木下博雄 KINOSHITA Hiroo

研究者番号	50285334
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2015年度 – 2017年度: 兵庫県立大学, 産学連携・研究推進機構, 特任教授 2015年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 特任教授 2014年度: 兵庫県立大学, 産学連携機構, 特任教授 2010年度 – 2013年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 2004年度 – 2005年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 1998年度 – 2003年度: 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 2001年度: 姫路工業大学, 高度産業化学技術研究所, 教授
審査区分/研究分野	研究代表者量子ビーム科学 / 応用光学・量子光工学研究代表者以外応用光学・量子光工学 / 電子デバイス・電子機器 / 構造・機能材料
キーワード	研究代表者多層膜 / 軟X線光学定数 / 偏光 / 軟X線 / 軟Ｘ線 / PMMA / フォトダイオード / 反射率 / フィルター / 極端紫外線 … もっと見る / フォトレジスト / 吸収係数 / 透過率 / 光学定数 / Multilayer coating / Mirau Interferometer / Phase defect / Defect Inspection / EUV Lithography / Extreme Ultraviolet / X-ray microscope / ミラウ干渉計 / EUVリソグラフィー / 軟X線位相差顕微鏡 / ミラウ干渉 / 位相欠陥 / 欠陥検査 / EUVリソグラフィ / X線顕微鏡 … もっと見る研究代表者以外 EUVL / EUVリソグラフィ / 感度 / 半導体微細加工 / レジスト / 極端紫外線リソグラフィ / Wavefront error / Point Diffraction Interferometer / Lithography / Multilayer / Thin Film / Aspherical / Optical Element / Soft X-Rays / 表面粗さ / 内部応力 / X線 / 波面収差 / 点回折干渉法 / リソグラフィ / 多層膜 / 薄膜 / 非球面 / 光学素子 / 軟X線 / Spot diagram / Aberration analysis / Ray tracing / Telecentric optical system / Schwarzschild optics / Double-element optical system / Microfocus / シャバルツシルト光学系 / スポットダイアグラム / 収差解析 / 光線追跡 / テレセントリック光学系 / シュバルツシルト光学系 / 2素子光学系 / マイクロフォーカス / 軟Ｘ線吸収分光 / 高感度 / 金属レジスト / 化学増幅系レジスト / 非化学増幅系レジスト / 軟X線光電子分光 / アウトガス / LWR / 解像度 / EUVレジスト / 干渉霞光 / レジス / 微細加工技術 / 半導体 / line edge roughness / 化学増幅系 / 干渉露光 / 微細プロセス技術 / 拡散型 / 放射光 / ジルコニアセラミックス / 集合組織 / 変態 / イットリア / ジルコニア / バイオ / 中性子線回折 / アルミナ / インプラント材 / 相変態 / シンクロトロン放射光 / 部分安定化ジルコニア隠す

軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定研究代表者
- 研究代表者
  
  木下博雄
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  兵庫県立大学
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発
- 研究代表者
  
  渡邊健夫
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  兵庫県立大学
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成
- 研究代表者
  
  渡邊健夫
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  兵庫県立大学
極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察研究代表者
- 研究代表者
  
  木下博雄
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  応用光学・量子光工学
- 研究機関
  兵庫県立大学
   姫路工業大学
放射光によるジルコニアバイオセラミックスの擬似体液中でのその場相変態観察
- 研究代表者
  
  椿野晴繁
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2004
- 研究種目
  
  萌芽研究
- 研究分野
  
  構造・機能材料
- 研究機関
  兵庫県立大学
   姫路工業大学
薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製
- 研究代表者
  
  新部正人
- 研究期間 (年度)
  1999 – 2001
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用光学・量子光工学
- 研究機関
  姫路工業大学
マイクロフォーカス光学系設計法の研究
- 研究代表者
  
  波岡武
- 研究期間 (年度)
  1998 – 1999
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用光学・量子光工学
- 研究機関
  東北大学

すべて 2016 2015 2014 2013 2012 2011 2010 2008 2006 2005 2004 2003 その他

すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] Actual defect observation results of an extreme ultraviolet blank mask by coherent diffraction imaging2016
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Tsuyoshi Amano, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 9 ページ: 35202-35202
- NAID
  210000137831
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Phase Imaging Results of Phase Defect Using Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope2016
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Tsuyoshi Amano, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Micro-Nanolith. Mem
  
