研究者番号 |
40564109
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その他のID |
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所属 (現在) |
2024年度: 地方独立行政法人北海道立総合研究機構, 産業技術環境研究本部 エネルギー・環境・地質研究所, 主査
2024年度: 地方独立行政法人北海道立総合研究機構, 産業技術環境研究本部 工業試験場, 主査
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 |
2022年度: 地方独立行政法人北海道立総合研究機構, 産業技術環境研究本部 エネルギー・環境・地質研究所, 研究職員
2018年度 – 2021年度: 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 特任准教授
2019年度: 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 研究員
2014年度 – 2018年度: 中央大学, 理工学部, 助教
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審査区分/研究分野 |
- 研究代表者
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無機化学 /
小区分34010:無機・錯体化学関連
- 研究代表者以外
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無機化学 /
中区分34:無機・錯体化学、分析化学およびその関連分野
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キーワード |
- 研究代表者
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水素ラジカル / 光反応 / CO2 / カルボキシル化 / 二酸化炭素 / 光脱水素化 / 錯体 / メタノール / 非貴金属錯体 / カルボラジカル
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/ 芳香族炭化水素 / 光カルボキシル化 / 電子移動 / メチル化 / クラスター / スルフィド / モリブデン錯体 / o-アミノフェノラート / 電子的不均化反応 / ベンゼンジチオラート / カテコラート / 酸化還元活性配位子 / 水素発生 / 参加還元活性配位子 / 鉄錯体 / プロトン / 電子 / 電子プロトン移動活性 / 水素 / 金属錯体 / ラジカル / 光化学反応 / 芳香族アミン配位子 / 水素発生量子収率 / 室温駆動 / 非貴金属触媒 / 光脱水素 / MeOH / レドックス活性配位子 / アミノフェノール / ホルムアルデヒド / 脱水素化
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- 研究代表者以外
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鉄錯体 / 光反応 / フェニレンジアミン / レドックス活性錯体 / 錯体 / 水素 / 光水素発生 / レドックス活性配位子 / 高スピン / 低スピン / 軸配位子 / アルコール / 脱水素 / 触媒 / 分子前駆体 / アルミノシリケート / シングルサイト触媒 / 錯体触媒 / 光脱水素 / メタノール / 光触媒 / ノンイノセントリガンド / 分極 / 非貴金属触媒 / Cu錯体 / Ni錯体 / 多座配位子 / 光照射 / 二酸化炭素 / カルボキシル化 / Fe錯体 / 二酸化炭素還元 / 非貴金属錯体 / アルコール脱水素 / マンガン錯体 / 水素キャリア / 金属錯体 / 水素ラジカル / 光駆動 / プロトン共役電子移動 / ベンゾキノジイミン / 光駆動型 / ハイドライド / プロトン移動 / 電子移動 / 配位子 / エネルギーキャリア / 軽金属 / 水素貯蔵 / アルカリ土類金属 / アルカリ金属 / ミセル / 外場応答性 / メゾサイズ / 原子価互変異性平衡 / 双安定錯体 / 両親媒性分子 / メゾ構造 / 原子価互変異性 / 双安定性錯体 / 長鎖 / 同期 / 両親媒性 / コバルト錯体 / オリゴエチレングリコキシ鎖 / 調査 / 双安定性 / 原子価互変異性錯体
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