / 電界効果 / イオン伝導体 / 機能性セラミック材料 / 電界効果トランジスタ / 強相関電子系 / トランジスタ / モット転移 / 強相関電子 / 確率共鳴 / 新機能材料 / 生体機能工学 / 磁性 / スピントロニクス / スピントロ二クス / 酸化物磁性体
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- 研究代表者以外
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先端機能デバイス / 遷移金属酸化物 / 強磁性ダイオード / 強相関エレクトロニクス / ナノ構造デバイス / ナノドメイン / 金属-絶縁体転移 / 酸化物エレクトロニクス / 新機能材料 / 強相関電子系 / セラミックス / MEMS / ナノドット構造体 / 中赤外 / ナノ構造体 / モット相転移 / 赤外 / 表面プラズモン / VO2 / 強相関酸化物 / p型シリコン / ペンタセン / p型シリコン / スピンポンピング / スピントロニクス
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