  巻: 15 ページ: 21007-21007
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of a reflectometer for a large EUV mirror in NewSUBARU2015
- 著者名/発表者名
  Haruki Iguchi, Hiraku Hashimoto, Masaki Kuki, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9658 ページ: 965819-965819
- オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015
- 著者名/発表者名
  Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 525-529
- NAID
  130005101110
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Phase Imaging Results of Phase Defect Using Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope2015
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Tsuyoshi Amano, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9635
- オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015
- 著者名/発表者名
  Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 530-536
- NAID
  130005101111
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Development of element technologies for EUVL2015
- 著者名/発表者名
  Hiroo Kinoshita, Takeo Watanabe and Tetsuo Harada
- 雑誌名
  
  Adv. Opt. Techn
  
  巻: 4(4) ページ: 319-331
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity　Achievement2014
- 著者名/発表者名
  Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino,Tsubasa Fukui, Daiju Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 27 ページ: 631-638
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Study of Acid Diffusion Behaviors of PAG by Using Top Coat Method for EUVL2014
- 著者名/発表者名
  Atsushi Sekiguchi, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 27 ページ: 623-629
- NAID
  130004691094
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiji Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 635-642
- NAID
  130004465045
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Comparison of Resist Family Outgassing Characterization between EUV and EB2013
- 著者名/発表者名
  Isamu Takagi, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Kazuhiro Katayam, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichiro Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 673-678
- NAID
  130004465050
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Development of Tool for Contamination Layer Thickness Measurement Using High Power Extreme Ultraviolet Light and in Situ Ellipsometer2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Norihiko Sugie, Hiroyuki Tanaka, Eishi Shiobara, Soichi Inoue, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 5R ページ: 056701-056701
- DOI
  10.7567/jjap.52.056701
- NAID
  210000142182
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Comparison of Resist Outgassing Characterization between High Power EUV and EB2012
- 著者名/発表者名
  Norihiko Sugie, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 617-624
- NAID
  130004833488
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Material Based on Noria (Water Wheel-like Macrocycle) Derivatives with Pendant Alkoxyl and Adamantyl Ester Groups2012
- 著者名/発表者名
  Hiroto Kudo, Nobumitsu Niina, Tomoharu Sato, Hiroaki Oizumi, Toshiro Itani, Takuro Miura, Takeo Watanabe and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 587-592
- NAID
  130004833483
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUV リソグラフィ研究開発センターにおけるリソグラフィ開発2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー
  
  巻: 22 ページ: 1-5
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Chemical Reaction Analysis of EUV CA Resist using SR Absorption Spectroscopy2012
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yuichi Haruyama, Daiju Shiono, Kazuya Emura, Takuro Urayama, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 569-574
- NAID
  130004833480
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takuro Urayama, Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Naohiro Matsuda, Yasuyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 681-686
- NAID
  130004833387
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of interference lithography for 22 nm node and below2011
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Takafumi Iguchi, Takuro Urayama, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Microelectric Engineering
  
  巻: 88 ページ: 1944-1947
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] elationships between EUV resist outgassing and contamination deposition at Selete2011
- 著者名/発表者名
  Hiroaki Oizumi, Kazuyuki Matsumaro, Satoshi Nomura, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takeo Watanabe, Naohiro Matsuda, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 7969
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Transmission Grating Fabrication for Replicating Resist Patterns of 20 nm and Below2011
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 50
- NAID
  210000070661
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] In-situ Contamination Thickness Measurement by Novel Resist Evaluation System at NewSUBARU2011
- 著者名/発表者名
  Naohiro Matsuda, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita, Hiroaki Oizumi, and Toshiro Itani
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 50
- NAID
  210000070653
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUVレジスト材料開発の現状と将来展望について、先端リソグラフィの展望2010
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、木下博雄
- 雑誌名
  
