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浅野 種正  ASANO Tanemasa

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 50126306
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2019年度: 九州大学, 日本エジプト科学技術連携センター, 特任教授
2016年度 – 2018年度: 九州大学, システム情報科学研究院, 教授
2012年度 – 2015年度: 九州大学, システム情報科学研究科(研究院, 教授
2012年度: 九州大学, 大学院・システム情報科学研究院, 教授
2011年度: 九州大学, システム情報科学研究科, 教授 … もっと見る
2011年度: 九州大学, システム情報科学研究院, 教授
2008年度 – 2010年度: 九州大学, 大学院・システム情報科学研究院, 教授
2009年度: 九州大学, 大学院・シマテム情報科学研究院, 教授
2007年度 – 2008年度: 九州大学, システム情報科学研究院, 教授
2006年度: 九州大学, 大学院システム情報科学研究院, 教授
2005年度: 九州工業大学, 情報工学部, 教授
1994年度 – 2004年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 教授
1998年度: マイクロ化総合技術センター, 教授
1997年度: 九州工業大学, マイクロ総合技術センター, 教授
1994年度: 九州工業大学, 情報工学部, 教授
1992年度 – 1993年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 助教授
1989年度 – 1993年度: 九州工業大学, 情報工学部, 助教授
1987年度: 東京工業大学, 大学院総合理工学研究科, 助手
1986年度: 東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 助手 隠す
審査区分/研究分野
研究代表者
電子デバイス・電子機器 / 薄膜・表面界面物性 / 理工系 / 電子デバイス・機器工学 / 表面界面物性 / 応用物性 / 応用物性・結晶工学 / マイクロ・ナノデバイス
研究代表者以外
電子・電気材料工学 / 電子デバイス・電子機器 … もっと見る / 電子材料工学 / 航空宇宙工学 / 応用光学・量子光工学 / 電子機器工学 / 溶接工学 / 機械材料・材料力学 / 計測工学 隠す
キーワード
研究代表者
薄膜トランジスタ / 多結晶シリコン / TFT / SiC / 炭化シリコン / レーザーアニール / 金属誘起固相結晶化 / 固相結晶化 / SOI / thin film transistor … もっと見る / シリコン / FPAA / FPGA / 微小電子源 / 異方性エッチング / 電界放射 / ドーピング / パワーデバイス / オーミック接触 / JBSダイオード / レーザードーピング / レーザープロセッシング / ナノインプリント / 固相成長 / 超音波接合 / バンプ / 三次元集積回路 / システム・イン・パッケージ / 集積回路 / ペロブスカイト酸化物 / 酸化物触媒 / ゲート酸化 / 触媒酸化 / 熱酸化 / perovskite oxide / atomic oxygen / functional oxide / catalytic oxidation / oxidation / 4H SiC / silicon carbide / 液中レーザ照射 / レーザプロセッシング / レーザー加工 / 液中レーザー照射 / ワイドギャップ半導体 / 接触抵抗 / metal induced crystallization / laser annealing / excimer laser / single grain / silicon / nanoimprint / システム・オン・パネル / 薄膜集積回路 / レーザー結晶化 / TFT回路 / 単一結晶粒トランジスタ / 結晶粒位置制御 / SO1 / エキシマレーザー / 疑似単結晶 / mixed signal circuit / solid phase recrytallization / solid phase crystallization / polycrystalline silicon / プラズマ処理 / 結晶化制御 / デイジタル混在回路 / ディジタル混在回路 / アナログ / 固相再結晶化 / diamond / field emission / micron-size electron emitter / vacuum microelectronics / electron-wave interference / 微細加工技術 / 微小冷陰極 / 電子干波渉効果 / ダイヤモンド / 真空マイクロエレクトロニクス / 電子波干渉 / Vacuum Microelectronics / Sputtering / Anisotropic Etching / Ion Milling / Field Emission / Tunneling Phenomenon / 真空マイクロ素子 / スパッタリング / イオンミリング / トンネル効果 / 4H-SiC / 電力用半導体素子 / JBS / 液中レーザー / 静電吐出 / 有機半導体 / インクジェット / ヘテロ集積 / 先鋭バンプ / クロコン酸 / フレキシブルエレクトロニクス / プリンティッドエレクトロニクス / 常温接合 / マイクロ接合 / インターコネクト / 3D-LSI / センシングデバイス / インターコネクト・パッケージのシステム化応用 / 電子デバイス・集積回路 / システムオンパネル / シリコン薄膜 / マイクロ・ナノデバイス / 金属シリサイド / ナノ細線 / 多結晶シリコン薄膜 / ナノ造形 / 薄膜 / ニッケルシリサイド / 金属触媒 / 結晶細線 / 金属誘起横方向固相結晶化 / 歪みセンサー / フリップチップ / チップ積層 / 高密度実装 / コンプライアント・バンプ / 積層半導体 / 歪センサー / マイクロバンプ / 微細接続 / 物理乱数機器 / 撮像素子 / ひずみセンサー / クリップチップ / 実装 / グローバルインテグレーション … もっと見る
研究代表者以外
GaAs / バイオセンサ / ヒートパルス / Si / 表面プラズモン共鳴センサ / マイクロデバイス / 免疫センサ / 抗体 / ゲルマニウム / ひ化ガリウム / ヘテロ構造 / Ge / 3C-SiC / bolometer / Heat-pulse / デコンボリューション / ブレークスルー / SiGe系 / SiGe / HEMT / MISFET / アビジン / ビオチン / バイオターゲティング / 4H-SiC / 発光スペクトル / レーザドーピング / SiC / RAPID THERMAL ANNEALING / SILICON / GERMANIUM / SOLID PHASE EPITAXY / HETEROSTRUCTURE / OHMIC CONTACT / プラズマ化学気相堆積法 / 炭化シリコン / ヘテロ接合 / オーミックコンタクト / 高温短時間熱処理 / シリコン / 固相エピタキシャル成長 / オ-ミックコンタクト / MIS device / Fluoride / Heteroepitaxy / 弗化物薄膜エピタキシャル成長 / 砒化ガリウム / CMISトランジスタ / EBEIピタキシー / 弗化物 / MISデバイス / SOI / ヘテロエピタキシー / Platinum Catalyst / Porous Silicon / Hydrogen Peroxide / Microchannel / MEMS / マイクロヒーター / マイクロタンクアレイ / マイクロヒータ / 気液相変化 / 推力測定 / 白金触媒 / 多孔質 / 過酸化水素水 / マイクロチャンネル / マイクロマシン / Image Processing / Flow Visualization / Blood Velocimetry / Medical Electronics / Laser Application / メディカルイメージング / 血流計測 / 医用電子工学 / レーザー応用計測 / break-through / epitaxial-growth / tunneling-device / decomlution / GaAlAs系 / 短いパルス / トンネル電流 / エピタキシャル薄膜 / トンネル素子 / 超伝導ボロメータ / phonon-pulse penetration / diffused-phonon / oxgen-consentration / FZ / CZ / decombolution / 真のエコーシグナル / 顆粒状アルミ薄膜 / 超伝導薄膜ボロメータ / 微細加工技術 / シリコン結晶 / 超高周波パルスフォノン / 定量的測定 / 熱処理 / フォノン散乱 / 分解能 / 酸素誘起欠陥 / シリコンウェハ / 酸素分子 / シリコンウエハ / 酸素濃度 / 超伝導ポロメータ / フォノンパルス / phonon detection / phonon mode conversion / RF-sputtering / strained boundary / Al thin film bolometer / heat pulse phonon / high frequency phonon / SiGe system thin film / 多層膜 / モード変換 / 格子歪 / ヒーター / 熱フォノン / Si膜 / 不規則表面 / 時間分解能 / 応答関数 / アルミ薄膜 / ボロメータ / フォノンモード変換 / 高周波スパッター / 歪みを伴う界面 / アルミボロメータ / ヒートパルス・フォノン / SiGe系薄膜 / 超高周波フォノン / Adaptive-Learning / Self-Learning / Ferroelectrics / Neural-Networks / ニューロ素子 / MOSFET / 自己学習機能 / 適応学習 / 自己学習 / 強誘電体 / ニューラルネット / Polythiophene / Transistor / Electrochemical Oxidation / Memory Device / Solid State Electrolyte / Conducting Polymer / ポリチオフェン / トランジスタ / 電解酸化 / メモリ素子 / 固体電解質 / 導電性高分子 / デバイス設計・製造プロセス / 機械材料・材料力学 / 実験力学 / エレクトロニクス実装 / 電子デバイス・機器 / 感性計測 / 匂いセンサ / 味覚センサ / 分子鋳型法 / 集積化センサ / プロティンA / バイオターゲッティング 隠す
  • 研究課題

    (28件)
  • 研究成果

    (302件)
  • 共同研究者

    (62人)
  •  ウェットレーザドーピング技術の創生研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2016 – 2019
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      九州大学
  •  機能性酸化物の触媒効果を利用した炭化シリコンの低温酸化研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2016 – 2017
    • 研究種目
      挑戦的萌芽研究
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      九州大学
  •  ドーピング時の発光測定を用いたSiCへのウエットケミカルレーザドープの機構解明

    • 研究代表者
      池田 晃裕
    • 研究期間 (年度)
      2014 – 2016
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      九州大学
  •  ウェットレーザプロセッシングにおける超高速ドーピング機構の研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2013 – 2015
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      九州大学
  •  形態機能性マイクロ接合によるナノデバイス/CMOS融合型三次元集積回路の創生研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2009 – 2012
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      九州大学
  •  X線透視画像を用いた電子パッケージ内部ひずみの非破壊計測技術の開発

    • 研究代表者
      小金丸 正明
    • 研究期間 (年度)
      2009 – 2011
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      福岡県工業技術センター
  •  ナノインクジェット技術による有機半導体単結晶薄膜のポジショニング成長研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2009 – 2010
    • 研究種目
      挑戦的萌芽研究
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      九州大学
  •  感性バイオセンサの開発

    • 研究代表者
      都甲 潔
    • 研究期間 (年度)
      2006 – 2010
    • 研究種目
      基盤研究(S)
    • 研究分野
      計測工学
    • 研究機関
      九州大学
  •  ナノインプリント・シーディングによる単結晶シリコン薄膜の形成に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2006 – 2008
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      九州大学
  •  金属触媒を利用したシリコン単結晶固相成長におけるナノ造形過程の研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2004
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      マイクロ・ナノデバイス
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  ナノ・インプリント技術によるシリコン薄膜の結晶位置と方位制御の研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  歪ダイナミクス計測に基づくチップ積層集積システム化技術の研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2003
    • 研究種目
      特定領域研究
    • 審査区分
      理工系
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  超音波によるチップ積層接合時に発生する歪ダイナミクスと回路素子への効果研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2001
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 審査区分
      理工系
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  超小型衛星・航空機用マイクロ液体スラスターの試作研究

    • 研究代表者
      高橋 厚史
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      航空宇宙工学
    • 研究機関
      九州大学
  •  3次元マイクロデバイス上での自己集積的生体分子構築と集積化免疫チップへの応用

    • 研究代表者
      鈴木 正康
    • 研究期間 (年度)
      2000
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 研究機関
      富山大学
  •  自己集積化法によるマイクロデバイス上での生体分子アーキテクチャー構築

    • 研究代表者
      鈴木 正康
    • 研究期間 (年度)
      1999
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  半導体マイクロデバイス表面の生体分子アーキテクチャーり構築

