蓮池紀幸 HASUIKE Noriyuki

研究者番号	40452370
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2017年度 – 2024年度: 京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 助教 2015年度: 京都工芸繊維大学, その他部局等, 助教 2015年度: 京都工芸繊維大学, 大学院工芸研究科, 助教 2015年度: 京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 助教 2013年度 – 2014年度: 京都工芸繊維大学, 工芸科学研究科, 助教
審査区分/研究分野	研究代表者小区分21050:電気電子材料工学関連研究代表者以外小区分21050:電気電子材料工学関連 / プラズマ学およびその関連分野 / プラズマエレクトロニクス / 電子・電気材料工学
キーワード	研究代表者グレーティングカプラー / 赤外線吸収体 / 表面プラズモン共鳴 / ITO / 熱ナノインプリント / グレーティング研究代表者以外高移動度トランジスタ / ミストCVD法 / 結晶成長 / 混晶 … もっと見る / ミストCVD / 単一ドメイン / 強誘電体 / 酸化ガリウム / プラズマエレクトロニクス / 酸素アニオンラジカル / 酸素負イオン / ZnO / 単結晶 / 高電子移動度トランジスタ / ε相酸化ガリウム / 原子層 / プラズマ科学 / 特定粒子種別プロセス / 酸素負イオンプラズマ / 酸化物プロセス / 酸化力 / 負イオンドライプロセス / 負イオンナノドライプロセス / ZnO薄膜 / 低温プロセス / RFプラズマ / 酸素ラジカル / 酸化亜鉛 / ジエチル亜鉛 / 酢酸亜鉛 / 酸化亜鉛薄膜 / プラズマプロセス / 酸化物 / 光電ｊ変換 / 結晶対称性 / 紫外 / 偏光光学 / 光子歪 / 光電機能 / 偏光機能 / 酸化物半導体 / 量子井戸 / 格子歪 / 紫外領域 / 光電変換機能 / 偏光性 / 非極性隠す

赤外線プラズモニック吸収体の熱ナノインプリント形成と熱電変換素子応用の検討研究代表者
- 研究代表者
  
  蓮池紀幸
- 研究期間 (年度)
  2023 – 2025
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  京都工芸繊維大学
強誘電性κ-Ga2O3の超低消費電力パワーデバイスの開拓
- 研究代表者
  
  西中浩之
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  京都工芸繊維大学
分極制御型超ワイドバンドギャップ半導体デバイスの開拓
- 研究代表者
  
  西中浩之
- 研究期間 (年度)
  2019 – 2021
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  京都工芸繊維大学
酸素アニオンラジカルによる低温酸化亜鉛プロセスと均一な負イオンクラスターへの挑戦
- 研究代表者
  
  比村治彦
- 研究期間 (年度)
  2017 – 2019
- 研究種目
  
  挑戦的研究(萌芽)
- 研究分野
  
  プラズマ学およびその関連分野
- 研究機関
  京都工芸繊維大学
酸化物量子井戸界面における結晶対称性の破れと偏光光電機能
- 研究代表者
  
  松井裕章
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京大学
酢酸亜鉛ミストと酸素負イオンプラズマを用いたZnO薄膜の室温下での生成
- 研究代表者
  
  比村治彦
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  プラズマエレクトロニクス
- 研究機関
  京都工芸繊維大学

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すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] TEM characterization of defects in κ-(InxGa1-x)2O3 thin film grown on (001) FZ-grown ε-GaFeO3 substrate by mist CVD2023
- 著者名/発表者名
  Ueda Osamu、Nishinaka Hiroyuki、Ikenaga Noriaki、Hasuike Noriyuki、Yoshimoto Masahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: 12 ページ: 125501-125501
- DOI
  10.35848/1347-4065/ad07fb
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22797
[雑誌論文] Growth of indium-incorporated κ-Ga2O3 thin film lattice-matched to the ε-GaFeO3 substrate2022
- 著者名/発表者名
  Nishinaka Hiroyuki、Ueda Osamu、Ikenaga Noriaki、Hasuike Noriyuki、Yoshimoto Masahiro
- 雑誌名
  
  Materials Letters: X
  
  巻: 14 ページ: 100149-100149
- DOI
  10.1016/j.mlblux.2022.100149
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22797
[雑誌論文] Plan-view TEM observation of a single-domain κ-Ga2O3 thin film grown on ε-GaFeO3 substrate using GaCl3 precursor by mist chemical vapor deposition2021
- 著者名/発表者名
  Nishinaka Hiroyuki、Ueda Osamu、Ito Yusuke、Ikenaga Noriaki、Hasuike Noriyuki、Yoshimoto Masahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 1 ページ: 018002-018002
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac3e17
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H02170
[雑誌論文] Single-Domain and Atomically Flat Surface of κ-Ga2O3 Thin Films on FZ-Grown ε-GaFeO3 Substrates via Step-Flow Growth Mode2020
- 著者名/発表者名
 Nishinaka Hiroyuki、Ueda Osamu、Tahara Daisuke、Ito Yusuke、Ikenaga Noriaki、Hasuike Noriyuki、Yoshimoto Masahiro
- 雑誌名
 
 ACS Omega
 
 巻: 5 号: 45 ページ: 29585-29592
- DOI
 10.1021/acsomega.0c04634
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
 KAKENHI-PROJECT-19H02170
[雑誌論文] Room temperature growth of Al-doped ZnO thin films by reactive DC sputtering technique2013
- 著者名/発表者名
  N. Hasuike, K. Nishio, K. Kisoda and H. Harima
- 雑誌名
  