  第19回光反応・電子用材料研究会講座講演予稿集、高分子学会
  
  ページ: 14-17
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Fundamental Decomposition Analysis of Chemically Amplified Molecular Resist for below 22 nm Resolution2010
- 著者名/発表者名
  aiju Shiono, Hideo Hada, Kazufumi Sato, Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 649-656
- NAID
  130004464848
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUV interference lithography for 22 nm node and below2010
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Teruhiko Kimura, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 673-680
- NAID
  130004464851
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Decomposition and Roughness Analysis of Chemically Amplified Molecular Resist for Reducing LWR2010
- 著者名/発表者名
  Daiju Shiono, Hideo Hada, Kazufumi Sato, Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 49
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Fabrication process of EUV -IL transmission grating2010
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yakusyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 681-386
- NAID
  130004464852
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of Extreme Ulytaviolet Interference Lithography System2010
- 著者名/発表者名
  Y. Fukushima, Naqoki. Sakagami, Teruhiko Kimura, Yoshito Kamaji, Takafumi Iguchi, Y. Yamaguchi, Masaki Tada, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 49
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Optimization of photo-acid generation in CA resist for EUVL2008
- 著者名/発表者名
  T.Watanebe, H.Hada, H.Kinoshita, H.Komano
- 雑誌名
  
  SPIE
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Phase defect observation using an EUV microscope2008
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, N.Sakaya, T.shoki, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  SPIE
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Reducing off Hyderocarbon Contaminations for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  Y.Tanaka, K.Hamamoto, T.watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5547-5551
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic Mask Inspection Using an EUV Microscope -Preparation of a Mirau Interferometer for Phase-defect Detection-2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, H.Kawashima, S.Y.Lee, N.Hosokawa, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5474-5478
- NAID
  10016677217
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Low-Molecular-Weight Resist for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  H.Hada, T.Hirayama, D.Shino, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5824-5828
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Novel Resist Evaluation System for EUV Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, N.Sakaya, T.Shoki, S.Y.Lee
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5556-5559
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Reducing off Hydrocarbon Contaminants for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  Y.Tanaka, K.Hamamoto, H.Tsubakino, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5547-5551
- NAID
  10016677385
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of Beam Splitter Using Multilayer Membrane for Extreme Ultraviolet Phase-Shift Microscopes2005
- 著者名/発表者名
  N.Hosokawa, T.Watanabe, N.Sakaya, T.Shoki, K.Hamamoto, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5540-5543
- NAID
  10016677365
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Cleaning of extreme ultraviolet lithography optics and masks using 13.5 nm and 172 nm radiation2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Hada, N.Hishinuma, H.Sugahara, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 247-251
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] History of Extreme Ultraviolet Lithography2005
- 著者名/発表者名
  H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. 23,6B
  
  ページ: 2584-2588
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究(第2報) コヒーレント長が測定精度に及ぼす影響2005
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌第71巻第8号
  
  ページ: 1031-1035
- NAID
  10016679113
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mask Defect Inspection using EUV Microscope2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, S.Y.Lee, N.Hosokawa, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. 23,6B
  
  ページ: 2852-2855
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of Beam Splitter Using Multilayer Membrane For Extreme Ultraviolet Ohase-shift Microscopes2005
- 著者名/発表者名
  N.Hosokawa, K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5540-5543
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] History of Extreme Ultraviolet Lithography2005
- 著者名/発表者名
  H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol 23-6
  
  ページ: 2584-2588
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Novel resist evaluation system for EUV resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, N.Sakaya, T.Shoki, S.Y.Lee
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5556-5559
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic Mask Inspection Using an EUV Microscope2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5474-5478
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] マグネシウムおよびマグネシウム合金のガス放出特性2005
- 著者名/発表者名
  田中弓弦, 木下博雄, 渡邊健夫, 劉莉, 椿野晴繁
- 雑誌名
  
  軽金属 55-9
  
  ページ: 412-413
- NAID
  130004481784
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 巻頭言加工と計測:ナノからピコの時代を迎えて2005
- 著者名/発表者名
  木下博雄
- 雑誌名
  
  光学 34-3
  
  ページ: 123-123
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究2005
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 71-8
  
  ページ: 1031-1035
- NAID
  110001373589
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] マグネシウムおよびマグネシウム合金のガス放出特性2005
- 著者名/発表者名
  田中弓弦, 木下博雄, 渡邊健夫, 劉莉, 椿野晴繁
- 雑誌名
  