    • 研究代表者
      鈴木 正康
    • 研究期間 (年度)
      1998
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  トンネル素子における散乱機構のフォノンパルスによる研究

    • 研究代表者
      宮里 達郎
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      国際学術研究
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  高分解能・眼底血流画像化システムの開発

    • 研究代表者
      藤居 仁
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用光学・量子光工学
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究

    • 研究代表者
      宮里 達郎
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  確率論的情報処理回路の薄膜トランジスタによる積層形成の研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  ヘテロ構造界面における異常歪効果のフォノン散乱による研究

    • 研究代表者
      宮里 達郎
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1995
    • 研究種目
      国際学術研究
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  電子波干渉型真空マイクロエレクトロニクス素子の試作研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  電子デバイスにおける自己学習機能の創出とニューラルネットへの応用

    • 研究代表者
      石原 宏
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1994
    • 研究種目
      一般研究(A)
    • 研究分野
      電子機器工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  単原子メモリーの基礎研究研究代表者

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      応用物性
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  電解質ゲルと導電性高分子による可塑性電導体の作成とメモリ素子への応用

    • 研究代表者
      金藤 敬一
    • 研究期間 (年度)
      1990 – 1991
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      溶接工学
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  ひ化ガリウムへの耐熱性ヘテロ接合オ-ミックコンタクトの研究

    • 研究代表者
      石原 宏
    • 研究期間 (年度)
      1988 – 1989
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  格子準整合形ヘテロ構造の電子的挙動と低電力・超高速素子への応用に関する研究

    • 研究代表者
      古川 静二郎
    • 研究期間 (年度)
      1984 – 1987
    • 研究種目
      特別推進研究
    • 研究機関
      東京工業大学

すべて 2019 2018 2017 2016 2015 2014 2013 2012 2011 2010 2009 2008 2007 2006 2005 2004 2003 その他

すべて 雑誌論文 学会発表 産業財産権

  • [雑誌論文] High-concentration, Room Temperature, and Low-cost Excimer Laser Doping for 4H-SiC Power Device Fabrication2019

    • 著者名/発表者名
      Kaneme Imokawa, Toshifumi Kikuchi, Daisuke Nakamura, Akihiro Ikeda, Tanemasa Asano, Hiroshi Ikenoue
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 印刷中

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [雑誌論文] Increasing Laser-Doping Depth of Al in 4H-SiC by Using Expanded-Pulse Excimer Laser2019

    • 著者名/発表者名
      Akihiro Ikeda, Takashi Shimokawa, Hiroshi Ikenoue, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 印刷中

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [雑誌論文] Formation of low resistance contacts to p-type 4H-SiC by using laser doping with Al thin-film dopant source2019

    • 著者名/発表者名
      Kento Okamoto, Toshifumi Kikuchi, Akihiro Ikeda, Hiroshi Ikenoue, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58

    • NAID

      210000156255

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [雑誌論文] Formation of Low Resistance Contacts to p-type 4H-SiC using Al-Film Source Laser Doping2019

    • 著者名/発表者名
      Kento Okamoto, Toshifumi Kikuchi, Akihiro Ikeda, Hiroshi Ikenoue, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Proc. of 7th International Conference on Photonics, Optics and Laser Technology

      巻: - ページ: 294-298

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [雑誌論文] Formation of low resistance contacts to p-type 4H-SiC using laser doping with an Al thin-film dopant source2019

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, T. Kikuchi, A. Ikeda, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Appied Physics

      巻: 58 号: SD ページ: SDDF13-SDDF13

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab12c3

    • NAID

      210000156255

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342, KAKENHI-PROJECT-17K06387
  • [雑誌論文] Evaluation of effective length of the enhanced oxidation of active oxygen produced using SrTi_{x} Mg_{1-x}O_{3-δ} catalyst for low-temperature oxidation2018

    • 著者名/発表者名
      Sun Hsiang Fang、Ikeda Akihiro、Asano Tanemasa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 57 号: 4S ページ: 04FB09-04FB09

    • DOI

      10.7567/jjap.57.04fb09

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K14258
  • [雑誌論文] Increased doping depth of Al in wet-chemical laser doping of 4H-SiC by expanding laser pulse2017

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Marui, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Materials Science in Semiconductor Processing

      巻: 印刷中 ページ: 193-196

    • DOI

      10.1016/j.mssp.2016.11.036

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309, KAKENHI-PROJECT-17K06387, KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [雑誌論文] Enhanced Low-Temperature Oxidation of 4H-SiC Using SrTi_{1-x}Mg_{x}O_{3-δ}2017

    • 著者名/発表者名
      Li Li、Ikeda Akihiro、Asano Tanemasa
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 897 ページ: 356-359

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.897.356

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K14258
  • [雑誌論文] Extremely Enhanced Diffusion of Nitrogen in 4H-SiC Observed in Liquid-Nitrogen Immersion Irradiation of Excimer Laser2016

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Material Science Forum

      巻: 821-823 ページ: 448-445

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.821-823.448

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309, KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [雑誌論文] Enhanced thermal oxidation using SrTi_{1-x}Mg_xO_{3-d} catalyst and its application to 4H-SiC,2016

    • 著者名/発表者名
      Li Li, Akihiro Ikeda, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Workshop Digest of Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices

      巻: - ページ: 442-445

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K14258
  • [雑誌論文] Al Doping from Laser Irradiated Al Film Deposited on 4H-SiC2016

    • 著者名/発表者名
      Akihiro Ikeda, Rikuho Sumina, Hiroshi Ikenoue, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 858 ページ: 527-530

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.858.527

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342, KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [雑誌論文] Enhanced oxidation of Si using low-temperature oxidation catalyst SrTi_{1-x}Mg_xO_{3-d}2016

    • 著者名/発表者名
      Li Li, Akihiro Ikeda, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 55 号: 6S1 ページ: 06GJ05-06GJ05

    • DOI

      10.7567/jjap.55.06gj05

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K14258
  • [雑誌論文] Al Doping from Laser Irradiated Al Film Deposited on 4H-SiC2016

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, R.Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Material Science Forum

      巻: 824

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [雑誌論文] Thickness dependence of doping characteristic in Al doping into 4H-SiC by laser irradiation to deposited Al film2016

    • 著者名/発表者名
      Rikuho Sumina, Akihiro Ikeda, Hiroshi Ikenoue, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Workshop Digest of Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices

      巻: - ページ: 216-219

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [雑誌論文] Al doping of 4H-SiC by laser irradiation to coated Al film and its application2016

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, R.Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 55 号: 4S ページ: 04ER07-04ER07

    • DOI

      10.7567/jjap.55.04er07

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309, KAKENHI-PROJECT-25289105, KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [雑誌論文] Low temperature oxidation of 4H-SiC using oxidation catalyst SrTi_{1-x}Mg_xO_{3-d}2016

    • 著者名/発表者名
      Li Li, Akihiro Ikeda, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 55 号: 10 ページ: 108001-108001

    • DOI

      10.7567/jjap.55.108001

    • 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16K14258
  • [雑誌論文] Nitrogen doping of 4H-SiC by KrF excimer laser irradiation in liquid nitrogen2015

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 54 号: 4S ページ: 04DP02-04DP02

    • DOI

      10.7567/jjap.54.04dp02

    • NAID

      210000145089

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105, KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [雑誌論文] Examination of Residual Stress Measurement in Electronic Packages Using Phase-Shifted Sampling Moiré Method and X-Ray Images2014

    • 著者名/発表者名
      Masaaki Koganemaru, Masakazu Uchino, Akihiro Ikeda, and Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Electronics System-Integration Technology Conference (ESTC), 2014

      ページ: 1-5

    • DOI

      10.1109/estc.2014.6962827

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560109
  • [雑誌論文] Aluminum doping of 4H-SiC by irradiation of excimer laser in aluminum chloride solution2014

    • 著者名/発表者名
      D. Marui, A. Ikeda, K. Nishi, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 53 号: 6S ページ: 06JF03-06JF03

    • DOI

      10.7567/jjap.53.06jf03

    • NAID

      210000144101

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105, KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [雑誌論文] Formation of pn junction in 4H-SiC by irradiation of excimer laser in phosphoric solution2014

    • 著者名/発表者名
      D. Marui, K. Nishi, A. Ikeda, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 53

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [雑誌論文] n- and p-type doping of 4H-SiC by wet-chemical laser processing2014

    • 著者名/発表者名
      K. Nishi, A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 778-780 ページ: 645-648

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.778-780.645

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [雑誌論文] Phosphorus Doping into 4H-SiC by Irradiation of Excimer Laser in Phosphoric Solution2013

    • 著者名/発表者名
      K. Nishi, A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 52 号: 6S ページ: 06GF02-06GF02

    • DOI

      10.7567/jjap.52.06gf02

    • NAID

      210000142360

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [雑誌論文] Ultrasonic Bonding of Cone Bump for Integration of Large-Scale Integrated Circuits in Flexible Electronics2013

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, K. Iwanabe, K. Noda, S. Nakai, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 52 号: 5S1 ページ: 05DB10-05DB10

    • DOI

      10.7567/jjap.52.05db10

    • NAID

      210000142215

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Room-Temperature Cu Microjoining with Ultrasonic Bonding of Cone-Shaped Bump2013

    • 著者名/発表者名
      L. Qiu, A. Ikeda, K. Noda, S. Nakai, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 52 号: 4S ページ: 04CB10-04CB10

    • DOI

      10.7567/jjap.52.04cb10

    • NAID

      210000141986

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] (招待論文)先鋭バンプを用いた異種材料・機能のマイクロ接合技術2012

    • 著者名/発表者名
      浅野種正
    • 雑誌名

      電子情報通信学会論文誌C

      巻: J95-C ページ: 148-148

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Impact on TFT Characteristics of Rapid Crystallization of Si Using Nickel-Metal Induced Lateral Crystallization2012

    • 著者名/発表者名
      S.Nagata, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 51 号: 2S ページ: 02BH04-02BH04

    • DOI

      10.1143/jjap.51.02bh04

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Low-Temperature Bonding of LSI Chips to PEN Film Using Au Cone Bump for Heterogeneous Integration2012

    • 著者名/発表者名
      T.Shuto, N.Watanabe, A.Ikeda, T.Asano
    • 雑誌名

      Technical Digest of the IEEE International 3D System Integration Conference 2011

      ページ: 1-5

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] High Frequency Signal Transmission Characteristics of Cone Bump Interconnec-tions2012

    • 著者名/発表者名
      A.Ikeda, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Technical Digest of the IEEE International 3D System Integration Conference 2011

      ページ: 1-4

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] 自己組織化単分子膜を用いた銅とはんだのフラックスレス接合の研究2012

    • 著者名/発表者名
      池田晃裕,仲原清顕,仇立靖,浅野種正
    • 雑誌名

      電子情報通信学会論文誌C

      巻: J95-C ページ: 304-304

    • NAID

      110009543930

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Room-Temperature Microjoining of LSI Chips on Poly(ethylene naphthalate) Film Using Mechanical Caulking of Au Cone Bump2012

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 51 号: 4S ページ: 04DB04-04DB04

    • DOI

      10.1143/jjap.51.04db04

    • NAID

      210000072104

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Room-Temperature Bonding of LSI Chips on PEN Film Using Mechanical Caulking of Au Cone Bump2011

    • 著者名/発表者名
      T.Shuto, N.Watanabe, A.Ikeda, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 787-788

