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高橋 直行  TAKAHASHI Naoyuki

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 50242243
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2000年度 – 2003年度: 静岡大学, 工学部, 助教授
1997年度: 東京農工大学, 工学部, 助手
1994年度 – 1995年度: 東京農工大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
無機工業化学 / 無機材料・物性
研究代表者以外
応用物性・結晶工学 / 構造・機能材料 / 電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者
原子層エピタキシ- / 超精密天秤 / Tin nitride / Indium nitride / Iron nitride / Device / Opto-agilent / Electron spin resonance / Thin film / Interstitial-type metal nitride … もっと見る / 国際情報交換(英国:米国) / 大気圧ハライド気相成長 / 強磁性共鳴 / 光磁気記録 / 薄膜材料 / 窒化マンガン / 窒化スズ / 窒化インジウム / 窒化鉄 / デバイス / オプトアジレント / 電子スピン共鳴 / 薄膜 / 侵入型金属窒化物 / 結晶成長 / 表面吸着 / ガリウム砒素 / その場測定 / 自己停止機能 / 半導体薄膜 / キャリヤ-ガス / ガリウムヒ素 … もっと見る
研究代表者以外
GaAs / 化合物半導体 / その場測定 / reconstruction / In situ gravimetric monitoring / In situ monitoring / X-ray storage / UV emission / Long phosphorescence / Zinc oxide / Alkaline earth aluminate / High frequency EPR / Magnetic resonance / アルカリドルイ金属アルミネート / X線輝尽発光 / 紫外発光 / 長残光 / 酸化亜鉛 / アルカリ土類金属アルミネート / 高周波EPR / 磁気共鳴 / first principle calculation / surface photo absorption / adsorption with dissociation / surface reconstruction / in situ monitoring / hydrogen-chemisorption / ALE / マイクロバランス / 光 / As脱離 / 表面反応 / 第一原理計算 / 表面光吸収 / 解離吸着 / 表面再構成 / 水素吸着 / Atomic layr epitaxy (ALE) / In situ optical monitoring / 結晶成長 / 有機金属 / 気相成長 / III-V族半導体 / 原子層エピタキシ- / グラヴィメトリック法 / In situ gravimetric Monitoring / recorstruction / Atomic layer epitaxy / In situ optical Monitoring / その場作製 / 銀添加 / 薄膜 / 超伝導 / 化学的気相堆積法 / マイクロ波プラズマ / ミスト 隠す
  • 研究課題

    (7件)
  • 共同研究者

    (5人)
  •  オプトアジレント機能を有する侵入型金属窒化物薄膜材料の創製とデバイスへの応用研究代表者

    • 研究代表者
      高橋 直行
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      無機材料・物性
    • 研究機関
      静岡大学
  •  高機能酸化物発光材料の作製と磁気共鳴による局所構造の解明

    • 研究代表者
      中村 高遠
    • 研究期間 (年度)
      2000 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      構造・機能材料
    • 研究機関
      静岡大学
  •  マイクロバランスと光を用いたGaAs表面反応過程の原子・分子レベルのその場測定

    • 研究代表者
      纐纈 明伯
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      東京農工大学
  •  ミストを原料とするマイクロ波プラズマCVD法による超伝導薄膜の作製

    • 研究代表者
      関 壽
    • 研究期間 (年度)
      1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      東京農工大学
  •  超精密天秤による原子層エピタキシ-の成長メカニズムの研究研究代表者

    • 研究代表者
      高橋 直行
    • 研究期間 (年度)
      1994
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      無機工業化学
    • 研究機関
      東京農工大学
  •  有機金属原料を用いる原子層エピタキシ-のマイクロバランスによるその場観察

    • 研究代表者
      纐纈 明伯
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      東京農工大学
  •  超精密天秤による原子層エピタキシ-の成長メカニズムの研究研究代表者

    • 研究代表者
      高橋 直行
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      無機工業化学
    • 研究機関
      東京農工大学
  • 1.  関 壽 (70015022)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  纐纈 明伯 (10111626)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  中村 高遠 (10022287)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  太田 雅壽 (60092673)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  金光 義彦 (30185954)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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