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土橋 剛  DOBASHI Tsuyoshi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 50123956
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1995年度: 旭川工業高等専門学校, 電気工学科, 助教授
1994年度: 旭川工業高等専門学校, 電気科, 助教授
審査区分/研究分野
研究代表者以外
電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者以外
Reduction of oxide thickness / tan delta / Heat-proof property / Anodized capacitor / Ta_2N compound film / 漏れ電流 / 誘電損 / 陽極酸化 / 窒化タンタル化合物膜 / 薄膜コンデンサ … もっと見る / 耐熱性 / tanδ / 薄膜キャパシタ / 陽極酸化膜 / Ta_2N化合物膜 隠す
  • 研究課題

    (1件)
  • 共同研究者

    (4人)
  •  窒化タンタル陽極酸化膜による耐熱性に優れた薄膜コンデンサの作製

    • 研究代表者
      佐々木 克孝
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北見工業大学
  • 1.  佐々木 克孝 (80091552)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  野矢 厚 (60133807)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  阿部 良夫 (20261399)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  白重 道弘
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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