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Investigation of MILC Growth Kinetics for Rapid Crystallization with Emphasis on Grain Filtering2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nagata, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Proceedings of the 7th International TFT Conference

      ページ: 81-82

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Characteristics of a Novel Compliant Bump for 3-D Stacking With High-Density Inter-Chip Connections2011

    • 著者名/発表者名
      N. Watanabe, and T. Asano
    • 雑誌名

      IEEE Transaction on Components, Packaging, and Manufacturing Technology

      巻: 1 号: 1 ページ: 83-83

    • DOI

      10.1109/tcpmt.2010.2101450

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Argon Ion Bombardment to Improve Contacts in Solution-Processed Single-Walled Carbon Nanotube Thin Film Transistor2011

    • 著者名/発表者名
      X.Yi, G.Nakagawa, H.Ozawa, T.Fujigaya, N.Nakashima, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 1266-1267

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Microjoining of LSI Chips on Poly(ethylene naphthalate) Using Compliant Bump2011

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda, T. Higashimachi, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 50 号: 6S ページ: 06GM05-06GM05

    • DOI

      10.1143/jjap.50.06gm05

    • NAID

      210000070770

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Suppressing Current Hysteresis of Solution-Processed Thin-Film Transistor Made of Single-Chirality Single-Walled Carbon Nanotube Networks2011

    • 著者名/発表者名
      X.Yi, H.Ozawa, G.Nakagawa, T.Fujigaya, N.Nakashima, T.Asano
    • 雑誌名

      Ext.Abs.2011 7th International Thin-Film Transistor Conference

      ページ: 41-41

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [雑誌論文] Investigation of Ni Metal Induced Lateral Crystallization with a-Si Film Thickness at Very Thin Extent2011

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Nakamae, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 1426-1427

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Ion Beam Bombardment Effect on Contacts in Solution-Processed Single-Walled Carbon Nanotube Thin Film Transistor2011

    • 著者名/発表者名
      X. Yi, G. Nakagawa, H. Ozawa, T. Fujigaya, N. Nakashima, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 50 号: 9R ページ: 98003-98003

    • DOI

      10.1143/jjap.50.098003

    • NAID

      210000071210

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Room-Temperature Cu-Cu Bonding in Ambient Air Achieved by Using Cone Bump2011

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 4

    • NAID

      10027782759

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Room-Temperature Cu-Cu Bonding in Ambient Air Achieved by Using Cone Bump2011

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda, T. Higashimachi, and T. Asano
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express

      巻: 4 号: 1 ページ: 16501-16501

    • DOI

      10.1143/apex.4.016501

    • NAID

      10027782759

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Suppressing Current Hysteresis of Solution-processed Thin Film Transistor Made of Single-chirality Single-walled Carbon Nanotube Networks2011

    • 著者名/発表者名
      X.Yi, G.Nakagawa, H.Ozawa, T.Fujigaya, N.Nakashima, T.Asano
    • 雑誌名

      Proceedings of the 7th International TFT Conference

      ページ: 41-41

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Low-Temperature Bonding of LSI Chips to Polymer Substrate using Au Cone Bump for Flexible Electronics2011

    • 著者名/発表者名
      T.Shuto, N.Watanabe, A.Ikeda, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Proceedings of the 61st Electronic Components and Technology Conference

      ページ: 1770-1774

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Impact on TFT Characteristics of Rapid Crystallization of Si Using Nickel-Metal Induced Lateral Crystallization2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nagata, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 1422-1423

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Single- Walled Carbon Nanotube Thin Film Transistor Fabricated Using Solution Prepared with 9,9-Dioctyfluorenyl-2, 7-diyl-Bipyridine Copolymer2011

    • 著者名/発表者名
      X. Yi, H. Ozawa, G. Nakagawa, T. Fujigaya, N. Nakashima, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 50 号: 7R ページ: 70207-70207

    • DOI

      10.1143/jjap.50.070207

    • NAID

      210000070810

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Selective Heating of Microbumps Using Microwave for Low Strain Heterogeneous Chip Stack Integration2011

    • 著者名/発表者名
      L.Qiu, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 68-69

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Investigation of Enhanced Impact Ionization in Uniaxially Strained Si n-Channel Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor2010

    • 著者名/発表者名
      S. Adachi, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49 号: 4S ページ: 04DC14-04DC14

    • DOI

      10.1143/jjap.49.04dc14

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] SWCNT TFT Made from Solution Process via PFOb Solubilizer2010

    • 著者名/発表者名
      X.Yi, H.Ozawa, G.Nakagawa, T.Fujigaya, N.Nakashima, T.Asano
    • 雑誌名

      Ext.Abs.2010 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai

      ページ: 46-47

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [雑誌論文] Investigation of Enhanced Impact Ionization in Uniaxially Strained Sin-Channel Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor2010

    • 著者名/発表者名
      S.Adachi, T.Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 49

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Effect of Argon/Hydrogen Plasma Cleaning on Electroless Ni Depositionon Small-Area Al Pads2010

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, K. Kajiwara, N. Watanabe, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49 号: 8S1 ページ: 08JA05-08JA05

    • DOI

      10.1143/jjap.49.08ja05

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] A Liquid-Phase Bonding for High Density Chip-Stack Interconnection2010

    • 著者名/発表者名
      L.Qiu, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Proceedings of the 2010 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai

      ページ: 36-37

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Low-Temperature and Low-Stress Micro-joining using Compliant Bump for Heterogeneous Integration2010

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, N.Watanabe
    • 雑誌名

      Proceedings of the 10th International Workshop on Microelectronics Assembling and Packaging

      ページ: 15-20

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Fabrication of Back-Side Illuminated Complementary Metal Oxide Semiconductor Image Sensor Using Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      N. Watanabe, I. Tsunoda, T. Takao, K. Tanaka, and T, Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49 号: 4S ページ: 04DB01-04DB01

    • DOI

      10.1143/jjap.49.04db01

    • NAID

      210000068182

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Nano-inkjet and Its Application to Metal-Induced Crystallization of a-Si for poy-Si TFT2010

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, Y.Ishida
    • 雑誌名

      Electrochemical Society Transactions

      巻: 33 ページ: 149-156

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [雑誌論文] Room-Temperature Bonding Using Mechanical Caulking Effect of Compliant Bumps for Chip-Stack Interconnection2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 49

    • NAID

      210000068183

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Fabrication of Back-Side Illuminated Complementary Metal Oxide Semiconductor Image Sensor Using Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, I.Tsunoda, T.Takao, K.Tanaka, T.Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 49

    • NAID

      210000068182

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Direct Bonding of LSI Chips to Flexible Substrate Using Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      T.Shuto, N.Watanabe, A.Ikeda T.Higashimachi, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Papers 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference

      巻: 23

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Effect of Argon/Hydrogen Plasma Cleaning on Electroless Ni Deposition on Small-Area Al Pads2010

    • 著者名/発表者名
      A.Ikeda, K.Kajiwara, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 49

    • NAID

      210000069047

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Thin Film Transistor Based on Single-Walled Carbon Nanotube with PFO-Bipy Polymer2010

    • 著者名/発表者名
      X.Yi, H.Ozawa, G.Nakagawa, T.Fujigaya, N.Nakashima, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Tech.Papers 2010 International Symposium on Active-Matrix Flat Panel Displays

      ページ: 65-68

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [雑誌論文] Direct Connection of LSI Chips to Polyethylene Naphthalate Using Au Cone Bump2010

    • 著者名/発表者名
      T.Shuto, N.Watanabe, A.Ikeda, T.Higashimachi, T.Asano
    • 雑誌名

      Proceedings of the 17th International Display Workshops

      ページ: 1717-1720

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Droplet Generation Behavior in Electrostatic Inkjet Patterning2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishida, M.Uotani, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.6th Int.Thin-Film Transistor Conf.

      ページ: 210-213

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [雑誌論文] Grain Filtering in MILC and Its Impact on Performance of n- and p-channel TFTs2010

    • 著者名/発表者名
      S.Nagata, G.Nakagawa, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Proceedings of the IEEE TENCON 2010

      ページ: 4-4

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [雑誌論文] Impact on TFT Performance of Patterning of a-Si Prior to MILC2010

    • 著者名/発表者名
      S.Nagata, G.Nakagawa, S.Kanoh, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.6th Int.Thin-Film Transistor Conf.

      ページ: 261-264

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [雑誌論文] Room-Temperature Bonding Using Mechanical Caulking Effect of Compliant Bumps for Chip-Stack Interconnection2010

    • 著者名/発表者名
      N. Watanabe, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49 号: 4S ページ: 04DB02-04DB02

    • DOI

      10.1143/jjap.49.04db02

    • NAID

      210000068183

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] High-frequency signal transmission characteristics of coplanar waveguides with cone bump interconnections2010

    • 著者名/発表者名
      A Ikeda, K.Kajiwara, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Proceeding of the IEEE Region 10 Conference (TENCON) 2010

      ページ: 2191-2195

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Room-Temperature Chip-stack Interconnection Using Compliant Bumps and Wedge-Incorporated Electrodes2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Proceedings of the 60th Electronic Components and Technology Conference

      ページ: 1763-1768

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Near-Infrared Image Sensor Fabricated Using Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, F.Hoashi, Y.Nagai, H.Inada, Y.Iguchi, T.Asano
    • 雑誌名

      Ext.Abstr.2010 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 1210-1211

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Deformation Analysis of Au Cone Bump in 3D LSI Stacking Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Higashimachi, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Papers 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference

      巻: 23

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Silicon Crystal Nano-Wires Produced by Metal-Induced Lateral Crystallization2009

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa, T, Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 48(To bepublished)

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Back-Side Illuminated CMOS Image Sensor Fabricated using Compliant Bump"2009

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, I.Tsunoda, T.Takao, K.Tanaka, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 90-91

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Compliant Bump Technology for Back-Side Illuminated CMOS Image Sensor2009

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, N.Watanabe, I.Tsunoda, Y.Kimiya, K.Fukunaga, M.Handa, H.Arao, Y.Yamaji, M.Aoyagi, T.Higashimachi, K.Tanaka, T.Takao, K.Matsumura, A.Ikeda, Y.Kuroki, T.Tsurushima
    • 雑誌名

      Proc. 2009 Int. Electronic Components and Techn ology Conference"

      ページ: 40-45

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Silicon Crystal Nanowires Produced by Metal-Induced Lateral Crystallization2009

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.48(掲載予定)

    • NAID

      210000066927

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Application of Compliant Bump to Stacking Ultra-thin Chips with High Number of Inter-chip Connections for Back-side Illuminated CMOS Image Sensor2009

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, I.Tsunoda, T.Asano
    • 雑誌名

      Ext. Abs. 2009 IMFEDK International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai

      ページ: 56-57

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Liquid Phase Bonding Using Au Compliant Bumps for Fine-Pitch Solder Bump Interconnection2009

    • 著者名/発表者名
      L.J.Qiu, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 366-367

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Investigation on Characteristic Variation of Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistor Using Laterally Grown Film2009

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, K. Watanabe, T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 48

    • NAID

      210000066433

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Investigation on Characteristic Variation of Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistor Using Laterally Grown Film2009

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, K. Watanabe, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys Vol.48

    • NAID

      210000066433

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Room-Temperature Large-Number Inter-Chip Connections using Mechani cal Caulking Effect of Compliant Bump2009

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 368-369

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] 3D-integration of a log spiral antenna onto a dual grating-gate plasmon-resonant terahertz emitter for high-directivity radiation2009

