堤隆嘉 TSUTSUMI Takayoshi

研究者番号	50756137
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 名古屋大学, 低温プラズマ科学研究センター, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2023年度: 名古屋大学, 低温プラズマ科学研究センター, 講師 2018年度 – 2022年度: 名古屋大学, 低温プラズマ科学研究センター, 助教
審査区分/研究分野	研究代表者小区分14030:プラズマ応用科学関連研究代表者以外小区分14030:プラズマ応用科学関連 / 小区分30010:結晶工学関連
キーワード	研究代表者プラズマエッチング / 活性種輸送 / 半導体製造プロセス / 高アスペクト比 / 高アスペクト / 輸送機構 / 半導体 / グリーンプロセス / 欠陥生成 / プラズマ … もっと見る / ラジカル吸着分布 / ダングリングボンド密度 / ラジカル吸着 / 半導体プロセス / 原子層エッチング / イオン誘起ダメージ … もっと見る研究代表者以外プラズマ / 電子衝突解離 / 電子衝突反応 / エッチング / コインシデンス分光 / シリコン酸化膜 / ハイドロフロオロカーボン / プラズマエッチング / in-situ観察 / 高移動度チャネル / InN / その場観察 / 窒化インジウム / モザイシティ / 高In組成 / プラズマ支援 / 分子線エピタキシー / InGaN / ラジカル隠す

グリーンプラズマエッチングに向けた高アスペクト比孔内の活性種輸送特性の実験的解明研究代表者
- 研究代表者
  
  堤隆嘉
- 研究期間 (年度)
  2023 – 2025
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分14030:プラズマ応用科学関連
- 研究機関
  名古屋大学
低温プラズマ加工の理論-計算-計測の連携環境構築による一原子一分子制御工学の創成
- 研究代表者
  
  関根誠
- 研究期間 (年度)
  2021 – 2023
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分14030:プラズマ応用科学関連
- 研究機関
  名古屋大学
原子層エッチングにおけるプラズマ誘起欠陥生成機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  堤隆嘉
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2022
- 研究種目
  
  若手研究
- 審査区分
  
  小区分14030:プラズマ応用科学関連
- 研究機関
  名古屋大学
高移動度InNチャネルに向けた高密度ラジカル照射下における初期成長機構の解明
- 研究代表者
  
  近藤博基
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2020
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分30010:結晶工学関連
- 研究機関
  名古屋大学

すべて 2024 2023 2022 2021 2020 2019 2018

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] <i>In situ</i> atom-resolved observation of Si (111) 7×7 surface with F radical and Ar ion irradiation simulated atomic layer etching2024
- 著者名/発表者名
  Tsutsumi Takayoshi、Asano Atsuki、Kondo Hiroki、Ishikawa Kenji、Sekine Makoto、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology A
  
  巻: 42 号: 3 ページ: 032603-032603
- DOI
  10.1116/6.0003432
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] Bias-supply timing tailored to the aspect ratio dependence of silicon trench etching in Ar plasma with alternately injected C4F8 and SF62023
- 著者名/発表者名
  Yoshie Taito、Ishikawa Kenji、Nguyen Thi-Thuy-Nga、Hsiao Shih-Nan、Tsutsumi Takayoshi、Sekine Makoto、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Applied Surface Science
  
  巻: 638 ページ: 157981-157981
- DOI
  10.1016/j.apsusc.2023.157981
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03367, KAKENHI-PROJECT-21H04451, KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] Manipulation of etch selectivity of silicon nitride over silicon dioxide to a-carbon by controlling substrate temperature with a CF4/H2 plasma2023
- 著者名/発表者名
  Hsiao Shih-Nan、Britun Nikolay、Nguyen Thi-Thuy-Nga、Tsutsumi Takayoshi、Ishikawa Kenji、Sekine Makoto、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Vacuum
  
  巻: 210 ページ: 111863-111863
- DOI
  10.1016/j.vacuum.2023.111863
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H04451, KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] Study of optical emission spectroscopy using modified Boltzmann plot in dual-frequency synchronized pulsed capacitively coupled discharges with DC bias at low-pressure in Ar/O2/C4F8 plasma etching process2022
- 著者名/発表者名
  Sahu Bibhuti Bhusan、Nakane Kazuya、Ishikawa Kenji、Sekine Makoto、Tsutsumi Takayoshi、Gohira Taku、Ohya Yoshinobu、Ohno Noriyasu、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Physical Chemistry Chemical Physics
  
