田岡紀之 TAOKA NORIYUKI

研究者番号	50626009
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 愛知工業大学, 工学部, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2023年度 – 2024年度: 愛知工業大学, 工学部, 教授 2020年度 – 2022年度: 名古屋大学, 工学研究科, 特任准教授 2013年度: 名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 2012年度: 名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 特任准教授
審査区分/研究分野	研究代表者薄膜・表面界面物性研究代表者以外小区分21050:電気電子材料工学関連 / 中区分29:応用物理物性およびその関連分野
キーワード	研究代表者 MOS界面 / コンダクタンスカーブ / 遅い準位 / 界面準位 / SiC 研究代表者以外ゲルマニウム / 電子状態 / 偏析 / 極薄結晶 / シリコン … もっと見る / シリコン酸化膜 / ゲルマネン / 表面偏析 / 電子物性 / 共晶反応 / 拡散・偏析 / 化学構造 / 二次元結晶隠す

ゲルマニウム二次元結晶のヘテロ構造形成と電子物性制御
- 研究代表者
  
  大田晃生
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  福岡大学
   名古屋大学
シリコン酸化膜に覆われたゲルマネンを用いた超高速エレクトロニクスの開発
- 研究代表者
  
  大田晃生
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2021
- 研究種目
  
  挑戦的研究(萌芽)
- 審査区分
  
  中区分29:応用物理物性およびその関連分野
- 研究機関
  名古屋大学
低エネルギー損失に向けた炭化ケイ素トランジスタの絶縁膜／炭化ケイ素界面の高品質化研究代表者
- 研究代表者
  
  田岡紀之
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2013
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  薄膜・表面界面物性
- 研究機関
  名古屋大学

すべて 2024 2023 2022 2021 2020 2014 2013

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Layer transfer of ultrathin Ge crystal segregated on Al/Ge(111) structure2023
- 著者名/発表者名
  Matsushita Keigo、Ohta Akio、Shibayama Shigehisa、Tokunaga Tomoharu、Taoka Noriyuki、Makihara Katsunori、Miyazaki Seiichi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: SG ページ: SG1007-SG1007
- DOI
  10.35848/1347-4065/acb65c
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794, KAKENHI-PROJECT-21H04559
[雑誌論文] Evaluation of Chemical Structure and Si Segregation of Al/Si(111)2022
- 著者名/発表者名
  T. Sakai, A. Ohta, K. Matsushita, N. Taoka, K. Makihara, and S. Miyazaki
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 62 号: SC ページ: SC1059-SC1059
- DOI
  10.35848/1347-4065/acb1fd
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18KK0409, KAKENHI-PROJECT-19H00762, KAKENHI-PROJECT-21H04559, KAKENHI-PROJECT-23K22794
[雑誌論文] Segregation control for ultrathin Ge layer in Al/Ge(111) system2021
- 著者名/発表者名
  Ohta Akio、Kobayashi Masato、Taoka Noriyuki、Ikeda Mistuhisa、Makihara Katsunori、Miyazaki Seiichi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: SA ページ: SA1014-SA1014
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac19ff
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K21142
[雑誌論文] Surface flattening and Ge crystalline segregation of Ag/Ge structure by thermal anneal2021
- 著者名/発表者名
  Ohta Akio、Yamada Kenzo、Sugawa Hibiki、Taoka Noriyuki、Ikeda Mitsuhisa、Makihara Katsunori、Miyazaki Seiichi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: SB ページ: SBBK05-SBBK05
- DOI
  10.35848/1347-4065/abdad0
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K21142, KAKENHI-PROJECT-19H00762, KAKENHI-PROJECT-21H04559
[雑誌論文] Al2O3/SiC MOS構造における伝導帯端近傍の電気特性2014
- 著者名/発表者名
  田岡紀之, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
- 雑誌名
  
