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中園 彪  NAKAZONO Takeshi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 50044433
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1995年度 – 1997年度: 佐世保工業高等専門学校, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者以外
電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者以外
FT-IR / Emission spectrum / KrF excimer Laser / RF bias / Nd : YAG laser / Hexagonal boron nitride / Pulsed laser ablation / Cubic boron nitride / RF負バイアス電圧 / パルスレーザアブレーション法 … もっと見る / イオン源 / イオンアシスト / 発光分光分析 / FT-IR分析 / 負バイアス / Nd : YAGレーザ / パルスレーザデポジション / 発光スペクトル / KrFエキシマレーザ / RFバイアス / Nd:YAG Laser / 六方晶窒化ボロン / パルスレーザアブレーション / 立方晶窒化ボロン 隠す
  • 研究課題

    (1件)
  • 共同研究者

    (2人)
  •  レーザアブレーションによる立方晶窒化ボロン(cBN)薄膜作製プロセスの開発

    • 研究代表者
      須田 義昭
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      佐世保工業高等専門学校
  • 1.  須田 義昭 (20124141)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  馬場 恒明
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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