    • 著者名/発表者名
      H.C.Kang, T.Nishimura, T.Otsuji, T.Mori, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      EDISON : 16th Int. Conf. on Electron Dynamics i n Semiconductors, Optoelectronics and Nanostructures

      ページ: 239-239

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Self-Heating of Laterally Grown Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistor2009

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.48

    • NAID

      210000066424

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Study on impact ionization in uniaxially strained MOSFET2009

    • 著者名/発表者名
      S.Adachi, T.Asano
    • 雑誌名

      Ext. Abs. 2009 IMFEDK International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai

      ページ: 54-55

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] 3D-integration of a log spiral antenna onto a dual grating-gate plasmon -resonant terahertz emitter for high-directivity radiation2009

    • 著者名/発表者名
      H.C.Kang, T.Nishimura, T.Komori, T.Mori, N.Watanabe, T.Asano, T.Otsuj
    • 雑誌名

      Journal of Physics : Conference Series 193

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Integration of Compliant Bump with Through-Si-Via Technology andn It s Application to Backside Illuminated CMOS Image Sensor2009

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, N.Watanabe, I.Tsunoda, T.Takao, K.Tanaka, T.Hiagashimachi, Y.Yamaji, M Aoyagi, T.Kyotani, H.Arao, Y .Kimiya, K.Fukunaga, A.Ikeda, Y.Kuroki, T.Tsurushima
    • 雑誌名

      Proc. 2009 Int. Conf. Electronics Packaging

      ページ: 185-190

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Investigation on Enhanced Impact Ionizaion in Uniaxially Strained Si MOSFET2009

    • 著者名/発表者名
      S.Adachi, T.Asano
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 775-776

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Self-Heating of Laterally Grown Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistor2009

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe, T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 48

    • NAID

      210000066424

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Simulation and experiment of liquid-phase microjoining using cone-shaped compliant bump2009

    • 著者名/発表者名
      L.J.Qiu, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc. 2009 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices

    • NAID

      110007360182

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Investigation on Wet-Chemical Surface Cleaning of Au Bump for Low-Temperature Chip-Stack Bonding Using Compliant Bump2009

    • 著者名/発表者名
      T.Mori, N.Watanabe, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc. 2009 Int. Conf. Electronics Packaging

      ページ: 392-396

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [雑誌論文] Oriented Growth of Location-Controlled Si Crystal Grains by Ni Nano-Imprint and Excimer Laser Annealing2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys Vol.47 No.4

      ページ: 3036-3040

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Fabrication of a-Si Nano-Wires using UV Nano-Imprint Lithography and Its Crystallization Characteristics2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Proc. 7th Int. Conf. on Nanoimprint and Nanoprint Technology

      ページ: 76-77

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Investigation on Characteristic Variation of Polycrystalline-Si Thin Film Transistor Having Stripe Channels2008

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, K. Watanabe, T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 259-262

    • NAID

      110006792709

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Discussion on the Characteristic Variation of Laterally Grown Poly-Si TFT2008

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe, K. Akiyama, G. Nakagawa, T. Kudo and T. Asano
    • 雑誌名

      Proc.4th International TFT Conference

      ページ: 77-80

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] ストライプ型チャネルを持つ多結晶シリコン薄膜トランジスタの特性ばらつききの評価2008

    • 著者名/発表者名
      秋山浩司, 渡邊一徳, 浅野種正
    • 雑誌名

      信学技報 Vol.108 No.1

      ページ: 23-26

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Investigation on Characteristic Variation of Polycrystalline-Si Thin-Film Transistor Having Stripe Channels2008

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, K. Watanabe and T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 259-262

    • NAID

      110006792709

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Metal-Induced Crystallization of Si for Nano-Structure Formation(Invited)2008

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 雑誌名

      Collected Abs. 2008 RCIQE International Seminor on Advance Semiconductor Materials an Devices

      ページ: 10-11

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Fabrication of a-Si Nano-Wires using UV Nano-Imprint Lithography and Its Crystallization Characteristics2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa, T. Asano
    • 雑誌名

      Proc. 7th Int. Conf. on Nanoimprint and Nanoprint Technology

      ページ: 76-77

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Droplet Ejection Behavior in Electrostatic Inkjet Driving2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, K. Sogabe, S. Kai, T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 47

      ページ: 5281-5286

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Silicon Crystal Nano-Wires Produced by Metal-Induced Lateral Crystallization2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Papers, The 21th Int. Microprocesses and Nanotechnology Conference

      ページ: 546-547

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Droplet Ejection Behavior in Electrostatic Inkjet Driving2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, K. Sogabe, S. Kai, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.47 No.6

      ページ: 5281-5286

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Self-Heating of Laterally-Grown Poly-Si Thin-Film Transisotor2008

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe, T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 15h Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 159-162

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Oriented Growth of Location-Controlled Si Crystal Grains by Ni Nano-Imprint and Excimer Laser Annealing2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa, T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 47

      ページ: 3036-3040

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Silicon Crystal Nano-Wires Produced by Metal-Induced Lateral Crystallization2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa, T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Papers, 21st Int'l Conf. Microprocesses and Nanotechnology Conference

      ページ: 546-547

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Self-Heating of Laterally Grown Polycrystalline Si TFT2008

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe and T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 165-168

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Discusson on the characterlstic variation of laterally grown poly-Si TFT2008

    • 著者名/発表者名
      K.Watanabe, K. Akiyama, G.Nakagawa, T.Asano and T.Kudo
    • 雑誌名

      Proc.4th Int. TFT Conference

      ページ: 77-80

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Application of Electrostatic Inkjet Printing to Ni-Nano-Particles Induced Crystallization of a-Si2007

    • 著者名/発表者名
      Y.Iahida, G. Nakagawa, and T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Tech.Papers, The 14th Int. Workshopon Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 267-270

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Nickel Metal Induced Lateral Crystallization of Patterned Amorphous Silicon Thin Film2007

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Materials Science Forum Vols.561-565

      ページ: 1149-1152

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Droplet Ejection Behavior in Electrostatic Inkjet Driving2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, K. Sogabe, S. Kai and T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Papers, The 20th Int. Microprocesses and Nanotechnology Conference

      ページ: 384-385

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Characterization of Grain Boundary Effect on TFT Fabricated on Laterally Grown poly-Si Film2007

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, K. Watanabe, K. Akiyama, G. Nakagawa and T. Kudo
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 14th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 195-198

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Oriented Growth of Location-Controlled Si Crystal Grains Using Ni Nano-Imprint and Excimer Laser Annealing2007

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Ext. Abstr, 2007 Int. Conf. on Solid State Devices and Materials

      ページ: 790-791

    • NAID

      10022550685

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Inkjet-Printed Metal-Collid-Induced Crysatallization of Amorphous Sllicon2007

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishida, G. Nakagawa and T.Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 46,3B

      ページ: 1263-1267

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Thin-Film Grains Using Metal nano-lmprint Seeding of Laser Annealing2007

    • 著者名/発表者名
      T.Asano and G.Nakagawa
    • 雑誌名

      Proc.3rd International TFT Conference

      ページ: 74-77

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Ni-imprint induced solid-phase crystallization in Sil-xGex(x:0-1) on insulator2007

    • 著者名/発表者名
      K.ToKo, H. Kanno, A. Kenjo, T.Sadoh, T.Asano and M.Miyao
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett. 91

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Inkjet-Printed Metal-Colloid-Induced Crystallization of Amorphous Amorphous Silicon2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.46No.3B

      ページ: 1263-1267

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Catalytic Effect of Ni in Crystallization of Amorphous SiGe Films by Imprint Technique2007

    • 著者名/発表者名
      K.Toko, H. Kanno, A. Kenjo, T.Sadoh, T.Asano and M.Miyao
    • 雑誌名

      Dig.Tech.Papers, The 14th Int.Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 275-278

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Droplet Ejecton Behavior in Electrostatic Inkjet Driving2007

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishida, K. Sogabe, S. Kai and T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Papers, 20th Int'l Conf.Microprocessesand Nanotechnology Conference

      ページ: 384-385

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Low-Temperature Source/Drain Contact Formation Using Silicidation Induced Activation of Implanted Impurities2007

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, M. Esaki and G. Nakagawa
    • 雑誌名

      Ext. Abstr, The 5th Int. Symp. on Control of Semiconductor Interfaces

      ページ: 199-200

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Inkjet Printing of Nickel Nanosized Particles for Metal-Induced Nanosized Particles for Metal-Induced2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa, and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.46 No.9B

      ページ: 6437-6443

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Characterization of Grain Boundary Effect on TFT Fabricated on LaterallyGrown poly-Si Film2007

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, K. Watanabe, K.Akiyama, G. Nakagawa and T. Kudo
    • 雑誌名

      Dig.Tech.Papers, 14th lnt'l Active-Matrix Flat-Panel Displays and Devices

      ページ: 195-198

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Application of Electrostatic Inkjet Printing to Ni-Nano-Particles Induced Crystallization of a-Si2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 14th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 267-270

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Inkjet Printing of Nickel Nanosized Particles for Metal-lnduced Crystallization of Amorphous Silicon2007

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishida, G. Nakagawa and T.Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 46,9B

      ページ: 6437-6443

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Orientpd Growth of Location-Controlled Si Crystal Grains Using Ni Nano-imprint and Excimed Laser Annealing2007

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa and T.Asano
    • 雑誌名

      Ext.Abs.2007 Int'l Conf.Solid State Devices and Materials

      ページ: 790-791

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Low-Temperature Source/Drain Contact Formation Using SiHcidaton Induced Activation of Implanted Impurities2007

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, M. Esaki and G.Nakagawa
    • 雑誌名

      Ext. Abs. 5th Int'l Symposium on Control of Semiconductor Interfaces

      ページ: 199-200

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Thin-Film Grains Using Metal Nano-Imprint Seeding of Laser Annealing2007

    • 著者名/発表者名
      T. Asano and G. Nakagawa
    • 雑誌名

      Proc. 3rd International TFT Conference

      ページ: 74-77

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] 静電型インクジェットによる微細液滴吐出とSi の金属誘起固相結晶化への応用2007

    • 著者名/発表者名
      石田雄二, 中川豪, 浅野種正
    • 雑誌名

      信学技報 Vol.107 No.13

      ページ: 5-10

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Thin-Film Grains Using Metal Nano-Imprint Seeding of Laser Annealing (Invited)2007

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, G.Nakagawa
    • 雑誌名

      Proc. 2007 International TFT Conference (in press)

      ページ: 74-77

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Grains by Combining Metal-Induced Lateral Crystallization and Excimer Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      N.Higashi, G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 4373-4350

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location Control of Si Thin-Film Grain Using Ni Imprint and Excimer Laser Annnealing2006

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Jpn.J.Applied Physics Vol.45, No5B(印刷中)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Orientation Control of Location-Controlled Si Crystal Grain by Combining Ni Nano-Imprint and Excimer Laser Annealing with Si Double-Layer Process2006

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.45 No.49

    • NAID

      10018461137

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Orientation Control of Location-Controlled Si Crystal Grain by Combining Ni Nao-Imprint and Excimer Laser Annealing with Si Double-Layer Process2006

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location Control of Si Thin-Film Grain Using Ni Imprint and Excimer Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 4335-4399

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Inkjet Printing of Ni Nano-Size-Particles for Metal Induced Crystallization of Amorphous Si2006

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Papers, The 19th Int. Microprocesses and Nanotechnology Conference

