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打木 久雄  UCHIKI Hisao

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 50142237
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2002年度 – 2005年度: 長岡技術科学大学, 工学部, 教授
1995年度: 長岡技術科学大学, 工学部, 助教授
1993年度: 長岡技術科学大学, 工学部, 助教授
1991年度: Nagaoka University of Technology, Assistant Professor
1989年度 – 1991年度: 長岡技術科学大学, 助教授
1989年度 – 1991年度: 長岡技術科学大学, 工学部, 助教授
1986年度 – 1987年度: 東京大学, 理学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
応用光学・量子光工学 / 応用物性 / 電子・電気材料工学 / 応用物性・結晶工学
研究代表者以外
生体物性学 / 電子・電気材料工学 / 応用物性・結晶工学 / 応用物性
キーワード
研究代表者
アモルファス半導体 / excited state absorption / calcium thiogallate / レーザ / 光利得 / 励起状態吸収 / カルシウムチオガレート / inverse-Raman spectroscopy / waveguide / amorphous C : H film … もっと見る / 反転ラマン分光法 / 光導波路 / レーザーアブレーション / カルコパイライト / 電子-ボンド相互作用 … もっと見る
研究代表者以外
CuAlO_2 / GaMnAs / GaAs-on-Si / Chlorophyl / Raman spectroscopy / Time-resolved / Picosecond / 黄化葉 / 光反応中間体 / ラマンスペクトル / プロトクロロフィリド・ホロクローム / 時間分解ラマン分光 / クロロフィル生合成 / ピコ秒 / 初期過程 / クロロフィル / ラマン分光法 / 時間分解 / oxide electronics / sputtering / reactive sputtering / thin films / p-type oxide / transparent conductive oxide / delafossite / レーザアニール / 酸化物エレクトロニクス / スパッタ / 反応性スパッタ / 薄膜 / p形酸化物 / 透明導電性酸化物 / デラフォサイト / low-temperature annealing / III-V diluted magnetic semiconductors / anomalous Hall effect / ferromagnetic transition temperature / heteroepitaxy / multi-step growth technique / 低温熱処理効果 / 多段階成長法 / アンチフェーズドメイン / 磁気抵抗 / 磁気異法性 / GaMnAs-on-Si / 低温熱処理 / III-V族希薄磁性半導体 / 異常ホール効果 / 強磁性転移温度 / ヘテロエピタキシー / 多段階成長 / Kerr Effect / Pockels Effect / Electromodulation Spectrum of Photoluminescence / Mach-Zehnder Interferometer / Fabry-Perot Interferometer / Polymer / Nonlinear Optical Effect / Electro-Optical Effect / 非線形感受率 / イオン性色素コンプレックス / 高分子薄膜 / ジエチルアミノニトロスチルベン / ポ-リング / ファブリ-・ペロ- / ポリジアセチレン / カ-効果 / ポッケルス効果 / 電場変調発光分光 / マッハ・ツェンダ-型干渉計 / ファブリ-ペロ-共振器 / 高分子 / 非線形光学効果 / 電気光学効果 隠す
  • 研究課題

    (8件)
  • 研究成果

    (1件)
  • 共同研究者

    (8人)
  •  Ce添加カルシウムチオガレート結晶の光利得特性とレーザ発振研究代表者

    • 研究代表者
      打木 久雄
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用光学・量子光工学
    • 研究機関
      長岡技術科学大学
  •  反応性スパッタ法による透明p型導電性三元酸化物の薄膜作製と評価

    • 研究代表者
      坪井 望
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      新潟大学
  •  III-V族希薄磁性半導体のSiヘテロエピタキシーとその制御に関する研究

    • 研究代表者
      内富 直隆
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2004
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      長岡技術科学大学
  •  カルコパイライト3元液体ターゲットのレーザーアブレーション過程と薄膜成長研究代表者

    • 研究代表者
      打木 久雄
    • 研究期間 (年度)
      1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      長岡技術科学大学
  •  アモルファス半導体の電子-ボンド相互作用のボンド選択励起法による研究研究代表者

    • 研究代表者
      打木 久雄
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      長岡技術科学大学
  •  強蛍光性アモルファス半導体薄膜の光導波路構造反転ラマン分光法の開発研究代表者

    • 研究代表者
      打木 久雄
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1990
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性
    • 研究機関
      長岡技術科学大学
  •  有機分子系の電気光学係数の新しい測定法

    • 研究代表者
      小林 孝嘉
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1991
    • 研究種目
      試験研究
    • 研究分野
      応用物性
    • 研究機関
      東京大学
  •  時間分解ラマン分光法によるクロロフィル生合成初期過程の研究

    • 研究代表者
      小林 孝嘉
    • 研究期間 (年度)
      1985 – 1987
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      生体物性学
    • 研究機関
      東京大学

すべて 2005

すべて 雑誌論文

  • [雑誌論文] Ce添加CaGa_2S_4結晶のナノ秒分光2005

    • 著者名/発表者名
      高山勝彦, 田中久仁彦, 打木久雄, 日高千晴, 滝沢武男
    • 雑誌名

      第66回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 66・3

      ページ: 1273-1273

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16560034
  • 1.  小林 孝嘉 (60087509)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  田中 久仁彦 (30334692)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 1件
  • 3.  吉澤 雅幸 (60183993)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  内富 直隆 (20313562)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  山崎 誠 (90174474)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  神保 良夫 (10134975)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  坪井 望 (70217371)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  小林 敏志 (30018626)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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