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馬来 国弼  マキ クニスケ

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 50046091
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1995年度: 横浜市立大学, 理学部, 教授
1994年度: 横浜市立大学, 文理学部, 教授
1992年度: 横浜市立大学, 文理学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
表面界面物性
キーワード
研究代表者
RHEED振動 / 薄膜成長 / STM / 表面構造 / 構造緩和過程 / STM観察 / 二次元Si島の形 / MBE成長初期過程 / Si(111)-7×7 / 核形成 … もっと見る / エピタキシャル成長 / 赤外吸収分光 / 分子配向制御 / 真空蒸着 / ポリフッカビニリデン / Si低温エピタキシー / 原子状ステップ / 低速電子回折 / 分子線エピタキシー / シリコンホモエピタキシー 隠す
  • 研究課題

    (5件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  水素ラジカルによって誘起される水素終端Si(111)表面及びSi原子層の構造変化研究代表者

    • 研究代表者
      馬来 国弼
    • 研究期間 (年度)
      1995
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      横浜市立大学
  •  メゾスコッピク構造形成過程におけるフリーラジカルのネットワーク化と構造緩和研究代表者

    • 研究代表者
      馬来 国弼
    • 研究期間 (年度)
      1994
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      横浜市立大学
  •  メゾスコピック構造形成過程におけるフリーラジカルのネットワーク化と構造緩和研究代表者

    • 研究代表者
      馬来 国弼
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      横浜市立大学
  •  真空蒸着による鎖状高分子の超薄膜の結晶化と分子配列制御研究代表者

    • 研究代表者
      馬来 国弼
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      横浜市立大学
  •  エピタキシャル成長表面のモルフォロジーと成長機構研究代表者

    • 研究代表者
      馬来 国弼
    • 研究期間 (年度)
      1992
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      横浜市立大学
  • 1.  重田 諭吉 (70106293)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件

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