  巻: 24 号: 22 ページ: 13883-13896
- DOI
  10.1039/d2cp00289b
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] Area-selective plasma-enhanced atomic layer etching (PE-ALE) of silicon dioxide using a silane coupling agent2022
- 著者名/発表者名
  Osonio Airah P.、Tsutsumi Takayoshi、Oda Yoshinari、Mukherjee Bablu、Borude Ranjit、Kobayashi Nobuyoshi、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology A
  
  巻: 40 号: 6 ページ: 062601-062601
- DOI
  10.1116/6.0002044
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[雑誌論文] Low‐temperature reduction of SnO 2 by floating wire‐assisted medium‐pressure H2/Ar plasma2022
- 著者名/発表者名
  Nguyen Thi‐Thuy‐Nga、Sasaki Minoru、Hsiao Shih‐Nan、Tsutsumi Takayoshi、Ishikawa Kenji、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Plasma Processes and Polymers
  
  巻: 19 号: 6 ページ: 2100209-2100209
- DOI
  10.1002/ppap.202100209
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] Effects of deposition precursors of hydrogenated amorphous carbon films on the plasma etching resistance based on mass spectrometer measurements and machine learning analysis2022
- 著者名/発表者名
  Kurokawa Jumpei、Kondo Hiroki、Tsutsumi Takayoshi、Ishikawa Kenji、Sekine Makoto、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Vacuum
  
  巻: 205 ページ: 111351-111351
- DOI
  10.1016/j.vacuum.2022.111351
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073, KAKENHI-PROJECT-20K14453
[雑誌論文] Nitrogen Atom Density Measurements in NAGDIS-T Using Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy2022
- 著者名/発表者名
  Ryosuke Nishio, Shin Kajita, Hirohiko Tanaka, Koji Asaoka, Takayoshi Tsutsumi, Masaru Hori, Noriyasu Ohno
- 雑誌名
  
  Plasma and Fusion Research
  
  巻: 17 号: 0 ページ: 1201004-1201004
- DOI
  10.1585/pfr.17.1201004
- NAID
  130008144833
- ISSN
  1880-6821
- 年月日
  2022-01-21
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073, KAKENHI-PROJECT-20K20909, KAKENHI-PROJECT-20H00138
[雑誌論文] Reaction Mechanism and Selectivity Control of Si Compound ALE Based on Plasma Modification and F-Radical Exposure2021
- 著者名/発表者名
  R H J Vervuurt, B Mukherjee, K Nakane, T Tsutsumi, M Hori, N Kobayashi
- 雑誌名
  
  Langmuir
  
  巻: 37 号: 43 ページ: 12663-12672
- DOI
  10.1021/acs.langmuir.1c02036
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] 窒化物半導体プラズマエッチングにおける原子層反応制御と低ダメージプロセス2021
- 著者名/発表者名
  堤隆嘉，石川健治，近藤博基，関根誠，堀勝
- 雑誌名
  
  プラズマ核融合学会誌
  
  巻: 97 ページ: 517-521
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] On the Etching Mechanism of Highly Hydrogenated SiN Films by CF4/D2 Plasma: Comparison with CF4/H22021
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
- 雑誌名
  
  Coatings
  
  巻: 11 号: 12 ページ: 1535-1535
- DOI
  10.3390/coatings11121535
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[雑誌論文] 窒化物半導体プラズマエッチングにおける原子層反応制御と低ダメージプロセス2021
- 著者名/発表者名
  堤　隆嘉、石川　健治、近藤　博基、関根　誠、堀　勝
- 雑誌名
  
  プラズマ・核融合学会誌
  
  巻: 97 ページ: 517-521
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[雑誌論文] Effects of hydrogen content in films on the etching of LPCVD and PECVD SiN films using CF4/H2 plasma at different substrate temperatures2021
- 著者名/発表者名
  Shih‐Nan Hsiao, Nikolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
- 雑誌名
  
  Plasma Processes and Polymers
  
  巻: 18 号: 11 ページ: 2100078-2100078
- DOI
  10.1002/ppap.202100078
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073, KAKENHI-PROJECT-20K14453
[雑誌論文] Reaction science of layer-by-layer thinning of graphene with oxygen neutrals at room temperature2020
- 著者名/発表者名
  Sugiura Hirotsugu、Kondo Hiroki、Higuchi Kimitaka、Arai Shigeo、Hamaji Ryo、Tsutsumi Takayoshi、Ishikawa Kenji、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Carbon
  