      ページ: 336-337

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Inkjet-Printed Ni-Colloid Induced Crystallization of Amorphous Si2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishida, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 13th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 54-51

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] ELA of MILC Si Film on Pit Substrate for Location and Orientation Control of Crystal Grain2006

    • 著者名/発表者名
      N.Higashi, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.2nd INternational TFT Conference

      ページ: 218-221

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] TFT Characterization of Laterally Grown Polycrystalline Si Film Prepared Using Double-Pulse Laser Scanning2006

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, K.Watanabe, M.Esaki, G.Nakagawa, S.Sakuragi, T.Kudo, K.Yamasaki
    • 雑誌名

      Proc.2nd International TFT Conference

      ページ: 154-157

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Grain by Combining Metal-Induced Lateral Crystallization and Excimed Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      N.Higashi, G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Jpn.J.Applied Physics Vol.45, No5B(印刷中)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] 固相とレーザーの組み合わせ結晶化による結晶方位制御の可能性2006

    • 著者名/発表者名
      浅野種正, 中川豪
    • 雑誌名

      レーザー研究 第34 巻第10 号

      ページ: 684-688

    • NAID

      10018312187

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Grain by Combining Metal-Induced Lateral Crystallization and Excimed Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      N.Higashi, G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Jpn.J.Applied Physics Vol.45,No5B

      ページ: 4347-4350

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Low Temperature Formation of Source and Drain Using Snow Plow Effect of Silicidation2006

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, M. Esaki and G. Nakagawa
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 13th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 31-34

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location Control of Si Thin-Film Grain Using Ni Imprint and Excimer Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Jpn.J.Applied Physics Vol.45,No5B

      ページ: 4335-4339

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location Control of Si Thin-Film Grain Using Ni Imprint and Excimer Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa, T. Asano, and M. Miyasaka
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.45 No.5B

      ページ: 4335-4339

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Grain by Combining Metal-Induced Lateral Crystallization and Excimer Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      N. Higashi, G. Nakagawa, T. Asano, M. Miyasaka, and J. Stoemenos
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.45 No.5B

      ページ: 4347-4350

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] ダブルパルスレーザー走査法による多結晶Si結晶粒の横方向成長とTFT 特性2006

    • 著者名/発表者名
      渡邉一徳, 江崎真彦, 中川豪, 浅野種正, 櫻木進, 工藤利雄
    • 雑誌名

      信学技報 Vol.106 No.5

      ページ: 19-22

    • NAID

      110004718825

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] 固相とレーザーの組み合わせ結晶化による結晶方位制御の可能性2006

    • 著者名/発表者名
      浅野種正, 中川豪
    • 雑誌名

      レーザー研究 34

      ページ: 684-688

    • NAID

      10018312187

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Grain by Combining Metal-Induced Lateral Crystallization and Excimed Laser Annealing2006

    • 著者名/発表者名
      N.higashi, G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Jpn.J.Applied Physics Vol.45,No5B

      ページ: 4347-4350

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] ELA of MILC Si Film on Pit Substrate for Location and Orientation Control of Crystal Grain2006

    • 著者名/発表者名
      N.Higashi, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.2nd International TFT Conference

      ページ: 218-221

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Combination of Metal Nano-Imprint and Excimer Laser Annealing for Location Control of Si Thin-Film Grain2006

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol.910

      ページ: 503-508

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Lcation Control of Silicon Crystal Nucleation in Excimer Laser Annealing Using Metal Imprint Technology2006

    • 著者名/発表者名
      G.nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.2nd International TFT Conference

      ページ: 198-201

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Inkjet-Printed Ni-Colloid Induced Crystallization of Amorphous Si2006

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa and T. Asano
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 13th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 51-54

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Low Temperature Formation of Source and Drain Using Snow Plow Effect of Silicidation2006

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, M.Esaki, G.Nakagawa
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, The 13th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices

      ページ: 31-34

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Inkjet Printing of Ni Nano-Size Particles for Metal Induced Crystallization of Amorphous Si2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishida, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig. Papers, 2006 International Microprocess and Nanotechnology Conf.

      ページ: 336-337

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Properties of Ink-Droplet Formation in Double-Gate Electrospray2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Ishida, K.Sogabe, K.Hakiai, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 6475-6480

    • NAID

      40007382163

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [雑誌論文] Location Control of Silicon Crystal Nucleation in Excimer Laser Annealing Using Metal Imprint Technology2006

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.2nd International TFT Conference

      ページ: 198-201

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] TFT Charaterization of Laterally Grown Polycrystalline Si Film Prepared Using Double-Pulse Laser Scanning2006

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, K.Watanabe, M.Esaki, G.Nakagawa, S.Sakuragi, T.Kudo, K.Yamasaki
    • 雑誌名

      Proc.2nd International TFT Conference

      ページ: 154-157

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Effect of Plasma Gate Oxidation on Performance of Poly-Si TFT2005

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc. 2005 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices

      ページ: 155-158

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Grain by Combining Metal-Induced Lateral Crystallization and Excimed Laser Annealing2005

    • 著者名/発表者名
      N.Higashi, G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Dig.Tech.Papers, 2005 Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays

      ページ: 289-292

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Effects of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization of Si Films under Limited Ni-Supply Condition2005

    • 著者名/発表者名
      Gou Nakagawa, Noritoshi Shibata, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      IEICE Transactions on Electronics (印刷中)

    • NAID

      110003175597

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15651070
  • [雑誌論文] Effect of Plasma Gate Oxidation on Performance of Poly-Si TFT2005

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.2005 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices

      ページ: 155-158

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] TFT Characterization of Latrally Grown Polycrystalline Si Film Prepared Using Double-Pulse Laser Scanning2005

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, K.Watanabe, M.Esaki, G.Nakagawa, S.Sakuragi, T.Kudo, K.Yamasaki
    • 雑誌名

      Proc.2nd International TFT Conference

      ページ: 154-157

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Direct Comparison between Single-Grain Si-TFTs Formed by ELC and Random Poly-Si TFTs (Invited)2005

    • 著者名/発表者名
      H.Kumomi, C.Shin, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc. 1st Int. TFT Conf.

      ページ: 74-79

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location Control of Si Thin-Film Grain Using Ni Imprint and Excimer Laser Annealing2005

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Dig.Tech.Papers, 2005 Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays

      ページ: 163-166

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Effects of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization under Limited Ni-Supply Condition2005

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, N.Shibata, T.Asano
    • 雑誌名

      IEICE Trans. Electron. Vol.E88-C,No.4

      ページ: 662-666

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Direct Comparison between Single-Grain Si-TFTs Formed by ELC and Random Poly-Si TFTs (Invited)2005

    • 著者名/発表者名
      H.Kumomi, C.Shin, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.1st International TFT Conference

      ページ: 74-79

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location Control of Si Thin-Film Grain Using Ni Imprint and Excimer Laser Annnealing2005

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Dig.Tech.Papers, 2005 Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays

      ページ: 163-166

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location and Orientation Control of Si Grain by Combining Metal-Induced Lateral Crystallization and Excimed Laser Annealing2005

    • 著者名/発表者名
      N.Higashi, G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Palers, 2005 Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays

      ページ: 289-292

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Metal Nano-Imprint for Location Control of Si Thin-Film Grain in Excimer Laser Crystallization2005

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Papers, 4th Int.Conf.Nanoimprint and Nanoprint Technology

      ページ: 164-165

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location Control of Si Thin-Film Grain Using Ni Imprint and Excimer Laser Annnealing2005

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Dig. Tech. Papers, 2005 Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays

      ページ: 163-166

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Effects of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization under Limited Ni-Supply Condition2005

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, N.Shibata, T.Asano
    • 雑誌名

      IEICE Trans.Electron. Vol.E88-C, No.4

      ページ: 662-666

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Metal Nano-Imprint for Location Control of Si Thin-Film Grain in Excimer Laser Crystallization2005

    • 著者名/発表者名
      G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig. Papers, 4th Int. Conf. Nanoimprint and Nanoprint Technology

      ページ: 164-165

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Location Control of Crystal Grains in Excimer Laser Crystallization of Silicon Thin Films for Single-Grain TFTs2004

    • 著者名/発表者名
      Hideya Kumomi, Hiroaki Wakiyama, Gou Nakagawa, Kenji Makihira, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Mater.Res.Soc.Symp.Proc. 808

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Nanoimprint Controlled Crystallization of Si Thin Film (Invited)2004

    • 著者名/発表者名
      Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Abs.12th Int.Symposium on the Physics of Semiconductors and Applications

      ページ: 16-16

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Nano-Imprint Controlled Nucleation of Amorphous silicon for Single-Grain Thin Film Transistor2004

    • 著者名/発表者名
      Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Proc.7th China-Japan Symposium on Thin Films

      ページ: 50-53

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Single-Grain TFTs on Location Contorolled Crystal Grains Formed by Excimer Laser Crystallization of Si Thin Films2004

    • 著者名/発表者名
      H.Kumomi, C.Shin, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Tech. Dig. International Electron Devices Meeting

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Influence of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization under Ni Supply-Limited Condition2004

    • 著者名/発表者名
      N.Shibata, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Technical.Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 283-286

    • NAID

      110003175649

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Single-Grain TFTs on Location Controlled Crystal Grains Formed by Excimer Laser Crystallization of Si Thin Films2004

    • 著者名/発表者名
      H.Kumomi, C.Shin, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Tech.Dig.International Electron Devices Meeting

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Influence of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization under Ni Supply-Limited Condition2004

    • 著者名/発表者名
      Noritoshi Shibata, Gou Nakagawa, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Dig.Technical Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 283-286

    • NAID

      110003175649

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15651070
  • [雑誌論文] Ni供給量制限下におけるMILC成長に電界印加が及ぼす影響2004

    • 著者名/発表者名
      柴田憲利, 中川豪, 浅野種正
    • 雑誌名

      電子情報通信学会技術研究報告 ED2004-8

      ページ: 7-12

    • NAID

      110003175649

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15651070
  • [雑誌論文] Reduction of the Gate-Oxide/pol-Si Interface Roughness by Microwave-Plasma Oxidation and Its Impact on TFT Performance2004

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig. Technical Papers, Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 317-320

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Reduction of the Gate-Oxide/pol-Si Interface Roughness by Microwave-Plasma Oxidation and Its Impact on TFT Performance2004

    • 著者名/発表者名
      Chihiro Shin, Akiyoshi Baba, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Dig.Technical Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 317-320

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] シリコン薄膜の金属誘起固相結晶化における新現象2004

    • 著者名/発表者名
      浅野種正
    • 雑誌名

      日本学術振興会薄膜第131委員会研究会資料 223

      ページ: 43-48

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15651070
  • [雑誌論文] Influence of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization under Ni Supply-Limited Condition2004

    • 著者名/発表者名
      N.Shibata, G.Nakagawa, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig. Technical Papers, Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 283-286

    • NAID

      110003175649

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Reduction of the Gate -Oxidelpol-Si Interface Roughness by Microwave-Plasma Oxidation and Its Impact on TFT Performance2004

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Technical.Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 317-320

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Single-Grain TFTs on Location-Controlled Crystal Grains Formed by Excimer Laser Crystallization of Si Thin Films2004

    • 著者名/発表者名
      Hideya Kumomi, Chihiro Shin, Gou Nakagawa, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Tech.Dig.Int.Electron Devices Meeting

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Effects of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization of Si Films under Limited Ni-Supply Condition2004

    • 著者名/発表者名
      Gou Nakagawa, Noritoshi Shibata, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Proc.2004 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices

      ページ: 113-118

    • NAID

      110003175597

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15651070
  • [雑誌論文] Nano-Imprint Controlled Nucleation of Amorphous silicon for Single-Grain Thin Film Transistor2004

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 雑誌名

      Proc. 7th China-Japan Symposium on Thin Films

      ページ: 50-53

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Grain positioning using metal imprint technology for single-grain Si thin film transistor2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, M.Yoshii, T.Asano
    • 雑誌名

      Electronics and Communications in Japan, PartII : Electronics Vol.86

      ページ: 45-51

    • NAID

      110003181805

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Structural properties of nickel-metal-induced laterally crystallized silicon films and their improvement using excimer laser annealing2003

    • 著者名/発表者名
      M.Miyasaka, T.Shimoda, K.Makihira, T.Asano, B.Pecz, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol.42

      ページ: 2592-2599

    • NAID

      210000053368

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Pattern Dependent Growth in Metal Induced Crystallization of a-Si2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Dig.Technical.Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 125-128

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Structural properties of nickel-metal-induced laterally crystallized silicon films2003

    • 著者名/発表者名
      M.Miyasaka, K.Makihira, T.Asano, B.Pecz, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Solid State Phenomena Vol.93

      ページ: 213-218

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Growth of Si nanowire by using metal induced lateral crystallization2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, T.Asano
    • 雑誌名

      Solid State Phenomena Vol.93

      ページ: 207-212

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] High Performance TFTs for General Electronics (Invited)2003

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 雑誌名

      DIg. Technical Papers, Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 305-308

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] High Performance TFTs for General Electronics (Invited)2003

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Technical.Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 305-308

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] CMOS application of single-grain thin-film transistor produced using metal imprint technology2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, M.Yoshii, T.Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43,No.4B

      ページ: 1983-1987

    • NAID

      10010800885

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Growth of Si nanowire by usingmetal induced lateral crystallization2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, T.Asano
    • 雑誌名

      Solid State Phenomena Vol.93

      ページ: 207-212

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Grain positioning using metal imprint technology for single-grain Si thin film transistor2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, M.Yoshii, T.Asano
    • 雑誌名

      Electronics and Communications in Japan, Part II : Electronics Vol.86

      ページ: 45-51

    • NAID

      110003181805

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] CMOS application of single-grain thin-film transistor produced using metal imprint technology2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, M.Yoshii, T.Asano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol.43,No.4B

      ページ: 1983-1987

    • NAID

      10010800885

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Pattern Dependent Growth in Metal Induced Crystallization of a-Si2003

    • 著者名/発表者名
      K.Makihira, T.Asano, M.Miyasaka
    • 雑誌名

      Dig. Technical Papers, Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 125-128

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Structural properties of nicke-metal-induced laterally crystallized silicon films2003

    • 著者名/発表者名
      M.Miyasaka, K.Makihira, T.Asano, B.Pecz, J.Stoemenos
    • 雑誌名

      Solid State Phenomena Vol.93

      ページ: 213-218

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [産業財産権] 不純物導入装置、不純物導入方法及び半導体素子の製造方法2015

    • 発明者名
      池田晃裕,池上浩,浅野種正,井口研一,中澤治雄,関康和
    • 権利者名
      九州大学,富士電機(株)
    • 産業財産権種類
      特許
    • 公開番号
      2016-157911
    • 出願年月日
      2015-08-28
    • 取得年月日
      2016-09-01
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [産業財産権] レーザドーピング装置及びレーザドーピング方法2015

    • 発明者名
      大久保智幸,池上浩,池田晃裕,浅野種正,若林理
    • 権利者名
      ギガフォトン,九州大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2015-03-30
    • 外国
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [産業財産権] 不純物導入装置、不純物導入方法及び半導体素子の製造方法2015

    • 発明者名
      池田晃裕,池上浩,浅野種正 井口研一,中澤治雄,関康和
    • 権利者名
      富士電機,九州大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2015-035615
    • 出願年月日
      2015-02-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [産業財産権] レーザドーピング装置及びレーザドーピング方法2015

    • 発明者名
      大久保智幸,池上浩,池田晃裕,浅野種正,若林理
    • 権利者名
      九州大学,ギガフォトン(株)
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2015-03-23
    • 取得年月日
      2016-09-29
    • 外国
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [産業財産権] 不純物導入装置、不純物導入方法及び半導体素子の製造方法2015

    • 発明者名
      池田晃裕,池上浩,浅野種正 井口研一,中澤治雄,関康和
    • 権利者名
      富士電機,九州大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2015-035615
    • 出願年月日
      2015-02-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [産業財産権] 不純物導入方法及び半導体素子の製造方法2014

    • 発明者名
      池上浩,池田晃裕,浅野種正 井口研一、中澤治雄、関康和、松村徹
    • 権利者名
      富士電機,九州大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2014-174567
    • 出願年月日
      2014-08-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [産業財産権] 不純物導入方法及び半導体素子の製造方法2014

    • 発明者名
      池上浩,池田晃裕,浅野種正,井口研一,中澤治雄,関康和,松村徹
    • 権利者名
      九州大学,富士電機(株)
    • 産業財産権種類
      特許
    • 公開番号
      2016-051737
    • 出願年月日
      2014-08-28
    • 取得年月日
      2016-04-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [産業財産権] 不純物導入方法及び半導体素子の製造方法2014

    • 発明者名
      池上浩,池田晃裕,浅野種正 井口研一、中澤治雄、関康和、松村徹
    • 権利者名
      富士電機,九州大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2014-174567
    • 出願年月日
      2014-08-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [産業財産権] 電極バンナ及びその製造並びに接読方法2010

    • 発明者名
      浅野種正 渡辺直也
    • 権利者名
      科学技術振興機興
    • 出願年月日
      2010-03-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Low-temperature, high-concentration laser doping of 4H-SiC for low contact resistance2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kikuchi, K. Imokawa, A. Ikeda, D. Nakamura, T. Asano, H. Ikenoue
    • 学会等名
      SPIE Photonics West
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Room Temperature Processing of Low Resistance Contacts to p-type 4H-SiC Using Laser Doping2019

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, A. Ikeda, T. Kikuchi, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      International Conf. Silicon Carbide and Related Materials
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Formation of Low Resistance Contacts to p-type 4H-SiC Using Al-Film Source Laser Doping2019

    • 著者名/発表者名
      Kento Okamoto, Toshifumi Kikuchi, Akihiro Ikeda, Hiroshi Ikenoue, Tanemasa Asano
    • 学会等名
      7th International Conference on Photonics, Optics and Laser Technology (PHOTOPTICS 2019)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Laser doping for 4H-SiC power-device fabrication with laser pulse-duration controller2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kikuchi, K. Imokawa, A. Ikeda, D. Nakamura, T. Asano, H. Ikenoue
    • 学会等名
      International Congress on Photonics in Europe
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Al注入した4H-SiCへのレーザ照射によるAl拡散とシート抵抗の調査2018

    • 著者名/発表者名
      武藤 彰吾、池田 晃裕、池上 浩、浅野 種正
    • 学会等名
      第79回 応用物理学会秋期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] レーザードーピング法による4H-SiC低抵抗コンタクトの形成とレーザー照射損傷のパルス幅依存性2018

    • 著者名/発表者名
      菊地 俊文, 妹川 要, 池田 晃裕,中村 大輔,浅野 種正,池上 浩
    • 学会等名
      先進パワー半導体分科会講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] レーザードーピングによる4H-SiC:C面への低抵抗p型コンタクトの形成2018

    • 著者名/発表者名
      岡本 健人, 菊地 俊文, 池田 晃裕, 池上 浩, 浅野 種正
    • 学会等名
      第10回半導体材料・デバイスフォーラム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] SiCパワーデバイス製造用レーザードーピングシステムの開発2018

    • 著者名/発表者名
      菊地 俊文, 妹川 要, 池田 晃裕, 中村 大輔, 浅野 種正, 池上 浩
    • 学会等名
      第79回 応用物理学会秋期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] High-concentration, Low-temperature, and Low-cost Excimer Laser Doping for 4H-SiC Power Device Fabrication2018

    • 著者名/発表者名
      Kaname Imokawa, Toshifumi Kikuchi, Kento Okamoto, Daisuke Nakamura, Akihiro Ikeda, Tanemasa Asano, Hiroshi Ikenoue
    • 学会等名
      12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM 2018)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Development of Al thin-film-source laser doping for low resistance contacts to 4H-SiC2018

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, T. Kikuchi, S. Muto, A. Ikeda, H. Ikenoue, and T. Asano
    • 学会等名
      Proc. of The 3rd Asian Applied Physics Conference (AAPC 2018)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] レーザードーピングを用いた4H-SiC:C面への低抵抗p型コンタクトの形成2018

    • 著者名/発表者名
      岡本 健人、菊地 俊文、池田 晃裕、池上 浩、浅野 種正
    • 学会等名
      第79回 応用物理学会秋期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Increasing Laser-Doping Depth of Al in 4H-SiC by Using Expanded-Pulse Excimer Laser2018

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, T. Shimokawa , H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM 2018)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] SiC へのエキシマレーザ照射によるAl の再分布の調査2018

    • 著者名/発表者名
      武藤 彰吾, 池田 晃裕, 池上 浩, 浅野 種正
    • 学会等名
      平成31年度 応用物理学会九州支部学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] 4H-SiC へのレーザードーピング特性におけるパルス幅拡大の効果2018

    • 著者名/発表者名
      下川 高史, 池田 晃裕, 池上 浩, 浅野 種正
    • 学会等名
      平成30年度 応用物理学会九州支部学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Formation of low resistance contacts to p-type 4H-SiC by using laser doping with Al thin-film dopant source2018

    • 著者名/発表者名
      Kento Okamoto, Toshifumi Kikuchi, Akihiro Ikeda, Hiroshi Ikenoue, Tanemasa Asano
    • 学会等名
      Proc. of 31st International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2018)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Low-temperature, high-concentration laser doping of nitrogen to 4H-SiC for low-contact-resistance fabrication2018

    • 著者名/発表者名
      T. Kikuchi, K. Imokawa, A. Ikeda, D. Nakamura, T. Asano, H. Ikenoue
    • 学会等名
      2018 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2018)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] 4H-SiC中へのAlのレーザドーピングおけるドープ領域の調査2017

    • 著者名/発表者名
      池田 晃裕,角名 陸歩,筒井 良太,池上 浩,浅野 種正
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      横浜
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] SiNx膜レーザーアブレーションによる4H-SiCへの窒素ドーピングと窒素拡散機構に関する研究2016

    • 著者名/発表者名
      小島 遼太, 池上 浩, 諏訪 輝, 池田 晃裕, 中村 大輔, 浅野 種正, 岡田 龍雄
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京都
    • 年月日
      2016-03-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] 堆積薄膜へのレーザ照射による4H-SiCへのAlのドーピング特性2016

    • 著者名/発表者名
      角名 陸歩, 池田 晃裕, 池上 浩, 浅野 種正
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京都
    • 年月日
      2016-03-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Low Cost Fabrication of 4H-SiC Junction Barrier Schottky Diode Using Excimer-Laser Doping from Molten Al2016

    • 著者名/発表者名
      Tanemasa Asano
    • 学会等名
      42nd International Conference on Micro and Nano Engineering
    • 発表場所
      Wien, Austria
    • 年月日
      2016-09-19
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16H02342
  • [学会発表] Improvement in contact resistance of 4H-SiC by excimer laser doping using silicon nitride films2016