  軽金属 55,9
  
  ページ: 412-413
- NAID
  130004481784
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Cleaning of extreme ultraviolet lithography optics and masks using 13.5 nm and 172 nm radiation2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Hada, N.Hishinuma, H.Sugahara, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23-1
  
  ページ: 247-251
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of fast photospeed chemically amplified resist in EUVL2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, N.Sakaya, T.Shoki, S.Y.Lee
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5866-5870
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 放射光を用いた極限リソグラフィの現状2005
- 著者名/発表者名
  木下博雄
- 雑誌名
  
  光アライアンス 16-12
  
  ページ: 14-14
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mask Defect Inspection using EUV Microscope2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, S.Y.Lee, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol 23-6
  
  ページ: 2852-2855
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Reducing off Hyderocarbon Contaminations for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  Y.Tanaka, K.Hamamoto, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5547-5551
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Hitory of Extreme Ultraviolet Lithography2005
- 著者名/発表者名
  H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol 23-6
  
  ページ: 2584-2588
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Low-Molecular-Weight Resists for Extreme Ultraviolet Lithography,2005
- 著者名/発表者名
  H.Hideo, T.Hirayama, D.Shiono, J.Onodera, T.Watanabe, S.Y.Lee, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5824-5828
- NAID
  10016678315
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of Fast Photospeed Chemically Amplified Resist in EUV Lithography,2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Hada, S.Y.Lee, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5866-5870
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic mask metrology for extreme ultraviolet lithography2004
- 著者名/発表者名
  H.Kinoshita, T.Haga, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Shoki, M.Endo, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22(1)
  
  ページ: 264-267
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mitigation of Low Outgassing and Small Line Edge roughness for EUVL Resist2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17,3
  
  ページ: 361-366
- NAID
  40006276558
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mitigation of Low Outgassing and Small Line Edge Roughness for EUVL Resist2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 361-366
- NAID
  40006276558
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mitigation of Low Outgassing and Small Line Edge Roughness for EUVL Resist2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17,3
  
  ページ: 361-366
- NAID
  40006276558
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Resist Outgassing Characteristics in EUVL2004
- 著者名/発表者名
  F.Watanabe, K.Hamamoto, H.Kinoshita, H.hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 43
  
  ページ: 3713-3717
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Structural Materials and the Removal of Contaminants from EUVL Masks using 172-nm Radiation2004
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Sugahara, N.Hishinuma, H.Hada, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 367-372
- NAID
  130004464356
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Resist Outgassing Charateristics in EUVL2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, K.Hamamoto, H.Kinoshita, H.hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 43
  
  ページ: 3713-3717
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Resist Outgassing Characteristics in Extreme Ultraviolet Lithography,2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, K.Hamamoto, H.Kinoshita, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3713-3717
- NAID
  10013275620
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic Mask Inspection Using EUV Microscope2004
- 著者名/発表者名
  H.Kinoshita, T.Haga, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Shoki, M.Endo, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22
  
  ページ: 264-267
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Structural Materials and the Removal of Contaminants from EUVL Masks using 172-nm Radiation2004
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Sugahara, N.Hishinuma, H.Hada, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17,3
  
  ページ: 367-372
- NAID
  130004464356
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究2003
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌第69巻第8号
  
  ページ: 1170-1175
- NAID
  110001373589
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究2003
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 69,8
  
  ページ: 1170-1175
- NAID
  110001373589
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Investigation of Contamination Removal from Finished EUVL Mask2003
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, S.Takada, T.Watanabe, N.Sakaya, T.Shoki, M.Hosoya, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 16,3
  
  ページ: 395-400
- NAID
  130004464266
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Pattern Inspection of EUV Mask using a EUV Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, T.Haga, T.Shoki, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc.SPIE 5130
  
  ページ: 1005-1013
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Pattern Inspection of EUV Mask Using a EUV Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, T.Haga, T.Shoki, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc.SPIE 5130
  
  ページ: 1005-1013
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Evaluation of Finished EUVL Mask using a Mirau Intergerometric Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Haga, H.Kinoshita, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 42
  
  ページ: 3771-3775
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Evaluation of Finished EUVL Mask using a Mirau Intergerometric Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Haga, H.Kinoshita, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 42、6
  
