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スニル ウィクラマナヤカ  SUNIL Wickramanayaka

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

SUNIL Wickra  SUNIL Wickramanayaka

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研究者番号 50252169
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1994年度 – 1995年度: 静岡大学, 電子工学研究所, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
電子・電気材料工学
研究代表者以外
電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者
Tetra-isocynate-silane / Hexamethyldisilane / SiO_2 / a-SiC: H / Remote plasma CVD
研究代表者以外
TEOS / Plasma CVD / hydrogen radical reaction / SiO2 film / Hexamethyldisilane … もっと見る / Silicon carbide film / Rimote plasma / Organo-silicon / プラズマCVD / 水素ラジカル反応 / SiO_2薄膜 / ヘキサメチルジシラン / シリコンカーバイド薄膜 / リモートプラズマ / 有機シリコン 隠す
  • 研究課題

    (2件)
  • 共同研究者

    (3人)
  •  ランタノイドを添加した光増幅酸化ケイ素薄膜の作成と評価研究代表者

    • 研究代表者
      スニル ウィクラマナヤカ
    • 研究期間 (年度)
      1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      静岡大学
  •  有機シリコン材料からの高品質ワイドギャップ半導体薄膜の作製

    • 研究代表者
      畑中 義式
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      静岡大学
  • 1.  畑中 義式 (60006278)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  中村 高遠 (10022287)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  中西 洋一郎 (00022137)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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