    • 著者名/発表者名
      R. Kojima, H. Ikenoue, T. Suwa, A. Ikeda, Daisuke Nakamura, T. Asano, Tatsuo Okada
    • 学会等名
      SPIE Photonics West
    • 発表場所
      San Francisco
    • 年月日
      2016-02-15
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] SiNx膜レーザーアブレーションによる4H-SiCへの窒素ドーピング及び電気特性評価2016

    • 著者名/発表者名
      小島 遼太, 池上 浩, 諏訪 輝, 池田 晃裕, 中村 大輔, 浅野 種正, 岡田 龍雄
    • 学会等名
      レーザー学会学術講演会第 36 回年次大会
    • 発表場所
      名古屋市
    • 年月日
      2016-01-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Increased Doping Depth of Al in Wet- chemical Laser Doping of 4H-SiC by Expanding Laser Pulse2016

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Marui, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      7th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces and International SiGe Technology and Device Meeting
    • 発表場所
      名古屋
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] 堆積薄膜へのレーザ照射による4H-SiCへのAlのドーピング特性2016

    • 著者名/発表者名
      角名 陸歩, 池田 晃裕, 池上 浩, 浅野 種正
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2016-03-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] SiNx膜レーザーアブレーションによる4H-SiCへの窒素ドーピングと窒素拡散機構に関する研究2016

    • 著者名/発表者名
      小島 遼太, 池上 浩, 諏訪 輝, 池田 晃裕, 中村 大輔, 浅野 種正, 岡田 龍雄
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2016-03-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] SiNx膜レーザーアブレーションによる4H-SiCへの窒素ドーピング及び電気特性評価2016

    • 著者名/発表者名
      小島 遼太, 池上 浩, 諏訪 輝, 池田 晃裕, 中村 大輔, 浅野 種正, 岡田 龍雄
    • 学会等名
      レーザー学会学術講演会第 36 回年次大会
    • 発表場所
      名古屋
    • 年月日
      2016-01-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] Thickness dependence of doping characteristic in Al doping into 4H-SiC by laser irradiation to deposited Al film2016

    • 著者名/発表者名
      R. Sumina, A. Ikeda, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
    • 発表場所
      函館
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Effects of Substrate Heating on Al Doping Performed by Irradiating Laser Beam to Al Film on 4H-SiC2016

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, R. Tsutsui, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      European Conference on Silicon Carbide & Related Materials
    • 発表場所
      Halkidiki, Greece
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Improvement in contact resistance of 4H-SiC by excimer laser doping using silicon nitride films2016

    • 著者名/発表者名
      R. Kojima, H. Ikenoue, T. Suwa, A. Ikeda, Daisuke Nakamura, T. Asano, Tatsuo Okada
    • 学会等名
      SPIE Photonics West
    • 発表場所
      San Francisco
    • 年月日
      2016-02-15
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] Local nitrogen doping in 4H-SiC by laser irradiation in atmospheric-pressure plasma2015

    • 著者名/発表者名
      R. Kojima, H. Ikenoue, Yosuke Watanabe, A. Ikeda, Daisuke Nakamura, T. Asano, T. Okada
    • 学会等名
      SPIE Photonics West
    • 発表場所
      サンフランシスコ
    • 年月日
      2015-02-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] Local nitrogen doping in 4H-SiC by laser irradiation in atmospheric-pressure plasma2015

    • 著者名/発表者名
      R. Kojima, H. Ikenoue, Yosuke Watanabe, A. Ikeda, Daisuke Nakamura, T. Asano, T. Okada
    • 学会等名
      SPIE Photonics West
    • 発表場所
      サンフランシスコ
    • 年月日
      2015-02-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] 堆積Al薄膜へのレーザー照射による4H-SiCへのAlドーピング2015

    • 著者名/発表者名
      角名 陸歩, 池田 晃裕, 浅野 種正
    • 学会等名
      薄膜材料デバイス研究会
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2015-10-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] Al doping from laser irradiated Al film deposited on 4H‐SiC2015

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      16th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials
    • 発表場所
      Giardini Naxos
    • 年月日
      2015-10-05
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Al Doping of 4H-SiC by Laser Irradiation to Coated Film and Its Application to Junction Barrier Schottky Diode2015

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      Int. Conf. Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      札幌
    • 年月日
      2015-09-28
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] 堆積Al薄膜へのレーザー照射による4H-SiCへのAlドーピング2015

    • 著者名/発表者名
      角名 陸歩, 池田 晃裕, 池上 浩, 浅野 種正
    • 学会等名
      薄膜材料デバイス研究会
    • 発表場所
      京都市
    • 年月日
      2015-10-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Al doping from laser irradiated Al film deposited on 4H‐SiC2015

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      16th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials
    • 発表場所
      Giardini Naxos
    • 年月日
      2015-10-05
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] Al Doping of 4H-SiC by Laser Irradiation to Coated Film and Its Application to Junction Barrier Schottky Diode2015

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      SSDM 2015
    • 発表場所
      札幌市
    • 年月日
      2015-09-28
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] 表面に堆積したAl薄膜へのレーザ照射による4H-SiCへのp型ドーピング2015

    • 著者名/発表者名
      池田 晃裕、角名 陸歩、池上 浩、浅野 種正
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      平塚市
    • 年月日
      2015-03-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Nitrogen doping of 4H-SiC by excimer laser irradiation in liquid nitrogen2014

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      2014 Int'l. Conf. Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      つくば市
    • 年月日
      2014-09-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] 溶液中レーザー照射でAl をドーピングした4H-SiC のコンタクト抵抗の評価2014

    • 著者名/発表者名
      吉田瞭太, 池田晃裕, 丸井大地, 池上浩, 浅野種正
    • 学会等名
      平成26年度応用物理学会九州支部学術講演会
    • 発表場所
      大分市
    • 年月日
      2014-12-06
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Nitrogen doping of 4H-SiC by excimer laser irradiation in liquid nitrogen2014

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      SSDM 2014
    • 発表場所
      つくば市
    • 年月日
      2014-09-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] KrFエキシマレーザーの液体窒素中照射による4H-SiCへのNのドーピング2014

    • 著者名/発表者名
      丸井大地,池田晃裕,池上浩,浅野種正
    • 学会等名
      第75回 応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      札幌市
    • 年月日
      2014-09-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Extremely Enhanced Diffusion of Nitrogen in 4H-SiC Observed in Liquid-Nitrogen Immersion Irradiation of Excimer Laser2014

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Mrui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      10th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials
    • 発表場所
      Grenoble, France
    • 年月日
      2014-09-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] Extremely Enhanced Diffusion of Nitrogen in 4H-SiC Observed in Liquid-Nitrogen Immersion Irradiation of Excimer Laser2014

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      10th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials
    • 発表場所
      グルノーブル
    • 年月日
      2014-09-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] 大気圧窒素プラズマ中レーザー照射による4H-SiC中への窒素ドーピング2014

    • 著者名/発表者名
      小島遼太,池上浩,渡邊陽介,池田晃裕,中村大輔,浅野種正,岡田龍雄
    • 学会等名
      第75回 応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      札幌市
    • 年月日
      2014-09-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26420309
  • [学会発表] High-Density Room-Temperature Bonding of LSI Chips on Plastic Film Using Cone Bump2013

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, K. Iwanabe, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of the 9th International Thin-Film Transistor Conference
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Room-Temperature High-Density Interconnection using Ultrasonic Bonding of Cone Bump for Heterogeneous Integration2013

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, K. Iwanabe, Li Jing Qiu, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of the 63rd Electronic Components and Technology Conference
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Room-Temperature Micro- joining Using Ultrasonic Bonding of Compliant Bump2012

    • 著者名/発表者名
      K. Iwanabea, T. Shutoa, K. Nodab, S. Nakaib, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of IEEE International Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Ultrasonic Bonding of Cone Bump for Integration of LSIs in Flexible Electronics2012

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, K. Iwanabe, K. Noda, S. Nakai, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of International Conference on Flexible and Printed Electronics 2012
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] "Deformation Analysis of Au Cone Bump in 3D LSI Stacking2012

    • 著者名/発表者名
      N. Watanabe, T. Higashimachi, and T. Asano
    • 学会等名
      Dig.Papers International Microprocesses and Nanotechnology Conference2012
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Room Temperature Microjoining of qVGA Class Area-Bump Array Using Cone Bump2012

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, K. Iwanabe, L. Qiu, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of IEEE CPMT Society Japan Chapter 2012
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Phosphorus Doping of 4H-SiC by KrF Excimer Laser Irradiation in Phosphoric Solution2012

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, K. Nishi, and T. Asano
    • 学会等名
      Ext. Abstr. International Conference on Solid State Devices and Materials 2012
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] High Density Interconnect Technology for Heterogeneous 3D-LSI2011

    • 著者名/発表者名
      Tanemasa Asano
    • 学会等名
      ITRI-KU Joint Symposium
    • 発表場所
      Hsinchu(Invited)
    • 年月日
      2011-09-29
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Low-temperature bonding of LSI chips to PEN film using Au cone bump for heterogeneous integration2011

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of 3D Systems Integration Conference 2011
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Low-Temperature Bonding of LSI Chips to Polymer Substrate using Au Cone Bump for Flexible Electronics2011

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of the 61st Electronic Components and Technology Conference 2011
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] 異種材料・機能のマイクロ接合技術2011

    • 著者名/発表者名
      浅野種正
    • 学会等名
      デザインガイア2011
    • 発表場所
      宮崎(招待講演)
    • 年月日
      2011-11-29
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Room temperature bonding of LSI chips on PEN film using mechanical caulking of Au cone bump2011

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda, and T. Asano
    • 学会等名
      Ext. Abstr. International Conference on Solid State Devices and Materials 2011
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] High frequency signal transmission characteristics of cone bump interconnections2011

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, N. Watanabe, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of 3D Systems Integration Conference 2011
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Self-heating issue of poly-Si TFT on glass substrate2011

    • 著者名/発表者名
      Tanemasa Asano
    • 学会等名
      Semiconductor Technology for Ultra Large Scale Integrated Circuits and Thin Film Transistors III" (ULSI-TFT III)
    • 発表場所
      Hong-Kong(Invited)
    • 年月日
      2011-06-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] A Liquid-Phase Bonding for High Density Chip-Stack Interconnection2010

    • 著者名/発表者名
      L.Qiu, N.Watanabe, T.Asano
    • 学会等名
      2010 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai (IMFEDK 2010)
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      2010-05-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Nano Imprint Technology for Metal Induced Crystallization of Silicon and TFT Application2010

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 学会等名
      Materials Research Society 2010 Spring Meeting
    • 発表場所
      San Francisco(Invited)
    • 年月日
      2010-04-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [学会発表] Deformation Analysis of Au Cone Bump in 3D LSI Stacking Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Higashimachi, T.Asano
    • 学会等名
      23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2010)
    • 発表場所
      北九州
    • 年月日
      2010-11-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Room-Temperature Chip-stack Interconnection Using Compliant Bumps and Wedge-Incorporated Electrodes2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Asano
    • 学会等名
      60th Electronic Components and Technology Conference (ECTC2010)
    • 発表場所
      Orland
    • 年月日
      2010-06-02
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Low-Temperature and Low-Stress Micro-joining using Compliant Bump for Heterogeneous Integration2010