  ページ: 3771-3775
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] ナノ平滑性とエッチング耐性を有するフォトレジストポリマー2006
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2006-066513
- 出願年月日
  2006
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 光学素子及び光学素子製造方法2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-360553
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 極端紫外線顕微鏡及び検査方法2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-246736
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] カリックスレゾルシナレン化合物並びにそれからなるEUV及び電子線レジスト2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 極端紫外線顕微鏡及び検査方法2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-246736
- 出願年月日
  2005
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] ナノ平滑性とエッチング耐性を有するフォトレジストポリマー2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-234801
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-044737
- 出願年月日
  2004
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物及びレジストパタン形成方法2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-262488
- 出願年月日
  2004
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-044737
- 出願年月日
  2004
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-100206
- 出願年月日
  2004
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2003
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2003-371111
- 出願年月日
  2003-10-30
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2003
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2003-362223
- 出願年月日
  2003-10-22
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[学会発表] 30 years have passed from the first experiment2015
- 著者名/発表者名
  Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  EUVL Symposium
- 発表場所
  Maastricht Netherlland
- 年月日
  2015-10-06
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] Early Stage of EUVL Development2015
- 著者名/発表者名
  HirooKinoshita
- 学会等名
  Next Generation Lithography 応用物理学会分科会
- 発表場所
  東京工業大学
- 年月日
  2015-07-07
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015
- 著者名/発表者名
  Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
- 学会等名
  The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  幕張メッセ（千葉県千葉市美浜区）
- 年月日
  2015-06-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作2015
- 著者名/発表者名
  福田裕貴、福井　翼、谷野寛仁、九鬼真輝、渡邊健夫、木下博雄、原田哲男
- 学会等名
  NGLワークショップ2015
- 発表場所
  東京工業大学蔵前館（東京都目黒区）
- 年月日
  2015-07-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡を用いたマスク検査装置の開発2015
- 著者名/発表者名
  木下博雄
- 学会等名
  レーザー学会第483回研究会
- 発表場所
  広島大学
- 年月日
  2015-12-02
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] 極端紫外線リソグラフィー研究30年2015
- 著者名/発表者名
  木下博雄
- 学会等名
  半導体親和会
- 発表場所
  NTT 武蔵野研究所
- 年月日
  2015-06-05
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] 30 years of R&D of EUVL and its mask inspection technologies2015
- 著者名/発表者名
  Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  Photo mask Japan 2015
- 発表場所
  Pacifico Yokohama Japan
- 年月日
  2015-04-22
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015
- 著者名/発表者名
  Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  幕張メッセ（千葉県千葉市美浜区）
- 年月日
  2015-06-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Contribution of EUV resist components to the noncleanable contaminations2014
- 著者名/発表者名
  Eishi Shiobara, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Yukiko Kikuchi, Isamu Takagi, Kazuhiro Katayama, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Tetsuro Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2014
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Chemical Reaction Analysis by SR Absorption Spectroscopy to Increase the Acid Generation Efficiency of EUV CA Resist2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiju Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市））
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Recent Activities of the Actinic Mask Inspection using the EUV Microscope at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Resist outgassing characterization of PAG-blended and PAG-bound systems2013
- 著者名/発表者名
  Kazuhiro Katayama, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiji Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 30th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学西千葉キャンパス（千葉県千葉市稲毛区）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Comparison of Resist Family Outgassing Characterization2013
- 著者名/発表者名
  Isamu Takagi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Norihiko Sugie, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 30th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学西千葉キャンパス（千葉県千葉市稲毛区）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Recent Activities of the EUV Resist Research and Development at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUVL 研究開発センターにおけるEUV レジストの開発(基調講演)、アドバンスト・テクノロジー・プログラム(ATP)、新材料開発最前線、微細パターン化技術2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  日本化学会第93春季年会(2013)
- 発表場所
  立命館大学びわこ・くさつキャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Contamination Evaluation Tool by an In-situ Spectroscopic Ellipsometer with an Exposure of High Power EUV (Invited talk)2012
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Masaki Tada, Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  Technical Working Group of EUV Resist Outgassing
- 発表場所
  Brussels Convention Center, Brussels, Belgium
- 年月日
  2012-09-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 極端紫外線リソグラフィ技術開発の現状と今後の展望(招待講演)2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  リソグラフィセミナー(I)、セミフォーラムジャパン2012
- 発表場所
  グランキューブ大阪(大阪市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV リソグラフィ-研究開発センターにおけるリソグラフィー開発(招待講演)、アドバンスト・テクノロジー・プログラム(ATP)2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  次世代リソグラフィ、日本化学会第91 春季年会
- 発表場所
  神奈川大学(神奈川)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takuro Urayama, Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Naohiro Matsuda, Yasuyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 28th International Conference ofPhotopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Fabrication process of EUV-IL transmission grating2010
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yakusyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV interference lithography for 22 nm node and below2010
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Teruhiko Kimura, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 非化学増幅系EUVレジストの低温現像による解像性能向上
- 著者名/発表者名
  山口太都，江村和也，福井翼，谷野寛仁，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄，星野亮一
- 学会等名
  NGLワークショップ2014
- 発表場所
  東京工業大学蔵前ホール　東京都目黒区大岡山２丁目１２－１
- 年月日
  2014-07-17 – 2014-07-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] (136)Study of Acid Diffusion Behaves Form PAG by Using Top Coat Method for EUVL
- 著者名/発表者名
  Atsushi Sekiguchi, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 31st International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学けやき会館　千葉県千葉市稲毛区弥生町1－33
- 年月日
  2014-07-08 – 2014-07-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] ニュースバルにおける極端紫外光リソグラフィー研究
- 著者名/発表者名
  木下博雄
- 学会等名
  ニュースバルシンポジウム
- 発表場所
  東京ステーションコンファレンス　サビタワー（東京都）
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 10 nm 級 EUV 干渉露光用透過型回折格子の製作
- 著者名/発表者名
  福井　翼，谷野寛仁，福田裕貴，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
- 学会等名
  第75回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  北海道大学札幌キャンパス　北海道札幌市北区北８条西５丁目
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUV Resist Chemical Reaction Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement
- 著者名/発表者名
  Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Daiju Shiono, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino, TsubasaFukui, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada,and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 31st International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2014-07-08 – 2014-07-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 脱保護反応に起因した膜減量評価による化学増幅系EUV用レジストの反応解析
- 著者名/発表者名
  江村和也，渡邊健夫，山口太都，谷野寛仁，福井翼，塩野大寿，春山雄一，村松康司，大森克実，佐藤和史，原田哲男，木下博雄
- 学会等名
  NGLワークショップ2014
- 発表場所
  東京工業大学蔵前ホール　東京都目黒区大岡山２丁目１２－１
- 年月日
  2014-07-17 – 2014-07-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 極端紫外線リソグラフィー研究開発センターの23年度成果報告
- 著者名/発表者名
  木下博雄
- 学会等名
  先端技術セミナー
- 発表場所
  イーグレ姫路（兵庫県姫路市）
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146