  巻: 170 ページ: 93-99
- DOI
  10.1016/j.carbon.2020.07.052
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[雑誌論文] In situ surface analysis of an ion-energy-dependent chlorination layer on GaN during cyclic etching using Ar+ ions and Cl radicals2020
- 著者名/発表者名
  Hasegawa Masaki、Tsutsumi Takayoshi、Tanide Atsushi、Nakamura Shohei、Kondo Hiroki、Ishikawa Kenji、Sekine Makoto、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology A
  
  巻: 38 号: 4 ページ: 042602-042602
- DOI
  10.1116/6.0000124
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453, KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Transient behavior of cycle process in Ar plasma with alternately injected C4F8 and SF62023
- 著者名/発表者名
  Taito Yoshie, Kenji Ishikawa, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Shih-Nan Hsiao, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  13th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2023), 2023/11/5-8, Busan, Korea
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Self-limited fluorination of electron-beam-irradiated GaN surface2023
- 著者名/発表者名
  Yusuke Izumi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2023 / IC-PLANTS2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] A comparative study on the CF4/H2 and HF/H2 plasmas for etching of highly hydrogenated SiN films2023
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Nikolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  25th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC25), 2023/5/21-26, Kyoto, Japan
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Plasma-based pseudo-wet mechanism for cryogenic SiO2 etching using hydrogen-contained fluorocarbon gases with an in-situ surface analysis2023
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Manabu Iwata, Maju Tomura, Yuki Iijima, Taku Gohira, Keiichi Matsushima, Yoshinobu Ohya, Masaru Hori
- 学会等名
  The 76th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC76), 2023/10/9-13, Michigan, USA
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Etch selectivities of SiO2 and SiN against a-C films using CF4/H2 plasma at low temperature2023
- 著者名/発表者名
  Y. Imai, S-N. Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Iwata, M. Tomura,Y. Iijima, K. Matsushima and M. Hori
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023), 2023/11/21-22, Nagoya, Japan
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] 容量結合型パルスプラズマにおける負イオンの電極材料依存性2023
- 著者名/発表者名
  都地一輝、堤隆嘉、蕭世男、関根誠、石川健治、堀勝
- 学会等名
  第84回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03367
[学会発表] Study on plasma process using adsorbed C7F14 as an etchant2023
- 著者名/発表者名
  Kohei Masuda,Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, Shih-Nan Hsiao,Takayoshi Tsutsumi,Hiroki Kondo, and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2023 / IC-PLANTS2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Control of etching profile by bias supply timing in cyclic process using C4F8/SF6 gas modulated plasma2023
- 著者名/発表者名
  T. Yoshie, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, M. Hori
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03367
[学会発表] Compositions of Ions Related with Electrode Materials in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching2023
- 著者名/発表者名
  K. Toji, T. Tsutsumi, S-N. Hsiao, M. Sekine, M. Hori, K. Ishikawa
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03367
[学会発表] A pseudo-wet cryogenic plasma etching of SiO2 investigated with in-situ surface monitoring2023
- 著者名/発表者名
  S-N Hsiao, M. Sekine, K. Ishikawa, T.Tsutsumi, and M. Hori Y Iijima, R. Suda, Y. Kihara
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023), 2023/11/21-22, Nagoya, Japan
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Electron-Beam-Assisted Self-limiting fluorination of GaN surface using XeF2 for Atomic Layer Etching2023
- 著者名/発表者名
  Y. Izumi, T. Tsutsumi, H Kondo, M. Sekine, M. Hori, and K. Ishikawa
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023), 2023/11/21-22, Nagoya, Japan
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Characterization of plasmas and polymerized hydrofluorocarbon films in capacitively coupled CF4/H2 plasmas2023
- 著者名/発表者名
  Yusuke Imai, Shih-Nan Hsiao, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2023 / IC-PLANTS2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Etching Selectivities of SiO2 and SiN Against a-C Films Using CF4/H2 with a Pseudo-Wet Plasma Etching Mechanism2023
- 著者名/発表者名
  Yusuke Imai, S. Hsiao, M. Sekine, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Iwata, M. Tamura, Y. Iijima, T. Gohira, K. Matsushima, Y. Ohya, M. Hori,
- 学会等名