    • 著者名/発表者名
      T.Asano, N.Watanabe
    • 学会等名
      10th International Workshop on Microelectronics Assembling and Packaging (MAP2010)
    • 発表場所
      福岡
    • 年月日
      2010-11-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Direct Connection of LSI Chips to Polyethylene Naphthalate Using Au Cone Bump2010

    • 著者名/発表者名
      T.Shuto, N.Watanabe, A.Ikeda, T.Higashimachi, T.Asano
    • 学会等名
      7th International Display Workshops (IDW'10)
    • 発表場所
      福岡
    • 年月日
      2010-12-02
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Direct Connection of LSI Chips to Polyethylene Naphthalate Using Au Cone Bump2010

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda, T. Higashimachi, and T. Asano
    • 学会等名
      Proceedings of the 17th International Display Workshops
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Nano-inkjet and Its Application to Metal-Induced Crystallization of a-Si for poy-Si TFT2010

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 学会等名
      218^<th> Electrochemical Society Meeting
    • 発表場所
      Las Vegas(Invited)
    • 年月日
      2010-10-12
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21656006
  • [学会発表] Direct Bonding of LSI Chips to Flexible Substrate Using Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      T.Shuto, N.Watanabe, A.Ikeda, T.Higashimachi, T.Asano
    • 学会等名
      23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2010)
    • 発表場所
      北九州
    • 年月日
      2010-11-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Direct Bonding of LSI Chips to Flexible Substrate Using Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      T. Shuto, N. Watanabe, A. Ikeda, T. Higashimachi, and T. Asano
    • 学会等名
      Dig. Papers International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2010
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] High-frequency signal transmission characteristics of coplanar waveguides with cone bump interconnections2010

    • 著者名/発表者名
      A Ikeda, K.Kajiwara, N.Watanabe, T.Asano
    • 学会等名
      IEEE Region 10 Conference (TENCON) 2010
    • 発表場所
      福岡
    • 年月日
      2010-11-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Near-Infrared Image Sensor Fabricated Using Compliant Bump2010

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, F.Hoashi, Y.Nagai, H.Inada, Y.Iguchi, T.Asano
    • 学会等名
      2010 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2010)
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2010-09-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Compliant Bump Technology for Back-Side Illuminated CMOS Image Sensor2009

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 学会等名
      2009 Int. Electronic Components and Technology Conference
    • 発表場所
      San Diego
    • 年月日
      2009-05-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Integration of Compliant Bump with Through-Si-Via Technology andn Its Application to Backside Illuminated CMOS Image Sensor(Invited)2009

    • 著者名/発表者名
      T.Asano
    • 学会等名
      2009 Int. Conf. Electronics Packaging
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2009-04-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21246061
  • [学会発表] Fabrication of a-Si Nano-Wires using UV Nano-Imprint Lithography and Its Crystallization Characteristics2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa, T. Asano
    • 学会等名
      The 7th Int. Conf. on Nanoimprint and Nanoprint Technology
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2008-10-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Silicon Crystal Nano-Wires Produced by Metal-Induced Lateral Crystallization2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      The 21th Int. Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      福岡
    • 年月日
      2008-10-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Self-Heating of Laterally Grown Polycrystalline Si TFT2008

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe, T. Asano
    • 学会等名
      The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flat panel Displays and Devices
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2008-07-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Self-Heating of Laterally Grown Polycrystalline Si TFT2008

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices pp.76-77
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2008-07-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] ストライプ型チャネルを持つ多結晶シリコン薄膜トランジスタの特性ばらつきの評価2008

    • 著者名/発表者名
      秋山浩司, 渡邊一徳, 浅野種正
    • 学会等名
      電子情報通信学会技術研究報告SDM2008-5
    • 発表場所
      沖縄
    • 年月日
      2008-04-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Investigation on Characteristic Variation of Polycrystalline-Si Thin-Film Transistor Having Stripe Channels2008

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, K. Watanabe, T. Asano
    • 学会等名
      The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flat panel Displays and Devices
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2008-07-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Self-Heating of Laterally Grown Polycrystalline Si TFT2008

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe and T. Asano
    • 学会等名
      The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2008-07-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Investigation on Characteristic Variation of Polycrystalline-Si Thin-Film Transistor Having Stripe Channels2008

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, K. Watanabe and T. Asano
    • 学会等名
      The 15th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2008-07-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Discussion on the Characteristic Variation of Laterally Grown Poly-Si TFT2008

    • 著者名/発表者名
      K. Watanabe, K. Akiyama, G. Nakagawa, T. Kudo and T. Asano
    • 学会等名
      The 4th International TFT Conference
    • 発表場所
      Seoul, Korea
    • 年月日
      2008-01-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Location and Orientation Control of Si Thin-Film Grains Using Metal Nano-Imprint Seeding of Laser Annealing2007

    • 著者名/発表者名
      T. Asano and G. Nakagawa
    • 学会等名
      The 3rd International TFT Conference
    • 発表場所
      Rome, Italy.
    • 年月日
      2007-01-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Low-Temperature Source/Drain Contact Formation Using Silicidation Induced Activation of Implanted Impurities2007

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, M. Esaki and G. Nakagawa
    • 学会等名
      The 5th Int. Symp. on Control of Semiconductor Interfaces, pp.199-200.
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2007-11-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] 静電型インクジェットによる微細液滴吐出とSi の金属誘起固相結晶化への応用2007

    • 著者名/発表者名
      石田雄二, 中川豪, 浅野種正
    • 学会等名
      電子情報通信学会技術研究報告ED2007-2
    • 発表場所
      福岡
    • 年月日
      2007-04-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Application of Electrostatic Inkjet Printing to Ni-Nano-Particles Induced Crystallization of a-Si2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      The 14th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      兵庫
    • 年月日
      2007-07-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Nickel Metal Induced Lateral Crystallization of Patterned Amorphous Silicon Thin Film2007

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      The 6th Pacific Rim Int. Conf. on Advanced Materials and Processing, S9-4-3
    • 発表場所
      Jeju, Jeju Island, Korea
    • 年月日
      2007-11-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Droplet Ejection Behavior in Electrostatic Inkjet Driving2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, K. Sogabe, S. Kai and T. Asano
    • 学会等名
      The 20th Int. Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2007-11-06
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Oriented Growth of Location-Controlled Si Crystal Grains Using Ni Nano-Imprint and Excimer Laser Annealing2007

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      2007 Int. Conf. on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      茨城
    • 年月日
      2007-09-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Characterization of Grain Boundary Effect on TFT Fabricated on Laterally Grown poly-Si Film2007

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, K. Watanabe, K. Akiyama, G. Nakagawa and T. Kudo
    • 学会等名
      The 14th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      兵庫
    • 年月日
      2007-07-12
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Combination of Metal Nano-Imprint and Excimer Laser Annealing for Location Control of Si Thin-Film Grain2006

    • 著者名/発表者名
      G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      2006 Materials Research Society Symp. Vol.910, A20.5.
    • 発表場所
      San Francisco, CA, USA.
    • 年月日
      2006-04-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] ダブルパルスレーザー走査法による多結晶Si結晶粒の横方向成長とTFT特性2006

    • 著者名/発表者名
      渡邉一徳, 江崎真彦, 中川豪, 浅野種正, 櫻木進, 工藤利雄
    • 学会等名
      電子情報通信学会技術研究報告 ED2006-4
    • 発表場所
      福岡
    • 年月日
      2006-04-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Inkjet-Printed Ni-Colloid Induced Crystallization of Amorphous Si2006

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      The 13th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2006-07-05
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Inkjet Printing of Ni Nano-Size-Particles for Metal Induced Crystallization of Amorphous Si2006

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishida, G. Nakagawa and T. Asano
    • 学会等名
      The 19th Int. Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      神奈川
    • 年月日
      2006-10-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Low Temperature Formation of Source and Drain Using Snow Plow Effect of Silicidation2006

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, M. Esaki and G. Nakagawa
    • 学会等名
      The 13th Int. Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2006-07-05
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18360025
  • [学会発表] Characteristic of pn Junction Formed in 4H-SiC by using Excimer-laser Processing in Phosphoric Solution

    • 著者名/発表者名
      A. Ikeda, K. Nishi, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      13th International Workshop on Junction Technology
    • 発表場所
      Kyoto
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] Aluminum Doping of 4H-SiC using Chemical Wet Laser Processing

    • 著者名/発表者名
      D. Marui, K. Nishi, A. Ikeda, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Sapporo
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] Formation of pn junction in 4H-SiC by irradiation of excimer laser in phosphoric solution

    • 著者名/発表者名
      K. Nishi, A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      2013 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
    • 発表場所
      Seoul
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • [学会発表] n- and p-type doping of 4H-SiC by wet-chemical laser processing

    • 著者名/発表者名
      K. Nishi, A. Ikeda, D. Marui, H. Ikenoue, T. Asano
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2013
    • 発表場所
      Miyazaki
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25289105
  • 1.  牧平 憲治 (10253569)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 12件
  • 2.  池田 晃裕 (60315124)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 72件
  • 3.  馬場 昭好 (80304872)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 5件
  • 4.  青木 誠志 (40231758)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  石原 宏 (60016657)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  宮里 達郎 (90029900)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  鈴木 正康 (70226554)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  西坂 美香 (50336096)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  林 健司 (50202263)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  羽原 正秋 (70372745)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  黒木 幸令 (40234596)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  田中 康一郎 (40253570)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 5件
  • 13.  金藤 敬一 (70124766)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 14.  比嘉 勝也 (40238259)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 15.  孫 勇 (60274560)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 16.  古川 静二郎 (60016318)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 17.  都甲 潔 (50136529)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 18.  中司 賢一 (50237252)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 19.  野田 和俊 (60357746)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 20.  服部 励治 (60221503)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 21.  江藤 信一 (80380591)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 22.  泉 龍介 (00423492)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 23.  佐道 泰造 (20274491)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 2件
  • 24.  権丈 淳 (20037899)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 2件
  • 25.  宮尾 正信 (60315132)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 2件
  • 26.  東町 高雄 (50461611)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 27.  小金丸 正明 (20416506)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 28.  内野 正和 (30416507)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 29.  糸平 圭一 (90463497)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 30.  池田 徹 (40243894)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 31.  宮崎 則幸 (10166150)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 32.  池上 浩 (70413862)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 19件
  • 33.  高嶋 授 (10226772)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 34.  會澤 康治 (40222450)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 35.  徳光 永輔 (10197882)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 36.  西谷 龍介 (50167566)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 37.  藤居 仁 (70133775)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 38.  高橋 厚史 (10243924)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 39.  八坂 哲雄 (80261238)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 40.  永山 邦仁 (20040446)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 41.  渡辺 直也 (10380734)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 3件
  • 42.  小間 篤 (00010950)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 43.  黎 暁紅 (30326459)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 4件
  • 44.  小西 直樹 (90284596)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 45.  SAHRAOUIーTAH ターハー エム
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 46.  JONES B.K.
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 47.  WIGMORE J.Ke
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 48.  KRIER Anthon
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 49.  JONES Brian
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 50.  WIGMORE Keit
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 51.  佐藤 勝
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 52.  中坪 信昭
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 53.  高尾 隆之
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 54.  黎 力
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 4件
  • 55.  MEREDITH Dav
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 56.  MEREDITH David j
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 57.  M.SAHRAOUI T
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 58.  J.KEITH Wigm
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 59.  TAHAR M.Sahr
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 60.  KRIER A.
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 61.  JONES R.K
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 62.  WIGMORE J.K
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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