  第19回ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―研究報告
  
  巻: -
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560023
[学会発表] Al/SiGe(111)/Si(111)構造の化学構造分析 -熱処理によるSiおよびGe偏析-2024
- 著者名/発表者名
  酒井大希、大田晃生、田岡紀之、牧原克典、山本裕司、宮﨑誠一
- 学会等名
  電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイス特性の物理―（第29回）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Evaluation of Si and Ge Segregation from Si0.2Ge0.8(111) through Al and Ag Layer2023
- 著者名/発表者名
  Taiki Sakai, Akio Ohta, Noriyuki Taoka, Junji Yuhara, Katsunori Makihara, Yuji Yamamoto, Wei-chen Wen, Seiichi Miyazaki
- 学会等名
  2023 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Ultrathin Si Segregated Layer Formation on Al/Si(111)2023
- 著者名/発表者名
  T. Sakai, A. Ohta, K. Matsushita, N. Taoka, K. Makihara, and S. Miyazaki
- 学会等名
  13th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Al/Si0.2Ge0.8(111)上への熱処理によるSiおよびGeの表面偏析制御2023
- 著者名/発表者名
  酒井大希、大田晃生、田岡紀之、牧原克典、山本裕司、宮﨑誠一
- 学会等名
  第10回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Al/Ge(111)上に偏析したGe薄膜の化学結合状態分析2022
- 著者名/発表者名
  松下圭吾、大田晃生、田岡紀之、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  2022年度名古屋大学シンクロトロン光研究センターシンポジウム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Layer Transfer of Ultrathin Ge Layer Segregated on Al/Ge(111)2022
- 著者名/発表者名
  K. Matsushita, A. Ohta, N. Taoka, K. Makihara, S. Miyazaki
- 学会等名
  35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] 熱処理によるAl(111)上のSi表面偏析制御2022
- 著者名/発表者名
  酒井大希、松下圭吾、大田晃生、田岡紀之、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  第9回応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Al/Si(111)構造の平坦性および結晶性制御と偏析による極薄Si層形成2022
- 著者名/発表者名
  酒井大希、大田晃生、松下圭吾、田岡紀之、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイス特性の物理― （第28回）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Al/Si0.2Ge0.8(111)構造の熱処理によるSiおよびGeの表面偏析2022
- 著者名/発表者名
  酒井大希、松下圭吾、大田晃生、田岡紀之、牧原克典、山本裕司、宮﨑誠一
- 学会等名
  2023年第70回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] 共晶系の偏析により形成した極薄Ge結晶のデバイスプロセスの検討2022
- 著者名/発表者名
  松下圭吾、大田晃生、田岡紀之、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイス特性の物理― （第28回）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Surface Modification and Wafer Bonding of Ultrathin Ge Segregated Layer formed on Al/Ge(111)2022
- 著者名/発表者名
  K. Matsushita, A. Ohta, N. Taoka, K. Makihara, and S. Miyazaki
- 学会等名
  9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-9)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Al/Ge(111)構造上に偏析した極薄Ge結晶層の転写2022
- 著者名/発表者名
  松下圭吾、大田晃生、柴山茂久、田岡紀之、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Evaluation of Chemical Structure and Si Segregation of Al/Si(111)2022
- 著者名/発表者名
  T. Sakai, A. Ohta, K. Matsushita, N. Taoka, K. Makihara, and S. Miyazaki
- 学会等名
  2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Si(111)上のAl(111)薄膜形成と熱処理によるSi原子の表面偏析制御2022
- 著者名/発表者名
  酒井大希、松下圭吾、大田晃生、田岡紀之、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  電気通信情報学会(SDM) [シリコン材料・デバイス] シリコンテクノロジー分科会 6月度合同研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K22794
[学会発表] Control of Ultrathin Segregated Ge Layer Thickness on Al/Ge(111) Structure2021
- 著者名/発表者名
  A. Ohta, M. Kobayashi, N. Taoka, M. Ikeda, K. Makihara, and S. Miyazaki
- 学会等名
  13th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2021)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K21142
[学会発表] Ag/Ge 構造の表面偏析制御と平坦化による極薄Ge 結晶形成2021
- 著者名/発表者名
  大田晃生、山田憲蔵、須川響、田岡紀之、池田弥央、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイス特性の物理― （第26回）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K21142
[学会発表] 熱処理によるAlおよびAg/Ge(111)上の極薄Ge形成と層厚制御2021
- 著者名/発表者名
  大田晃生、松下圭吾、田岡紀之、牧原克典、宮﨑誠一
- 学会等名
  電気通信情報学会(SDM) [シリコン材料・デバイス] シリコンテクノロジー分科会 6月度合同研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K21142
[学会発表] Growth of Ultrathin Ge Crystal Layer by Surface Segregation and Flattening of Ag/Ge Structure2020
- 著者名/発表者名
  A. Ohta, K. Yamada, H. Sugawa, N. Taoka, M. Ikeda, K. Makihara, S. Miyazaki
- 学会等名
  2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2020)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K21142
[学会発表] Al2O3/SiC MOS構造における伝導帯端近傍の電気特性2014
- 著者名/発表者名
  田岡紀之, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
- 学会等名
  第19回ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―
- 発表場所
  静岡県
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560023
[学会発表] Al2O3/SiC MOS界面における伝導帯端近傍の界面特性2013
- 著者名/発表者名
  田岡紀之
- 学会等名
  2013年春季第60回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560023

1. 大田晃生 (10553620)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 21件
2. 牧原克典 (90553561)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 22件
3. 洗平昌晃 (20537427)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
4. 柚原淳司 (10273294)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件

田岡 紀之 TAOKA NORIYUKI

研究課題

研究成果

共同研究者

ゲルマニウム二次元結晶のヘテロ構造形成と電子物性制御

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

シリコン酸化膜に覆われたゲルマネンを用いた超高速エレクトロニクスの開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

低エネルギー損失に向けた炭化ケイ素トランジスタの絶縁膜／炭化ケイ素界面の高品質化研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Layer transfer of ultrathin Ge crystal segregated on Al/Ge(111) structure2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Evaluation of Chemical Structure and Si Segregation of Al/Si(111)2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Segregation control for ultrathin Ge layer in Al/Ge(111) system2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Surface flattening and Ge crystalline segregation of Ag/Ge structure by thermal anneal2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Al2O3/SiC MOS構造における伝導帯端近傍の電気特性2014

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[学会発表] Al/SiGe(111)/Si(111)構造の化学構造分析 -熱処理によるSiおよびGe偏析-2024

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Evaluation of Si and Ge Segregation from Si0.2Ge0.8(111) through Al and Ag Layer2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Ultrathin Si Segregated Layer Formation on Al/Si(111)2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Al/Si0.2Ge0.8(111)上への熱処理によるSiおよびGeの表面偏析制御2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Al/Ge(111)上に偏析したGe薄膜の化学結合状態分析2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Layer Transfer of Ultrathin Ge Layer Segregated on Al/Ge(111)2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 熱処理によるAl(111)上のSi表面偏析制御2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Al/Si(111)構造の平坦性および結晶性制御と偏析による極薄Si層形成2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Al/Si0.2Ge0.8(111)構造の熱処理によるSiおよびGeの表面偏析2022

著者名/発表者名

田岡紀之 TAOKA NORIYUKI