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座間 秀昭  ZAMA Hideaki

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

香間 秀昭  ザマ ヒデアキ

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研究者番号 50206033
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1989年度 – 1993年度: 東京工業大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
応用物性・結晶工学
キーワード
研究代表者
超平坦膜 / 超薄膜 / 分子マイブレーション / 低温成長 / YBa_2Cu_3O_X / 酸化物超伝導薄膜 / その場観察手法 / 化学的気相成長(CVD)法
研究代表者以外
MOCVD / 酸化物高温超伝導体 … もっと見る / 原子層エピタキシ- / エピタキシャル成長 / 高温超伝導 / 低温エピタキシャル成長 / 超伝導特性 / MOCVD法 / 光学的結晶成長モニター / 2次元結晶成長 / 原子層エピタキシー / その場観察 / 光学反射測定、 / 酸化物高温超伝導体、 / YBaCuO / 超伝導トランジスタ / Quantum Effect Devices / Ultra-Thin Film Crystal Growth / Electron Beam Lithography / Ultra-Fine Structure Processing / Superconductor Devices / Ultra-high speed devices / 量子効果デバイス / 超薄膜結晶成長 / 電子ビーム露光技術 / 極微細加工プロセス / 超伝導デバイス / 超高速デバイス / 原子層結晶成長 / 超薄膜 / 原子間力顕微鏡 / アダクツ、 / βジゲトン金属錯体、 / 原子層エピタキシー、 / 表面吸着 / 光学反射測定 / 表面吸着、 / 原子層エピタキシ-、 / 光アシスタントCVD 隠す
  • 研究課題

    (10件)
  • 共同研究者

    (8人)
  •  酸化物高温超伝導体の原子層エピタキシー成長表面の光学的観察と成長機構の解明

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  原子層CVD法による高温超伝導選択エピタキシャル多層ヘテロ接合の作製と特性評価

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  酸化物超伝導薄膜の化学的気相成長法における光を使った膜組成のその場観察手法の開発研究代表者

    • 研究代表者
      座間 秀昭
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  酸化物高温超伝導体の原子層エピタキシー成長表面の光学的観察と成長機構の解明

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1992
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  原子層CVD法による高温超伝導選択エピタキシャル多層ヘテロ接合の作製と特性評価

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1992
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  超薄膜超微細構造デバイスに関する研究

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      国際学術研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  酸化物高温超伝導体超薄膜のエピタキシャル多層成長と3端子デバイスへの応用

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1991
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  酸化物高温超伝導体の原子層エピタキシ-成長表面の光学的観察と成長機構の解明

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1991
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  酸化物高温超伝導体超薄膜のエピタキシャル多層成長と3端子デバイスへの応用

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1990
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  酸化物高温超伝導体超薄膜のエピタキシャル多層成長と3端子デバイスへの応用

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      1989
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  • 1.  小田 俊理 (50126314)
    共同の研究課題数: 9件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  松村 正清 (30110729)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  川合 真紀 (70177640)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  杉浦 修 (10187643)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  MILNE Willia
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  MOORE David
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  W I ミルン
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  D F ムーア
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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