  AVS 69th International Symposium and Exhibition (AVS 69), 2023/11/5-10, Portland, USA
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Self-Limited Fluorination of Electron Beam-Irradiated GaN Surface2023
- 著者名/発表者名
  Yusuke Izumi, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2023/IC-PLANTS2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Positive and negative ion behaviors in DC-imposed Ar/SF6 pulsed plasma2023
- 著者名/発表者名
  Kazuki Toji, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, S-N. Hsaio, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2023 / IC-PLANTS2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Control of etching profile by bias supply timing in cyclic process using C4F8/SF6 gas modulated plasma2023
- 著者名/発表者名
  T. Yoshie, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, and M. Hori
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023), 2023/11/21-22, Nagoya, Japan
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Global and local contribution analysis of process parameters in Plasma enhanced chemical vapor deposition of amorphous carbon har2023
- 著者名/発表者名
  Yusuke Ando, Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  The 4th International Conference on Data Driven Plasma Sciences ( ICDDPS-4 ), 2023/4/16-21, Okinawa, Japan
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Compositions of Ions Related with Electrode Materials in Pulsed Plasma for High-Aspect-Ratio Hole Etching2023
- 著者名/発表者名
  K. Toji, T. Tsutsumi, S-N. Hsiao, M. Sekine, M. Hori, and K. Ishikawa
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023), 2023/11/21-22, Nagoya, Japan
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] A pseudo-wet plasma etching mechanism for SiO2 at cryogenic temperature using hydrogen fluoride gas with in-situ surface monitoring2023
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Yuki Iijima, Ryutaro Suda, Yoshinobu Ohya, Yoshihide Kihara, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
- 学会等名
  AVS 69th International Symposium and Exhibition (AVS 69), 2023/11/5-10, Portland, USA
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Contribution analysis of process parameters in plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous carbon2023
- 著者名/発表者名
  Yusuke Ando, Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2023 / IC-PLANTS2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] パルスプラズマにおける負イオンエネルギー分布の時間分解測定2023
- 著者名/発表者名
  都地一輝, 堤隆嘉, 蕭世男, 関根誠, 堀勝, 石川健治
- 学会等名
  第71回応用物理学会春期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03367
[学会発表] Positive and Negative Ion Behaviors in DC-Imposed Ar/SF6 Pulsed Plasma2023
- 著者名/発表者名
  Kazuki Toji, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2023/IC-PLANTS2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] C2F6/H2混合ガスを用いてラジカル注入型プラズマ励起化学気相堆積法により成長させたカーボンナノウォールのモフォロジー制御2022
- 著者名/発表者名
  橋本拓海、近藤博基、石川健治、堤隆嘉、関根誠、平松美根男、堀勝
- 学会等名
  The 39th Symposium on plasma processing / 34th Symposium on Plasma Science for Materials (SPP39/SPSM34)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Langmuir probe and Laser Photodetachment Study of Afterglow Phase in Dual RF Frequency Pulsed Plasma Etching Processes Operated with Synchronized DC Bias2022
- 著者名/発表者名
  Makoto Sekine, Bibhuti B Sahu, Shogo Hattori, Takayoshi Tsutsumi, Nikolay Britun, Kenji Ishikawa, Hirohiko Tanaka, Taku Gohira, Noriyasu Ohno, and Masaru Hori
- 学会等名
  11th ICRP/ 2022 GEC/ 40th SPP-40/ 35th SPSM35
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] C3H6/H2プラズマを用いた水素化アモルファスカーボン成膜における成膜前駆体と膜特性の相関関係2022
- 著者名/発表者名
  黒川純平、光成正、近藤博基、堤隆嘉、関根誠、石川健治、堀勝
- 学会等名
  第69回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Topographically-selective Atomic Layer Etching of SiO2 using fluorine-containing plasma2022
- 著者名/発表者名
  Airah P Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Bablu Mukherjee, Ranjit Borude, Nobuyoshi Kobayashi, and Masaru Hori
- 学会等名
  11th ICRP/ 2022 GEC/ 40th SPP-40/ 35th SPSM35
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Isotropic Plasma-enhanced Atomic Layer Etching of SiO2 using F radicals and Ar plasma2022
- 著者名/発表者名
  A.Osonio, T.Tsutsumi, B.Mukherjee, R.Borude, N.Kobayashi, M.Hori
- 学会等名
  43rd International Symposium on Dry Process Symposium (DPS 2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Time-resolved measurement of ion energy distribution in pulsed Ar/SF6 plasma2022
- 著者名/発表者名
  Kazuki TOJI, Kenji ISHIKAWA, Takayoshi TSUTSUMI, Shih nan HSIAO, Makoto SEKINE, Masaru HORI
- 学会等名
  第32回日本MRS年次大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Study of etching process using CHF3 gas condensed layer in cryogenic region2022
- 著者名/発表者名