1. 渡邊健夫 (70285336)

共同の研究課題数: 6件

共同の研究成果数: 85件
2. 原田哲男 (30451636)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 43件
3. 新部正人 (10271199)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
4. 村松康司 (50343918)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
5. 波岡武 (90015743)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 柳原美広 (40174552)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
7. 格内敏 (10101130)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
8. 椿野晴繁 (00109894)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
9. 山本厚之 (70220449)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
10. 福本信次 (60275310)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
11. 塩野大寿

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 3件
12. 武藤正雄

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
13. 津野勝重

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
14. 小池雅人

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
15. 増井新

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

木下 博雄 KINOSHITA Hiroo

研究課題

研究成果

共同研究者

軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

放射光によるジルコニアバイオセラミックスの擬似体液中でのその場相変態観察

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

マイクロフォーカス光学系設計法の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Actual defect observation results of an extreme ultraviolet blank mask by coherent diffraction imaging2016

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Phase Imaging Results of Phase Defect Using Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope2016

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Development of a reflectometer for a large EUV mirror in NewSUBARU2015

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Phase Imaging Results of Phase Defect Using Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope2015

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Development of element technologies for EUVL2015

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement2014

著者名/発表者名

雑誌名

木下博雄 KINOSHITA Hiroo

[雑誌論文] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity　Achievement2014