  Japan journal of Applied Physics
  
  巻: 52 号: 1S ページ: 01AC09-01AC09
- DOI
  10.7567/jjap.52.01ac09
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289084
[学会発表] 熱ナノインプリント法と反応性プラズマ成膜法を組み合わせて形成したITOグレーティングカプラーでの表面プラズモン共鳴2024
- 著者名/発表者名
  蓮池紀幸、前田剛志、岡田悠悟、前原誠、木下公男、武田実
- 学会等名
  2024年第71回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03925
[学会発表] (001) FZ成長ε-GaFeO3基板上にミストCVD成長したκ-(InxGa1-x)2O3薄膜中の欠陥のTEM評価2023
- 著者名/発表者名
  上田修, 西中浩之，池永訓昭, 蓮池紀幸，吉本昌広
- 学会等名
  第70回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22797
[学会発表] Surface plasmon resonance in indium tin oxide grating coupler fabricated by the combination of thermal nanoimprint lithography and reactive plasma deposition2023
- 著者名/発表者名
  Noriyuki Hasuike, Takeshi Maeda, Yugo Okada, Makoto Maehara, Kimio Kinoshita, Minoru Takeda
- 学会等名
  International Symposium on Imaging, Sensing, and Optical Memory 2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03925
[学会発表] TEM characterization of defects in κ-(Ga1-xInx)2O3 thin film grown on (001) FZ-grown ε-GaFeO3 substrate by Mist CVD2022
- 著者名/発表者名
  O. Ueda, H. Nishinaka, N. Ikenaga, N. Hasuike, and M. Yoshimoto
- 学会等名
  The 4th International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22797
[学会発表] ε-GaFeO3基板を用いた単一ドメインκ-Ga2O3の成長2022
- 著者名/発表者名
  西中浩之, 上田修, 迫秀樹,　池永訓昭, 宮戸祐治, 蓮池紀幸, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広
- 学会等名
  第83回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22797
[学会発表] Single-domain κ-Ga2O3 thin films grown on ε-GaFeO3 substrates by mist CVD2022
- 著者名/発表者名
  H. Nishinaka, O. Ueda, N. Ikenaga, N. Hasuike, and M. Yoshimoto
- 学会等名
  The 4th International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22797
[学会発表] ワイドギャップ酸化物半導体のプラズモニック技術:可視電波透過性を有するフレキシブル熱線反射シートの創出2015
- 著者名/発表者名
  松井裕章、古田晋也、長谷部貴之、蓮池紀幸、田畑仁
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場（愛知県名古屋市熱田区）
- 年月日
  2015-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289084
[学会発表] In2O3:Snナノ粒子の局在表面プラズモン共鳴とその近赤外応用
- 著者名/発表者名
  松井裕章、古田晋也、長谷部貴之、蓮池紀幸、田畑仁
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289084
[学会発表] In2O3:Snナノ粒子間のギャップ励起と機能
- 著者名/発表者名
  松井裕章、古田晋也、長谷部貴之、蓮池紀幸、田畑仁
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289084

1. 比村治彦 (30311632)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
2. 三瓶明希夫 (90379066)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
3. 西中浩之 (70754399)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 8件
4. 上田修 (50418076)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 8件
5. 池永訓昭 (30512371)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 8件
6. 松井裕章 (80397752)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 3件
7. 政宗貞男 (00157182)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 宮戸祐治 (80512780)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件

蓮池 紀幸 HASUIKE Noriyuki

研究課題

研究成果

共同研究者

赤外線プラズモニック吸収体の熱ナノインプリント形成と熱電変換素子応用の検討研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

強誘電性κ-Ga2O3の超低消費電力パワーデバイスの開拓

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

分極制御型超ワイドバンドギャップ半導体デバイスの開拓

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

酸素アニオンラジカルによる低温酸化亜鉛プロセスと均一な負イオンクラスターへの挑戦

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

酸化物量子井戸界面における結晶対称性の破れと偏光光電機能

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

酢酸亜鉛ミストと酸素負イオンプラズマを用いたZnO薄膜の室温下での生成

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] TEM characterization of defects in κ-(InxGa1-x)2O3 thin film grown on (001) FZ-grown ε-GaFeO3 substrate by mist CVD2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Growth of indium-incorporated κ-Ga2O3 thin film lattice-matched to the ε-GaFeO3 substrate2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Plan-view TEM observation of a single-domain κ-Ga2O3 thin film grown on ε-GaFeO3 substrate using GaCl3 precursor by mist chemical vapor deposition2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Single-Domain and Atomically Flat Surface of κ-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Thin Films on FZ-Grown ε-GaFeO<sub>3</sub> Substrates via Step-Flow Growth Mode2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Room temperature growth of Al-doped ZnO thin films by reactive DC sputtering technique2013

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[学会発表] 熱ナノインプリント法と反応性プラズマ成膜法を組み合わせて形成したITOグレーティングカプラーでの表面プラズモン共鳴2024

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] (001) FZ成長ε-GaFeO3基板上にミストCVD成長したκ-(InxGa1-x)2O3薄膜中の欠陥のTEM評価2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Surface plasmon resonance in indium tin oxide grating coupler fabricated by the combination of thermal nanoimprint lithography and reactive plasma deposition2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] TEM characterization of defects in κ-(Ga1-xInx)2O3 thin film grown on (001) FZ-grown ε-GaFeO3 substrate by Mist CVD2022

著者名/発表者名

学会等名

蓮池紀幸 HASUIKE Noriyuki