  Kuangda Sun, Chieh-Ju Liao, Shih-Nan Hsiao, Makoto Sekine, Toshiyuki Sasaki, Chihiro Abe, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
- 学会等名
  1st International Workshop on Plasma Cryogenic Etching Processes (PlaCEP2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Manipulation of etch selectivity of silicon nitride over silicon dioxide by controlling substrate temperature with a CF4/H2 plasma2022
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  14th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 15th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Ion Induced Damage in Plasma Enhanced Atomic Layer Etching Processing2022
- 著者名/発表者名
  Takayoshi TSUTSUMI, Hiroki KONDO, Kenji ISHIKAWA, Makoto SEKINE, Masaru HORI
- 学会等名
  32nd Anuual Meeting on Material Researh Society of Japan (MRS-J)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Ion Induced Damage in Plasma Enhanced Atomic Layer Etching Processing2022
- 著者名/発表者名
  Takayoshi TSUTSUMI, Hiroki KONDO, Kenji ISHIKAWA, Makoto SEKINE, Masaru HORI
- 学会等名
  第32回日本MRS年次大会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] C4F8/SF6ガス変調サイクルにおいてバイアス印加位相がエッチング形状に及ぼす影響2022
- 著者名/発表者名
  吉江泰斗、堤隆嘉、石川健治、近藤博基、関根誠、堀勝
- 学会等名
  第69回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] 窒化ガリウムの基板昇温時サイクルエッチング特性2022
- 著者名/発表者名
  南吏玖、中村昭平、谷出敦、石川健治、堤隆嘉、近藤博基、関根誠、堀勝
- 学会等名
  第69回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Time-resolved measurement of ion energy distribution in pulsed Ar/SF6 plasma2022
- 著者名/発表者名
  Kazuki TOJI, Kenji ISHIKAWA, Takayoshi TSUTSUMI, Shih nan HSIAO, Makoto SEKINE, Masaru HORI
- 学会等名
  32nd Anuual Meeting on Material Researh Society of Japan (MRS-J)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Isotropic Plasma-enhanced Atomic Layer Etching of SiO2 using F radicals and Ar plasma2022
- 著者名/発表者名
  A. Osonio, T. Tsutsumi, B. Mukherjee, R. Borude, N. Kobayashi, and M. Hori
- 学会等名
  The 43rd International Symposium on Dry Process
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Nanoscale Dry Processes for Controlling Atomic Layer Reactions and Fabrication of High-Aspect-Ratio Features2022
- 著者名/発表者名
  Kenji Ishikawa, Thi-Thuy-Nga Nguye, Takayoshi Tsutsumi, S-N Hsaio, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  Korean International Semiconductor Conference on Manufacturing Technology 2022 (KISM 2022)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Deposition mechanism of hydrogenated amorphous carbon film by C3H6/H2 mixture gas plasma2022
- 著者名/発表者名
  Hiroki Kondo, Jumpei Kurokawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
- 学会等名
  11th ICRP/ 2022 GEC/ 40th SPP-40/ 35th SPSM35
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Synthesis, Functionalization, and Three-Dimensional Structuring of Carbon Nanomaterials By Gas-Liquid Interface Plasma2022
- 著者名/発表者名
  H. Kondo, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, M. Sekine, and M. Hori
- 学会等名
  242nd ECS Meeting
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Interfacial reaction of gas-liquid plasma in the synthesis of functional carbon nanomaterials2022
- 著者名/発表者名
  Hiroki Kondo, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
- 学会等名
  5th International Union of Material Research Societies, International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM 2022)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Nanostructure Control and Modification of Poly(styrene-b-2-vinylpyridine) Block Copolymer in H2/N2 Plasma Process2022
- 著者名/発表者名
  Ma. shanlene Dela Cruz DELA VEGA, Ayane KITAHARA, Thi-thuy-nga NGUYEN, Takayoshi TSUTSUMI, Atsushi TAKANO, Yushu MATSUSHITA, Masaru HORI
- 学会等名
  5th International Union of Material Research Societies, International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM 2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Highly efficient exosome capture by carbon nanowalls template2022
- 著者名/発表者名
  Takumi Hashimoto, Hiroki Kondo, Hiromasa Tanaka, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Takao Yasui, Yoshinobu Baba, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori
- 学会等名
  11th ICRP/ 2022 GEC/ 40th SPP-40/ 35th SPSM35
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] In situ monitoring hydrogen fluoride molecular density and its effects on etch selectivity of SiN over SiO2 films with hydrogen-contained fluorocarbon down-flow plasmas2022
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Nicolay Britun, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Area-Selective Atomic Layer Etching of SiO2 Using Silane Coupling Agent2022
- 著者名/発表者名
  A. Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Nagoya B. Mukherjee, R. Borude, N. Kobayashi, M. Hori
- 学会等名
  22nd Atomic layer deposition and 9th atomic layer etching workshop (ALD/ALE Workshop)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Plasma diagnostics and characteristics of hydrofluorocarbon films in capacitively coupled CF4/H2 plasmas2022
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Yusuke Imai, Nicolay Britun, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori
- 学会等名
  International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Transient Behaviors of Gaseous and Surface Reactions in a Cycle of Passivation and Etch Steps Using Ar-Based C4F8 and SF6 Plasma2022
- 著者名/発表者名
  Kenji Ishikawa, Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  2022 MRS Spring Meeting & Exhibit
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Machine learning and contribution analysis of radicals to the properties of hydrogenated amorphous carbon films grown by a plasma-enhanced chemical vapor deposition2022
- 著者名/発表者名
  Hiroki Kondo, Jumpei Kurokawa, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Topographically-selective atomic layer etching of SiO2 using fluorine-containing plasma2022
- 著者名/発表者名
  Airah Osonio, Takayoshi Tsutsumi, Bablu Mukherjee, Ranjit Borude, Nobuyoshi Kobayashi, and Masaru Hori
- 学会等名
  11th International Conference on Reactive Plasmas/2022 Gaseous Electronics Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Achieving selective etching of SiN and SiO2 over amorphous carbon during CF4/H2 by controlling substrate temperature2022
- 著者名/発表者名
  Shih-Nan Hsiao, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  11th ICRP/ 2022 GEC/ 40th SPP-40/ 35th SPSM35
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] 原子層エッチングの反応素過程とその設計、制御2021
- 著者名/発表者名
  石川健治, Nguyen Thi-Thuy-Nga, 堤隆嘉, 蕭世男, 近藤博基, 関根誠, 堀勝
- 学会等名
  第82回秋季応用物理学会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Initial growth kinetics of hydrogenated amorphous carbon films observed by real-time ellipsometry2021
- 著者名/発表者名
  Jumpei Kurokawa, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi,Makoto Sekine and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2021/IC-PLANTS2021
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] C3H6 / H2プラズマを用いたアモルファスカーボン成膜において水素ガス流量比が膜特性に与える影響2021
- 著者名/発表者名
  黒川純平, 光成正, 堤隆嘉, 近藤博基, 関根誠, 石川健治, 堀勝
- 学会等名
  第82回秋季応用物理学会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] 塩素吸着による窒化ガリウム原子層エッチングの表面反応の理想と現実2021
- 著者名/発表者名
  堤隆嘉, 長谷川将希, 中村昭平, 谷出敦，近藤博基, 関根誠, 石川健治, 堀勝
- 学会等名
  第227回　シリコンテクノロジー分科会　研究集会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Optical transmission of carbon nanowalls from ultra-violet region to infra-red region2021
- 著者名/発表者名
  Shintaro Iba, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Takayoshi Tsutsumi, Makoto Sekine, Mineo Hiramatsu, and Masaru Hori
- 学会等名
  Material Research Meeting (MRM 2020)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Ar/C4F8/SF6を用いたガス変調サイクルプロセスにおける活性種の挙動2021
- 著者名/発表者名
  吉江泰斗, 堤隆嘉, 石川健治, 堀勝
- 学会等名
  第82回秋季応用物理学会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Control of Interface Layers for Selective Atomic Layer Etching2021
- 著者名/発表者名
  Takayoshi Tsutsumi, R. Vervuurt, N. Kobayashi, and Masaru Hori
- 学会等名
  67th AVS International Symposium and Exhibition
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Random forest model for property control of plasma deposited hydrogenated amorphous carbon films2021
- 著者名/発表者名
  Junpei Kurokawa, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  42nd International Symposium on Dry Process (DPS)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] リモート酸素ラジカルによるグラフェンのエッチング反応の分析2021
- 著者名/発表者名
  胡留剛、堤隆嘉、蕭世男、近藤博基、石川健治、関根誠、堀勝
- 学会等名
  2021年第68回応用理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] 窒化ガリウムのプラズマエッチング中その場分光エリプソメトリー観測2021
- 著者名/発表者名
  南吏玖, 石川健治, 堤隆嘉, 近藤博基, 関根誠, 小田修, 堀勝
- 学会等名
  第82回秋季応用物理学会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] Quantitative analyses of graphene layer etching using oxygen radicals generated in remote plasma for realization of atomic layer etching2021
- 著者名/発表者名
  Liugang Hu, Takayoshi Tsutsumi, Thi-Thuy-Nga Nguyen, Shih-Nan Hsiao, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  ISPlasma2021/IC-PLANTS2021
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Random forest model for property control of plasma2021
- 著者名/発表者名
  J. Kurokawa, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori
- 学会等名
  The 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] 窒化ガリウムのプラズマエッチング中その場分光エリプソメトリー観測2021
- 著者名/発表者名
  南吏玖、石川健治、堤隆嘉、近藤博基、関根誠、小田修、堀勝
- 学会等名
  第82回　応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Behavior of Hydrogen Atom in Atmospheric Pressure Micro-Hollow Cathode Discharge2021
- 著者名/発表者名
  Keigo Takeda, Takayoshi Tsutsumi, Mineo Hiramatsu, Masaru Hori
- 学会等名
  12th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Transient effects in cyclic processes on fabrications of high-aspect-ratio trenches2021
- 著者名/発表者名
  Taito Yoshie, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
- 学会等名
  42nd International Symposium on Dry Process (DPS)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01073
[学会発表] 塩素吸着を用いた窒化ガリウムの原子層エッチングプロセス特性のArイオンエネルギー依存性2021
- 著者名/発表者名
  堤隆嘉、長谷川将希、中村昭平、谷出敦、近藤博基、関根誠、石川健治、堀勝
- 学会等名
  2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] 塩素吸着を用いた窒化ガリウムの原子層エッチングプロセス特性のArイオンエネルギー依存性2020
- 著者名/発表者名
  堤隆嘉、長谷川将希、中村昭平、谷出敦、近藤博基、関根誠、石川健治、堀勝
- 学会等名
  2021年第68回応物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Analysis of Ion Energy Dependence of Depth Profile of GaN by In-situ Surface Analysis2020
- 著者名/発表者名
  Masaki Hasagawa, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide, Shohei Nakamura, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
- 学会等名
  20th International Conference on Atomic Layer Deposition
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Analysis of Ion Energy Dependence of Depth Profile of GaN by In-situ Surface Analysis2020
- 著者名/発表者名
  Masaki Hasagawa, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide, Shohei Nakamura, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
- 学会等名
  20th International Conference on Atomic Layer Deposition
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K14453
[学会発表] Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着層のイオンエネルギー依存性2020
- 著者名/発表者名
  長谷川将希, 堤隆嘉, 谷出敦, 近藤博基, 関根誠, 石川健治, 堀勝
- 学会等名
  第67回応用物理学関係連合講演会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] プラズマ支援原子層プロセスにおける表界面反応層制御・診断2019
- 著者名/発表者名
  堤隆嘉, 近藤博基, 石川健治, 関根誠, 堀勝
- 学会等名
  第４回 Atomic Layer Process (ALP) Workshop
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] In-situ analysis of GaN surfaces irradiated by a Cl2 plasma for atomic layer etching2019
- 著者名/発表者名
  M. Hasegawa, K. Ishikawa, T. Tsutsumi, M. Sekine, H. Kondo, A. Tanide, M. Hori
- 学会等名
  16th Akasaki Research Center Symposium
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] In-situ surface analysis of Ga dangling sites and chlorination layers for determining atomic layer etching properties of GaN2019
- 著者名/発表者名
  Masaki Hasegawa, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, and Masaru Hori
- 学会等名
  12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Arイオン照射窒化ガリウム表面の塩素吸着層のイオンエネルギー依存性2019
- 著者名/発表者名
  長谷川将希, 堤隆嘉, 近藤博基, 関根誠, 石川健治, 堀勝
- 学会等名
  第80回応用物理学会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Precisely wafer-temperature-controlled plasma etching and its application for nano-scale pattern fabrication of organic material2019
- 著者名/発表者名
  Makoto Sekine, Yusuke Fukunaga, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Masaru Hori
- 学会等名
  24th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC24)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Chlorinated surface layer of GaN in quasi atomic layer etching of cyclic processes of chlorine adsorption and ion irradiation2019
- 著者名/発表者名
  Masaki Hasegawa, Takayoshi Tsutsumi, Atsushi Tanide, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Kenji Ishikawa, and Masaru Hori
- 学会等名
  AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019)/6th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] In situ analysis of ion-irradiated and chlorinated GaN surface during cyclic etching processes2018
- 著者名/発表者名
  M. Hasegawa, T. Tsutsumi, A. Tanide, H. Kondo, M. Sekine, K. Ishikawa, M. Hori
- 学会等名
  Dry Process Symposium
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Novel Epitaxial Growth Methods for Nitride Materials with Using Plasma Technology2018
- 著者名/発表者名
  Osamu Oda, Frank Wilson Amalraj, Naohiro Shimizu, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Yuri Tsutsumi, Kenji Ishikawa, H. Kano, Nobuyuki Ikarashi and Masaru Hori
- 学会等名
  Energy Materials Nanotechnology
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] In situ Quantitative Analysis of Chlorine Adsorption on Ion-irradiated GaN for Atomic Layer Etching2018
- 著者名/発表者名
  Masaki Hasegawa, Takayoshi Tsutsumi, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
- 学会等名
  5th ALE Workshop
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890
[学会発表] Novel Epitaxial Growth Methods for Nitride Materials with Using Plasma Technology2018
- 著者名/発表者名
  Osamu Oda, Frank Wilson Amalraj, Naohiro Shimizu, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, Yuri Tsutsumi, Kenji Ishikawa, H. Kano, Nobuyuki Ikarashi and Masaru Hori
- 学会等名
  International Meeting on Information Display
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01890

1. 近藤博基 (50345930)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 13件
2. 関根誠 (80437087)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 44件
3. 小田修 (30588695)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
4. 石川健治 (60417384)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 49件

堤 隆嘉 TSUTSUMI Takayoshi

研究課題

研究成果

共同研究者

グリーンプラズマエッチングに向けた高アスペクト比孔内の活性種輸送特性の実験的解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

低温プラズマ加工の理論-計算-計測の連携環境構築による一原子一分子制御工学の創成

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

原子層エッチングにおけるプラズマ誘起欠陥生成機構の解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

高移動度InNチャネルに向けた高密度ラジカル照射下における初期成長機構の解明

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

[雑誌論文] <i>In situ</i> atom-resolved observation of Si (111) 7×7 surface with F radical and Ar ion irradiation simulated atomic layer etching2024

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Bias-supply timing tailored to the aspect ratio dependence of silicon trench etching in Ar plasma with alternately injected C4F8 and SF62023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Manipulation of etch selectivity of silicon nitride over silicon dioxide to a-carbon by controlling substrate temperature with a CF4/H2 plasma2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Study of optical emission spectroscopy using modified Boltzmann plot in dual-frequency synchronized pulsed capacitively coupled discharges with DC bias at low-pressure in Ar/O2/C4F8 plasma etching process2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Area-selective plasma-enhanced atomic layer etching (PE-ALE) of silicon dioxide using a silane coupling agent2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Low‐temperature reduction of SnO 2 by floating wire‐assisted medium‐pressure H2/Ar plasma2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Effects of deposition precursors of hydrogenated amorphous carbon films on the plasma etching resistance based on mass spectrometer measurements and machine learning analysis2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Nitrogen Atom Density Measurements in NAGDIS-T Using Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Reaction Mechanism and Selectivity Control of Si Compound ALE Based on Plasma Modification and F-Radical Exposure2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] 窒化物半導体プラズマエッチングにおける原子層反応制御と低ダメージプロセス2021

著者名/発表者名

雑誌名

堤隆嘉 TSUTSUMI Takayoshi